【課題】ニッケル錯体自身の持つ優れた紫外線吸収能や高耐光性の長所に加えて、可視光域の吸光強度が大幅に低減された、高度な可視光透過率を有する低着色の紫外線吸収部材を提供する
【解決手段】式（１）：


で表される少なくとも１種類のニッケル錯体に、側鎖にアミド基を有する高分子化合物が配位した構造を有する高分子錯体。 （もっと読む）

【課題】離型力が小さく、発泡による欠陥が少なく、かつ生産性に優れた膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜（被形状転写層１）を形成する工程と、前記塗布膜にモールド３を接触させる工程と、モールド３を介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜からモールド３を離し、基板２上に所定のパターン形状を有する膜（硬化膜１１）を形成する工程と、を含み、前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料２が提供される。このような被膜形成材料２を基板１上に形成し、モールド３を押し当て、モールド３の反転パターン３ｂを転写した被膜２ａを形成し、モールド３を被膜２ａから引き離す（離型）。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料２を用いることで、離型の際、モールド３への被膜２ａの付着が抑制される。 （もっと読む）

【課題】ビニル系単量体を重合する重合装置に関し、混合タンクから重合釜の間に設けられた供給管内で、重合体が生成したり、重合開始剤が析出したりせず、安定して重合体を製造できることを目的とする。
【解決手段】ビニル系単量体と重合開始剤とを混合して混合液を調製する混合タンクと、
混合液を加熱してビニル系単量体の重合を行う重合釜と、混合タンクの混合液を重合釜に供給する、混合タンクから重合釜の間に設けられた供給管と、混合タンクから重合釜の間に設けられた供給管内の混合液の温度を調節する調温手段とを具備する重合装置であって、前記供給管が混合液供給管と流水管からなる二重管構造を有し、前記流水管の端面が重合釜の内側に位置する混合液供給管の出口で封止されている重合装置。 （もっと読む）

【課題】短い立ち上がり時間（電界が印加されたとき）及び短い立下り時間（電界が取り除かれたときに初期の電界オフ状態に緩和されるための時間）を可能にするように配列されてなる、液晶デバイスを提供する。
【解決手段】第一基板１０と、第二基板１１と、第一基板及び第二基板にはさまれた液晶層１２であって、ネマスチック液晶材料及びポリマーネットワークを含む液晶層とを含む。ポリマーネットワークは、第一基板に係留され、かつ第一基板と平行な線に沿うネマチック液晶材料のスプレイ変形及びベンド変形を交互に誘導するように配列される。 （もっと読む）

【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。（Ａ）成分：特定の式で表されるビフェニル（メタ）アクリレート。（Ｂ）成分：下記式（２）で表されるフルオレン（メタ）アクリレート及び／又は特定の式で表されるビスフェノール（メタ）アクリレート。


（式中、Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、Ａ^１及びＡ^２は互いに独立して炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、ｍ及びｎは互いに独立して０乃至３の整数を表す。）（Ｃ）成分：光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】イオン交換膜充電用組成物、イオン交換膜の製造方法、イオン交換膜及びレドックスフロー電池を提供する。
【解決手段】イオン伝導性物質及び水溶性支持体を含むイオン交換膜充電用組成物。前記イオン伝導性物質は、イオン伝導性モノマー及びイオン伝導性ポリマーからなる群から選択された少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。また、前記水溶性支持体は、水溶性モノマー及び水溶性ポリマーからなる群から選択された少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ難燃性に優れる透明積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】１分子あたりの水酸基数が２〜３であり、水酸基価が１８．５〜８４．２ｍｇＫＯＨ／ｇであり、分子中にリン原子を有しないポリオール（Ａ１）と、ポリイソシアネート化合物（Ａ２）と、下記硬化性官能基と水酸基とを有し、リン原子を含有する不飽和ヒドロキシ化合物（Ａ３）との反応生成物であって、硬化性官能基を１分子あたり平均２〜４個有し、リン原子含有量が０．１〜５質量％である不飽和ウレタンオリゴマー（Ａ）を含む硬化性樹脂組成物１４を、一対の透明基板１０、１６の間に挟持させ、硬化させて透明積層体を得る。硬化性官能基：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基（ただし、Ｒは水素原子またはメチル基である）。 （もっと読む）

【課題】
空気中で紫外線照射した場合であっても表面特性に優れた塗膜を形成する事ができ、また、硬化性組成物を塗工した基材を一端保管した後に紫外線照射した場合であっても、表面特性に優れた塗膜を形成する事ができる硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、含フッ素（α置換）アクリル化合物を含む硬化性組成物を硬化する方法であり、(iv）該組成物の温度を５０℃以上としてから紫外線を照射して該組成物を硬化する工程を含む方法である。さらに本発明は、該方法が、前記工程（iv）の前に、（i）基材に該組成物を塗工する工程を含む方法、更には、前記工程（i）の後、工程（iv）の前に、（ii）該組成物を乾燥する工程、及び（iii）該組成物の温度を５０℃未満とする工程を含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高吸収体のためのラジカル架橋剤として使用することができる物質のための製造法を単純化する。
【解決手段】多価アルコールＡとエチレン性不飽和カルボン酸Ｂとをエステル化触媒Ｃ及び重合抑制剤Ｄ並びに場合により水と共沸混合物を形成する溶剤Ｅの存在でエステルＦの形成下に反応させ、場合により、生じた水の少なくとも一部を反応混合物から除去し、場合により、反応混合物を中和させ、溶剤Ｅを蒸留により除去し、かつ／又は反応条件下で不活性であるガスでストリッピングし、上記の工程の１つからの反応混合物と場合により付加的なモノエチレン性不飽和化合物Ｎと並びに場合により共重合可能な親水性モノマーＭとを、ラジカル開始剤Ｋ及び場合によりグラフト基体Ｌの存在で重合させ、場合により、得られた反応混合物を後架橋、乾燥、粉砕及び／又は篩別する、架橋されたヒドロゲルの製造法。 （もっと読む）