【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

本発明は、α-メチルスチレンモノマーのアニオン重合によるポリ(α-メチルスチレン)の製造方法であって、該方法が、逐次的に次の段階：ａ）α-メチルスチレンモノマーと無極性の非プロトン性溶媒を含有する溶液の調製段階；ｂ）ａ）で調製された溶液のプロトン源を中和するために、有効量の少なくとも一の一官能性有機金属開始剤をこの溶液に添加することを含む、ａ）で調製された溶液の中和段階；ｃ）ｂ）で得られた溶液を、０℃未満の温度まで冷却する段階；ｄ）ｃ）で得られた冷却溶液に、所定量の該一官能性開始剤を添加することを含む重合開始段階；ｅ）ｄ）で得られた溶液に、無極性の非プロトン性溶媒よりも少ない量の極性の非プロトン性溶媒を添加することを含む重合生長段階；ｆ）ｅ）で調製された溶液に、極性のプロトン性溶媒を添加することを含む停止段階；を含む方法に関する。 （もっと読む）