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国際特許分類[C08F20/18]の内容

国際特許分類[C08F20/18]に分類される特許

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【課題】 焦点深度ラチチュード(Depth Of Focus)が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物(A)として、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−1)、又は、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−2)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】アゾ顔料の非水溶性溶剤に対する顔料分散性を改善する顔料分散剤の提供、非水溶性溶剤に対する良好な分散性を有するアゾ顔料組成物の提供。
【解決手段】特定の高分子樹脂ユニットに、特定のビスアゾ骨格ユニットが結合している、顔料分散剤として用いられる化合物である。 (もっと読む)


【課題】マスクエラーファクター優れたレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


[式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すか又はR及びRが互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜20の環を形成する。Rは、エチレン性二重結合を含む基を表す。Wは、炭素数6〜18の2価の脂環式炭化水素基を表す。Tは、単結合、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。Tは、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。] (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R”〜R”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。Xは、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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【課題】特にセラミックグリーンシート用のバインダーとして使用した場合に、薄膜でも充分なシート強度を有するセラミックグリーンシートが得られるとともに、焼成時の熱分解性に優れる無機質焼結体製造用バインダーを提供する。
【解決手段】
ポリビニルブチラールからなるユニット及びポリ(メタ)アクリル酸類からなるユニットを有するブロック共重合体を含有することを特徴とする無機質焼結体製造用バインダー。 (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造し得るレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される化合物、樹脂及び酸発生剤を含有し、樹脂が、式(a1−0)で表される構造単位を含み、かつ、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であるレジスト組成物。
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【課題】高速剥離時における粘着力が小さく、かつ、浮きや剥がれといった問題を生じない程度に低速剥離時の接着力が高く、特に透明性が高い再剥離用粘着剤組成物、再剥離用粘着剤層および再剥離用粘着シートを提供する。
【解決手段】再剥離用粘着剤組成物は、ガラス転移温度が0℃未満のポリマ−(A)100質量部と、重量平均分子量が1000以上30000未満であり、下記一般式(1)で表される、脂環式構造を有する(メタ)アクリル系モノマーをモノマー単位として含む(メタ)アクリル系重合体(B)0.05質量部〜3質量部と、を含むことを特徴とする。CH=C(R)COOR (1)
[式(1)中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、脂環式構造を有する脂環式炭化水素基である] (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(R1、R2は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数2〜10のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。R3はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、mは1〜5の整数。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス(LER)が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式(1)で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


[式中、Q及びQは、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。*は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。] (もっと読む)


【課題】ホルムアルデヒドを放出せず、熱架橋性を有し、また、紙処理剤として使用すると、低熱処理条件下で得られた紙であっても耐水性に優れ、さらに、繊維処理剤として使用すると、柔軟性に富む繊維が得られる熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】トリカルバリル酸、アコニチン酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、テトラヒドロフランテトラカルボン酸、メチルテトラヒドロフタル酸とマレイン酸のエン付加物、トリメリット酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸からなる群より選ばれる一種以上のポリカルボン酸の存在下、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を含むエチレン性不飽和単量体Aを乳化重合させることにより、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を有する高分子重合体と、前記ポリカルボン酸とを含む水性エマルジョンを得て、かつ前記ポリカルボン酸のカルボキシル基の少なくとも一部を前記高分子重合体の官能基と反応させてなることを特徴とする熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法。 (もっと読む)


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