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国際特許分類[C07F9/6593]の内容

国際特許分類[C07F9/6593]に分類される特許

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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】脱離基を有するフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とエテニル化合物との炭素炭素結合形成反応工程を含む下記の式(1)で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは少なくとも一つが式(2)で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のAがアリールオキシ基である。
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【課題】高温信頼性及び機械的特性を損なわずに樹脂成形体の難燃性及び誘電特性を高める環状ホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】式(1)で表される、シアナト基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。


(式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは少なくとも一つが式(3)で示されるフェニルオキシ基で、他がアリールオキシ基。)


(式(3)中、qは1〜50の整数を示し、E〜Eは、水素原子、アルキル基等) (もっと読む)


【課題】高温信頼性及び機械的特性を損なわずに樹脂成形体の難燃性及び誘電特性を高める環状ホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】式(1)のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。


式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは少なくとも一つがグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基であり、他が炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、アリールオキシ基である。 (もっと読む)


【課題】電気特性および高温信頼性を損なわずに樹脂成形体の難燃性を高める環状ホスファゼン化合物の提供。
【解決手段】式(1)の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。


式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは少なくとも一つが不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基で、他がアリールオキシ基。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性を有する硬化性環状ホスファゼン系化合物およびこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】6つの置換位置を持っている環状ホスファゼン物質に2〜6つの硬化性反応基を導入し、残りの位置に様々な構造の置換基を導入する方法で硬化度や分子の分極化および自由体積などを調節することにより、低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性および界面接着力を有する物質を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】難燃性、難燃剤成分のブリードアウト防止、及び耐めっき浴汚染性の全てを備えた感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】ビニルフェニル基を有するリン元素含有難燃剤、樹脂、及び光重合開始剤を含有する感光性組成物である。樹脂が、ウレタン構造を有する樹脂であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】難燃性、難燃剤成分のブリードアウト防止、及び耐折性の全てを備えた感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いた感光性フィルムなどの提供。
【解決手段】難燃剤、ウレタン構造を有する樹脂、及び光重合開始剤を含有し、前記難燃剤が、シクロトリホスファゼン化合物、芳香族系ホスホナート化合物、及び下記一般式(A)で表される化合物の少なくともいずれかであって、アミド基、ウレア基、及びウレタン基の少なくとも1種の水素結合性基を有する感光性組成物。


(一般式(A)中、R〜R13の少なくともいずれかは、アミド基、ウレア基、及びウレタン基の少なくともいずれかを有する1価の有機基である。mは、0又は1を表す。) (もっと読む)


【課題】配合成分の種類が少なく、十分な難燃性及びイオン伝導度を有する電解質、及び該電解質を用いたリチウムイオン二次電池の提供。
【解決手段】(A)一般式(1)で表されるホスファゼン化合物、及び(B)ホウ素化合物が配合され、リチウム塩として前記ホスファゼン化合物のみが配合されてなる電解質(Xはそれぞれ一般式(10A)又は(10B)で表される基であり。ただし、(10A)及び(10B)で表される基は共存しない。);電解質膜;リチウムイオン二次電池。
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【課題】アミノホスファゼンの工業的精製方法が望まれていた。
【解決手段】本発明に係るアミノホスファゼンの精製方法は、粗製アミノホスファゼンに水およびアルコールを混合して、粗製アミノホスファゼン中のアミノホスファゼンを沈殿させるアミノホスファゼンの精製方法であって、多孔性物質または吸着性物質を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フルオロホスファゼンの安価で効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】メチルモノグライム、エチルモノグライム、プロピルモノグライム、ブチルモノグライム、メチルジグライム、エチルジグライム、プロピルジグライム、ブチルジグライム、メチルトリグライム、エチルトリグライム、メチルテトラグライムからなる群から選ばれる少なくとも1つのグライム類及び塩化合物の共存下、ヒドロキシル基を少なくとも1つ有する化合物と下記一般式[1]で表されるペルフルオロシクロポリホスファゼンとを反応させ、下記一般式[2]で表されるフルオロホスファゼン誘導体を得ることを特徴とするフルオロホスファゼン誘導体の製造方法。
(PNF [1]
(式中、nは3〜14を表す。)
(PNR [2]
(式中、Rはそれぞれ互いに独立して、フッ素原子又はアルコキシ基であって、全Rの内少なくとも1つはアルコキシ基であり、nは3〜14である。) (もっと読む)


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