国際特許分類［C08F116/38］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ１つの炭素―炭素二重結合を含有する１個以上の不飽和脂肪族基をもち，その少なくとも１つがアルコール，エーテル，アルデヒド，ケトン，アセタールまたはケタール基によって停止されている化合物の単独重合体 (18) | アセタールまたはケタール基によるもの (1)
国際特許分類［C08F116/38］に分類される特許
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含フッ素１，３−ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素１，３−ジオキソラン化合物、含フッ素１，３−ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料
【課題】含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）で表される含フッ素化合物。式（４）中、Ｒff1及びＲff2は各々独立に、フッ素原子又は炭素数１〜７のパーフルオロアルキル基を表す。ｎは、１〜４の整数を表す。
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