【課題】透明性が高く、臭気が少ないアクリル系成形体及びその原料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が３重量％以下である組成物。式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ^２は同一の基である。
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【課題】単量体濃度を高くしても、凝集物や反応器缶壁へのスケールの付着といった生産上の問題を引き起こすことがなく、満足すべき特性を有するディップ成形用ラテックスを得ることができるディップ成形用ラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン単量体、エチレン性不飽和ニトリル単量体、エチレン性不飽和酸単量体及びこれらと共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体からなる特定組成の単量体を共重合するディップ成形用ラテックスの製造方法であって、（１）使用する全単量体の特定割合からなる単量体であって重合に使用するエチレン性不飽和酸単量体全量の特定割合を含有する初期重合単量体を用いて第一段階の重合を開始し、（２）前記初期重合単量体の重合転化率が特定範囲にあるときに、特定量の追加乳化剤を重合系に添加し、（３）前記乳化剤添加終了後、残余の単量体を重合系に逐次添加して第二段階の重合を行なう。 （もっと読む）

【課題】被処理物を異なる寸法のものに変更する際、反応ガスノズルの交換作業を省略する。
【解決手段】被処理物９を、表面処理装置１の支持部１０の円筒ロール１１，１２によって支持する。反応ガスノズル２０と円筒ロール１１の周面（支持面）との間の処理空間９０に、反応ガスノズル２０の吹出し口２９から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出す。反応ガスノズル２０の端部分の好ましくは側部に希薄化ノズル３０を設ける。希薄化ノズル３０を排気手段３又は希釈ガスの供給手段４に接続する。被処理物９の処理幅方向の幅寸法に応じて希薄化ノズル３０を操作し、処理空間９０における端側空間部９２の反応ガスを中央空間部９１より希薄にする。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、黄色の着色が抑制されているアクリル系成形体及びその原料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含み、下記式（２）で表される化合物の含有量が７．５重量％以下である組成物。式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ここで、式（１）及び（２）の全てのＲ^２は同一の基である。
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【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アクリル系モノマーと重合開始剤とを含有するモノマー組成物を、マイクロチャネルから連続相に吐出し、それにより連続相中にモノマー組成物の液滴を形成させ、その後、その液滴を加熱してアクリル系モノマーをラジカル重合させることによりアクリル系ポリマー粒子を製造する際に、モノマー組成物の配合処方の内容を変えることなく、アクリル系ポリマー粒子の機械的特性のレベルを調整できるようにする。
【解決手段】モノマー組成物の液滴の加熱をマイクロ波照射により行い、その際の液滴の加熱温度Ｔを、ラジカル重合開始剤の分解温度Ｔ１と、アクリル系ポリマー粒子の所期の機械的特性が得られる加熱温度Ｔ２との間に設定する。 （もっと読む）

【課題】分子量が小さなポリマーやオリゴマーの混入が極めて低いフォトレジスト用樹脂を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、Ｔ₁（℃）に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の１５重量％以上、１００重量％以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記Ｔ₂（℃）まで降温する工程を有することを特徴とする。
Ｔ₂（℃）：（Ｔ₁−５０）（℃）以上、（Ｔ₁−５）（℃）以下 （もっと読む）

【課題】 ５００量体より大きな高分子量のポリアセチレンを分子量制御して高収率で得ることができるポリアセチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】 モノマー溶液と触媒溶液を混合してポリアセチレンを製造する方法であって、触媒溶液とモノマー溶液を、前記触媒溶液と前記モノマー溶液の界面で接触させて混合溶液を得る工程を有し、かつ前記触媒溶液と前記モノマー溶液が接触した界面におけるモノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）が、触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）よりも大きいポリアセチレンの製造方法。（１）モノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）とは、触媒溶液と接触するモノマー溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を表す。（２）触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）とは、モノマー溶液と接触する触媒溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を指す。 （もっと読む）

【課題】パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）重合開始剤および（Ｃ）溶剤を含有する硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を１種類調整し、該液（Ｄ）をフィルターに通過させ、その後に、溶剤（Ｃ）を加えるか、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を２種類以上調整し、それぞれの液（Ｄ）をフィルターに通過させた後互いに混合したものに、溶剤（Ｃ）を加えることを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】再生可能な吸着剤を用いて、重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物から重合抑制剤を除去する方法を提供すること。
【解決手段】下記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有する組成物を細孔径が１Å以上４Å以下であるゼオライトに接触させて、当該組成物から成分（Ｂ）を除去する方法。
（Ａ）重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物を含有し、
分子量が２０以上１００以下である有機化合物。
（Ｂ）下記式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒは炭素原子数１〜６のヒドロカルビル基又は炭素原子数１〜６のヒドロカルビルオキシ基を表し、ｍは１又は２を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）