【課題】パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、下記一般式（１）により表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】加熱により加熱消滅性樹脂粒子が十分に消失して、加熱後に高精度に制御された多孔質構造を有する多孔質酸化チタン層を形成できる加熱消滅性樹脂粒子及び酸化チタン含有ペーストを提供する。
【解決手段】本発明に係る加熱消滅性樹脂粒子は、多孔質酸化チタン層を形成するために用いられる酸化チタン含有ペーストの原料として用いられる。本発明に係る加熱消滅性樹脂粒子は、オキシプロピレンユニット及びオキシテトラメチレンユニットの内の少なくとも１種のユニットを有し、かつ重合性不飽和基を２以上有する架橋剤と、重合性不飽和基を有する単量体とを反応させることにより得られる。本発明に係る酸化チタン含有ペーストは、酸化チタン粒子と、上記加熱消滅性樹脂粒子と、有機バインダ樹脂と、溶剤とを含む。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

１分子に付き少なくとも１個の官能基を有するビニルコポリマーＡと、１分子に付き平均で少なくとも２個の官能基を有するエポキシド官能性化合物に由来する多官能性化合物Ｅとの反応生成物ＡＥであって、エチレン性不飽和モノマー、およびベータ−ヒドロキシアルキレンイミン（−ＮＲ−ＣＨ_２−ＣＲ’（ＯＨ）−）［式中、ＲおよびＲ’は、お互いから独立して、Ｈまたは１〜８個の炭素原子を有するアルキル基を表す］、または対応するアンモニウム構造に由来する構造要素を有する反応生成物ＡＥ、反応生成物ＡＥの調製方法、および水性コーティング組成物への結合剤としてのその使用方法。 （もっと読む）

【課題】高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、ポリシロキサンと、感放射線性酸発生剤と、下記一般式（ＣＩ）で表される繰り返し単位を有する重合体と、溶剤と、を含有する。


〔一般式（ＣＩ）において、Ｒ^１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜５のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を示す。Ｘはラクトン構造又は環状カーボネート構造を有する１価の基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】重合性基導入率の高い親水性マクロモノマーであって、重合後にポリマー鎖へ結合されない成分が少なく、しみ出しが起こりにくい親水性マクロモノマー混合物を得ること。
【解決手段】重合開始剤に由来する反応性基にさらに重合性基を導入した基を末端に有するマクロモノマーであるマクロモノマーＡ、および連鎖移動剤に由来する反応性基にさらに重合性基を導入した基を末端に有するマクロモノマーであるマクロモノマーＢを含むことを特徴とするマクロモノマー混合物とする。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）を満たすクエンチャー（Ｑ）を含むレジスト組成物。ΔＤ^ａ−ΔＤ^ｂ＞ΔＤ^ｃ−ΔＤ^ｄ（Ｉ）［式（Ｉ）中、ΔＤ^ａは、ｄ^１及びｄ^ａの差の絶対値を表し、ΔＤ^ｂは、ｄ^１及びｄ^ｂの差の絶対値を表し、ΔＤ^ｃは、ｄ^１及びｄ^ｃの差の絶対値を表し、ΔＤ^ｄは、ｄ^１及びｄ^ｄの差の絶対値を表す。］ （もっと読む）

【課題】感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）２個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】水硬性粉体の分散性に優れ、得られる水硬性組成物の粘性低減効果が高く、流動保持性が劣らない、新たな分散剤等としての用途が期待される新規なポリアルキレングリコール系重合体の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を含むポリアルキレングリコール系重合体。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｂ¹、Ｂ²は、一方が水素原子、他方がポリアルキレングリコール残基である。〕 （もっと読む）