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国際特許分類[C08F2/46]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 重合方法 (7,022) | 波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合 (1,319)

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【課題】コーター又は印刷ユニット間にインキ硬化設備を装着することなく印刷物に光沢差をつけることができ、簡便な工程で意匠性の高い印刷物が製造可能な活性光線硬化型ワニス組成物を提供する。
【解決手段】下記成分(A)〜(C)を含有する活性光線硬化型ワニス組成物。
(A)アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、及びアクリル系モノマー又はメタクリル系モノマーに溶解する樹脂から選択される1以上の樹脂
(B)アクリル系モノマー及び/又はメタクリル系モノマー
(C)下記(1)及び(2)を満たすポリアルファオレフィン樹脂
(1)融点(Tm)が30〜100℃
(2)広角X線散乱強度分布の15deg<2θ<30degに、側鎖結晶化に由来する、単一のピークが観測される (もっと読む)


【課題】 上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがないこと、レジスト下層膜の感度調節が可能なこと、及びフォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 下記式(1):
【化1】


(ただし、Qは2〜6価の有機基であり、Rは単結合又は2価の連結基を示し、n1は1〜6の整数であり、n2は2〜6の整数である。)で示される架橋剤を含む感光性レジスト下層膜形成組成物。Qがベンゼン環、シクロヘキサン環、又はトリアジントリオン環である。アルカリ可溶性樹脂(A)、式(1)に記載の架橋剤(B)、光酸発生剤(C)、及び溶剤(D)を含む。アルカリ可溶性樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、カルボン酸エステル基、又はそれらの組み合わせを有する。 (もっと読む)


【課題】感光性、アルカリ現像性、密着性、製版性を有するために、カラーフィルターや液晶パネル等の製造において好適に使用することができる感光性樹脂組成物に好適に用いられるアルカリ可溶性樹脂を製造する方法において、非プロトン系溶媒を用いて分子量制御を容易に行うことができる製造方法を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル系単量体とN−ビニル環状ラクタム化合物とを含む単量体成分を重合してN−ビニル環状ラクタム重合体を製造する方法であって、該製造方法は、非プロトン系溶媒中で、連鎖移動剤及び水酸基含有化合物の共存下に単量体成分を重合する工程を含むことを特徴とするN−ビニル環状ラクタム重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(a)表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(c)回路パターンの露光工程、(d)現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】効率的、経済的な高純度イオン性ビニルモノマーの製造法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが8〜16(cal/cm3)0.5である有機溶媒中で4級カチオン性ビニルモノマーとチオシアン酸塩をイオン交換反応後、副生成塩を沈殿、分離し、薄膜蒸発処理で有機溶媒を回収することにより、一般式(1)(式中、Rは水素原子またはメチル基を、R及びRは各々独立に炭素数1〜3のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、Rは炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルケニル基またはベンジル基を表し、Yは酸素原子または−NH−を表し、Zは炭素数1〜3のアルキレン基を表す。)で示されるイオン性ビニルモノマーを合成することができる。
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【課題】 高い寸法安定性と十分な機械強度を有し、しかも優れた低誘電率の達成が可能なポリイミド多孔質体を形成できるポリイミド前駆体及びその組成物、及びそれを用いたポリイミド多孔質体を提供する。
【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物とジアミンが縮合重合してなるポリイミド前駆体分子鎖中に、熱分解温度が350℃以下の有機ポリマー基が導入されている。該有機ポリマー基は、ウレタン結合又はウレア結合を介して、前記ポリイミド前駆体分子鎖中に導入されていることが好ましく、さらにポリアルキレングリコールの反応残基であることが好ましい。また、前記有機ポリマー基は、前記ジアミン又はテトラカルボン酸二無水物とウレタン結合又はウレア結合している連結基に結合していてもよい。 (もっと読む)


【課題】水を含む層と水を含まない層とを積層させることにより得られ、水による積層した層同士の接着阻害が生じない含水物質含有ポリマー部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の含水物質含有ポリマー部材の製造方法は、重合性モノマーを吸収可能なモノマー吸収性シートのモノマー吸収面上に、重合性モノマーを含むモノマー混合物又はその部分重合物、水、さらに水溶性物質及び水分散性物質からなる群より選ばれた少なくとも1つの物質を含有する水含有重合性組成物層を積層してから、重合に付して、水と、水溶性物質及び水分散性物質からなる群より選ばれた少なくとも1つの物質とからなる含水物質が、モノマー吸収面と水含有重合性組成物層との界面とは反対側の界面又は該界面近傍に分布している構造を有するポリマー部材を得ることを特徴とする。 (もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陽イオン基とを含む硬化性イオン化合物12〜65重量%と、(iii)溶媒10〜70重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%と、(v)リチウム塩及び/又はカルシウム塩とを含む硬化性組成物である。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陽イオン基とを含む硬化性イオン化合物12〜65重量%と、(iii)溶媒15〜70重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%と、(v)非硬化性塩2〜50重量%とを含む硬化性組成物であって、該組成物は1〜12のpHを有する。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


【課題】優れた硬化性を有する、磁気記録媒体用途に好適な放射線硬化性塩化ビニル系共重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造単位を含むことを特徴とする放射線硬化性塩化ビニル系共重合体。


[一般式(1)中、R1は水素原子またはメチル基を表し、L1はエチレン基、−CH2CH2OCH2CH2−基、-C(CH3)(CH2OCOCR=CH2)ーCH2−基から選択される二価の連結基を表す。] (もっと読む)


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