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国際特許分類[C08F20/16]の内容

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【課題】重合性液晶およびそれに類似する重合性液晶の塗布後の結晶析出抑制に効果がある、添加剤としての重合性液晶化合物の提供。
【解決手段】下記式で表される重合性液晶化合物(式中、Pは重合性官能基;Spは、スペーサーまたは単結合;Z1及びZ2は、−CO−O−;R0は炭素原子数1〜15の直鎖アルキル基;R2、R3及びR4は互いに独立して炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜5のアシルオキシ基、炭素原子数2〜4のアシル基、炭素原子数2〜5のアミド基、シアノ基、アミノ基、水酸基又はハロゲン原子;r1、r2及びr3は、0〜4のいずれかの整数を表し、r1、r2及びr3がそれぞれ2以上であるときにR2、R3及びR4は、互いに同一であっても異なっていてもよい。但し、R0がメチル基のときr2は1ではない。)。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)及び活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
(イ)該膜を露光する工程、及び
(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を含む、パターン形成方法。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。
、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】(A)分子内にビニルオキシ基を含有する低分子化合物及び/又は分子内にビニルオキシ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物と、(B)分子内にN−マレオイルアミノ基を含含有する低分子化合物及び/又は分子内にN−マレオイルアミノ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物とを、含有し、前記2種類の高分子化合物のうちの少なくとも一方の高分子化合物を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 (もっと読む)


【課題】半導体の微細加工に利用できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、Tは、単結合又は芳香族炭化水素基を表し、Lは、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、mは0又は1を表し、L及びLは、単結合又は2価の炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表し、環W及び環Wは、炭素数3〜36の炭化水素環を表し、R及びRは、水素原子等を表し、R及びRは、ヒドロキシ基等を表し、Rは、水素原子又はメチル基を表し、tは、0〜2の整数を表し、uは、0〜2の整数を表す。]
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【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位(a1)と、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有するモノマー単位(a2)と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位(a3)と、を有する重合体、(成分B)光酸発生剤、並びに、(成分C)溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつLWR性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】[A]炭素数5〜21の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数4〜20の2価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位(I)を有する含フッ素重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】
塗料調色時の減粘現象が抑制され、塗装作業性に優れた水性塗料組成物を提供する。
【解決手段】
共重合体(A)、共重合体(B)及び樹脂エマルション成分(C)を含み、(A)が(m−1)炭素数3〜24のアルキル基を有するモノマー(a)を5〜100質量%含有するモノマー成分(I)を重合することにより得られる重合体鎖と重合性不飽和基とを有する数平均分子量が1,000〜7,000の範囲内のマクロモノマー、(m−2)ノニオン性の親水基を有するモノマー及び(m−3)その他のモノマーからなるモノマー成分(m)を共重合することにより得られる重量平均分子量が100,000以上の共重合体であり、(B)がポリオキシアルキレン鎖を有するモノマーを10〜40質量%含むモノマー成分を共重合して得られる酸価が20〜100mgKOH/g、重量平均分子量が100,000未満の共重合体であることを特徴とする水性塗料組成物。 (もっと読む)


【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。
【解決手段】下式(I)及び(II)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方と、側鎖に酸解離性脂環式基を有する(メタ)アクリレート単位と、を有する重合体を含有する。
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【課題】
感度に優れると共に、MEEFを良好に維持することが可能な化学増幅型レジストであるフォトレジスト組成物の提供
【解決手段】
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)および感放射線性酸発生剤(B)を含有するフォトレジスト組成物。
【化1】
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【課題】 焼成時の焼成残渣と、特に熱分解終盤に発生する難分解生成物量が少ない焼成ペースト用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される単量体に由来する構成単位を含む焼成ペースト用重合体、およびそれを含む焼成ペースト用樹脂組成物である。
【化1】


(式中、R〜Rはそれぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基またはアルコキシ基を表す。R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1〜8のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。) (もっと読む)


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