国際特許分類[C07D497/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 縮合系中に異項原子として酸素および硫黄原子のみをもつ少なくても1個の複素環を含有する複素環式化合物 (28)
国際特許分類[C07D497/00]の下位に属する分類
縮合系が2個の複素環を含有するもの (12)
縮合系が3個の複素環を含有するもの (11)
縮合系が4個以上の複素環を含有するもの (3)
国際特許分類[C07D497/00]に分類される特許
1 - 2 / 2
化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物[式中、R1、R3はそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基であり、Aは2価の連結基であり、R2、R4はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式(1−an1)、(1−an2)又は(1−an3)で表される基である。n0は0又は1である。Y1は単結合又は−SO2−であり、R5はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜10の1価の炭化水素基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜20の環状の部分構造を有する1価の炭化水素基である。M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
(もっと読む)
縮環ポリチオフェン−S,S−ジオキシド及びその製造方法
【課題】 高い電子受容能を持つと共に高平面性のπ共役骨格を持つ縮環ポリチオフェン−S,S−ジオキシドを提供する。
【解決手段】 本発明の縮環ポリチオフェン−S,S−ジオキシドは、式(1a)又は(1b)で表される縮環ポリチオフェンに含まれる少なくとも1つの硫黄がジオキシドに酸化されているものである。ここで、式(1a)及び式(1b)において、Rは水素、トリアルキルシリル基、炭素数1〜18のアルキル基,炭素数1〜18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基などから選ばれた1種であり、nは整数である。
(もっと読む)
1 - 2 / 2
[ Back to top ]