【課題】遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び（Ｄ）酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高温および高湿条件で液晶配向保持能の高い液晶フィルムが得られる液晶性組成物、該組成物からなる液晶フィルム、および該フィルムからなる光学フィルムを搭載した液晶表示素子を提供する。
【解決方法】カチオン重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物とオキセタン基を有する液晶性化合物とからなる液晶性組成物であり、好ましくはカチオン重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物がビニルエーテル基を有する化合物であり、オキセタン基を有する液晶性化合物が主鎖型または側鎖型高分子液晶性化合物であることを特徴とする液晶性組成物、およびそれから得られる液晶フィルム。 （もっと読む）

【課題】高温および高湿条件で液晶配向保持能の高い液晶フィルムが得られる液晶性組成物、該組成物からなる液晶フィルム、および該フィルムからなる光学フィルムを搭載した液晶表示素子を提供する。
【解決方法】カチオン重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物、オキセタン基を有する液晶性化合物およびジオキセタン化合物とからなる液晶性組成物であり、好ましくはカチオン重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物がビニルエーテル基を有する化合物であり、オキセタン基を有する液晶性化合物が主鎖型または側鎖型高分子液晶性化合物であることを特徴とする液晶性組成物、およびそれから得られる液晶フィルム。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を少なくとも２種、及びラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の１，６−ジエン類をラジカル重合させて、主鎖に環構造を有する重合体を製造する方法において、分岐を抑制することで、異常な高分子量化やゲル化を防止することができる製造方法、及び、該製造方法を用いて得られる耐熱性の高い、主鎖に環構造を有する重合体を提供する。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される単量体を含む単量体成分を重合させてα−アリルオキシメチルアクリル酸系重合体を製造する方法であって、上記製造方法は、単量体成分を連鎖移動剤の存在下でラジカル重合させる工程を含むα−アリルオキシメチルアクリル酸系重合体の製造方法である。
[化１]


（式中、Ｒは、水素原子、又は、置換基があってもよい、炭素数が１〜３０の有機基である。） （もっと読む）

【課題】
電子情報分野の部材を形成するレジスト用のバインダー樹脂として好適な、耐熱性、色材分散性、製版性に優れた主鎖に環構造を有する新規なアルカリ可溶性樹脂を提供する。また、該樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いて高品質のカラーフィルターセグメントを歩留まりよく形成する。
【解決手段】
式（１）で表される構成単位を主鎖中に有するアルカリ可溶性樹脂をバインダー樹脂として用いる。また、該樹脂、ラジカル重合性単量体、光開始剤、及び溶剤を必須成分として含む感光性樹脂組成物を、カラーフィルター用レジストとして用いる。 （もっと読む）

【課題】
レジスト膜上に設けられて、前記レジスト膜を保護するトップコート組成物において、適度な現像液溶解性を有するトップコート組成物を提供する。
【解決手段】
下記一般式（５）で表される繰返し単位を有する含フッ素重合体を含むことを特徴とするフォトレジスト用トップコート組成物。
【化１】


［式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは０または１であり、ｍは１〜（３＋ｎ）の整数である。Ｒ²またはＲ³は、水素原子もしくは保護基を表す。］ （もっと読む）

【課題】現像液への親和性に優れ、半導体製造の微細なパターン形成に用いられる高分子化合物及び該高分子化合物を製造する為の新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｃａ−１）又は（ｃｂ−１）で表されることを特徴とする重合性化合物、及び、これを重合することによって得られる高分子化合物。


Ａ、Ｚ_１、Ｚ_２、Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｃ及びＬは、それぞれ独立に、所定の基、結合又は原子を表す。ｍ、ｎ、ｐ、ｑ及びｒは、それぞれ独立に、所定の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】パターン加工時において、Ｓｉ原子を有しない無機物で構成される基板表面や素子表面との現像時接着性に優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基および／またはフェノール性水酸基と、エチレン性不飽和二重結合基を有する重合体、
（Ｂ）光ラジカル重合開始剤、および
（Ｃ）水酸基を有する不飽和カルボン酸エステル残基を１分子中に３個以上有する化合物
を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は少なくとも下記３成分の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）を含有し、かつ前記有機溶剤（Ｓ）中の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）の割合が、前記（Ｓ）成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、５０〜９０質量％の範囲、５〜４０質量％の範囲、０．１〜１５質量％の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）