【課題】パターン形状に優れるレジストパターンを形成でき、パターン倒れ耐性を向上させ、ブロッブ欠陥及びブリッジ欠陥の発生を低減できる液浸用上層膜形成組成物の提供。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体中にカルボキシル基を含む構造単位（Ｉ）、スルホ基を含む構造単位（ＩＩ）、α−トリフルオロメチルアルコール基を含む構造単位（ＩＩＩ）、スルホンアミド基を含む構造単位（ＩＶ）及び下記式（ｉ）で表される基を含む構造単位（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも１種を有する重合体成分を含有する液浸用上層膜形成組成物であって、この液浸用上層膜形成組成物が［Ａ］重合体成分の同一又は異なる重合体中に、芳香族含窒素複素環を含む構造単位（Ａ）をさらに有するか又は［Ｂ］芳香族含窒素複素環を有する化合物をさらに含有するかの少なくともいずれか一方であることを特徴とする。
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【課題】フィルム表面が扁平で、厚さが一定である薄型のアクリルフィルムをキャスティングする方法およびガスケットを提供する。
【解決手段】１対の基板と１対の基板の間に配置されるガスケットから形成される空間部にアクリルフィルムの材料を注入し硬化させるステップを含むアクリルフィルムのキャスティング方法であって、硬化ステップを経た後のガスケットの収縮率が１０％以上であるか、硬化ステップを経た後のガスケットの収縮率がアクリルフィルムの材料の収縮率と同じであるか、より大きく調節することにより、薄型フィルムを一定の厚さで扁平に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】主鎖に環構造を有するアクリル系重合体と、紫外線吸収剤とを含有するアクリル樹脂組成物の長時間連続生産を可能とする方法を提供する。
【解決手段】上記アクリル樹脂組成物の製造方法であって、アクリル系重合体の環化縮合反応を行う環化工程と、触媒の使用量に対して０．１〜０．７モル当量の塩基性物質または酸性物質によって触媒を中和する中和工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 高反射基板上でパターンを形成するための適度な吸収を有し、露光後のパターン形状と密着性と段差基板での埋め込み特性が良好で、また、イオンインプランテーションを行う際のイオンインプラント耐性を有するポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）カルボキシル基の水素原子が環構造を有する酸不安定基で置換された構造を有する繰り返し単位を含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の高分子化合物と、（Ｂ）置換又は非置換のフルオレセインのノボラック樹脂とをベース樹脂として含有し、更に、光酸発生剤を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ、ＬＷＲ等のリソグラフィー性能に優れ、さらには現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、［Ｂ］酸発生体、及び［Ｃ］界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物である。また［Ｃ］界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤であることが好ましい。さらに［Ｃ］界面活性剤は、フッ素原子又はケイ素原子を含むノニオン系界面活性剤であることが好ましい。
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【課題】重合開始剤としてのヒドロキシルアミンエステルの提供。
【解決手段】本発明は、新規環状及び開鎖ヒドロキシルアミンエステル及びこのヒドロキシルアミンエステル及びエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーを含む重合性組成物に関する。本発明はまた、重合開始剤としての使用及びポリプロピレンの制御された分解の為の並びにポイエチレンの分子量の制御された増加を成す為の、ＨＡＬＳ化合物からなる群より選択される既知のヒドロキシルアミンエステル及び新規ヒドロキシルアミンエステルの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】長手方向に対して傾いた遅相軸を有し、従来よりもＮＺ係数が１に近く、二軸延伸性が弱い（一軸延伸性が強い）帯状の位相差フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の製造方法では、帯状の原フィルムにおける双方の周辺縁部を把持する一対のクリップ群と、延伸ゾーンを有する加熱延伸装置とを用いる。ここで、クリップ群が原フィルムを把持する際に、一対のクリップ群の走行速度は互いに等しい。延伸ゾーンは、当該ゾーンに走行移動してきた一方のクリップ群の走行速度を順に減少させる第１の区間と、第１の区間より後に、第１の区間を経て走行移動してきた上記一方のクリップ群の走行速度を順に回復させる第２の区間とを有する。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数も少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を含む構成単位（ａ３）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）