【課題】近赤外吸収膜組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）１種または複数種の近赤外吸収トリフェニルアミン系染料、及び（ｉｉ）１種または複数種のキャスト溶媒を含む、硬化性組成物を提供する。本発明は、硬化性組成物の架橋形態で構成される固体の近赤外吸収膜も対象とする。本発明はさらに、固体近赤外吸収膜のコーティングを含むマイクロエレクトロニクス基板、並びに近赤外吸収膜がマイクロエレクトロニクス基板とフォトレジスト膜の間にある場合に、マイクロエレクトロニクス基板上にコートされたフォトレジスト層をパターニングする方法も対象とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率を選択する範囲を広げ、耐擦傷性、耐熱性及び耐薬品性に優れた低屈折率を与えるフッ素含有（メタ）アクリレートを提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるフッ素含有アクリレート化合物。



［式中、Ｒが、炭化水素基、該基に含まれるメチレン基はＯ又はカルボニル基で置換されていてもよく、該基は、Ｆ、水酸基又は−ＯＣ_ｎＦ_ｍ基が置換されていてもよい；Ｒ^１は、Ｈ又はアルキル基；Ｘ^１は、結合手、アルキレンオキサイド基又は置換基−Ｏ−（ＣＯ）−Ｒ^ａ−（ＣＯ）−Ｏ−Ｒ^ｂ−；Ｘ^２は、結合手、アルキレンオキサイド基あるいは−Ｏ−Ｘ^２’−；Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、Ｆが置換されていてもよい炭化水素基；Ｘ^２’は、結合手、アルキレンオキサイド基又は置換基−Ｏ−（ＣＯ）−Ｒ^ａ−（ＣＯ）−Ｏ−Ｒ^ｂ−；ｔは、１〜１３の整数；ｎは１〜１０の整数：ｍは３〜１８の整数］ （もっと読む）

【課題】高温状態と低温状態とを繰り返す加速劣化試験及び高湿状態を保持する劣化試験において、劣化しない自己形成光導波路のコア及びクラッド組成物と光導波路の提供。
【解決手段】ＣＯＯＨ基を有する（メタ）アクリレートと、化学式（１）に示される変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートと、化学式（２）に示されるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートと、光重合開始剤とを含む組成物を、自己形成光導波路のコアを光硬化させるための材料とした。ＣＯＯＨ基を有する（メタ）アクリレートは、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸のうち、少なくとも一つを含む。ＣＯＯＨ基を有する（メタ）アクリレートの重量濃度が、１％以上１０％以下である。 （もっと読む）

本発明は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを調製するための連続法に関し、より詳細には、1分子あたり、１以上の（メタ）アクリレート基を有するヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの調製法に関する。
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【課題】実用レベルの高いイオン伝導度を有する高分子固体電解質、並びにこの高分子固体電解質を備える高分子固体電解質電池を提供する。
【解決手段】本発明の高分子固体電解質は、３以上の分岐鎖を有するコア部と、式（ａ１）で表される繰り返し単位（ａ）を有するアーム部とを有する多分岐ポリマー、および電解質塩を含有することを特徴とする。式中、Ｒ_１００、Ｒ_２００及びＲ_３００は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜１０炭化水素基を表し、Ｒ_１００とＲ_３００は結合して環を形成してもよく、Ｒ_４a、Ｒ_４bは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｒ_５００は、水素原子、炭化水素基、アシル基又はシリル基を表し、ｓは２〜１００のいずれかの整数を表し、式：−ＣＨ（Ｒ_４ｂ）−ＣＨ（Ｒ_４ａ）−Ｏ−で表される基同士は、同一でも相異なっていてもよい。
［化１］
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【課題】レジスト用成分の溶解性に優れるとともに、高解像性で、かつ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む酸発生剤成分とを、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤を含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物。式（ｂ１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｒ^７０（Ｒ^７０は有機基）で表される基で置換された置換アリール基である。Ｒ^７”〜Ｒ^９”のいずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^１は酸素原子を含む２価の連結基、Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。
［化１］
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【課題】透明性、耐熱性、光学等方性がいずれも高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮できる、光学用面状熱可塑性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】光学用面状熱可塑性樹脂成形体は、ラクトン環含有重合体を主成分として含み、光学用保護フィルム、光学フィルム、あるいは光学シートであり、光学フィルムの面方向の位相差が２０〜５００ｎｍ、光学シートの面方向の位相差が１０ｎｍ未満となる偏光板を含む液晶表示装置に好適である。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射又は加熱により容易に硬化し、その硬化膜の硬度及び耐薬品性に優れるうえ、環境負荷の少ない硬化型組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)で表されるポリオールから得られる（メタ）アクリレート（Ａ）を含む硬化型組成物。
（Ａ）成分としては、下記式(1)で表されるポリオールと、（メタ）アクリレートのエステル交換物、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリレートのウレタン化反応物又は有機ポリイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートのウレタン化反応物が好ましく、又水酸基価として１０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇを有するものが好ましい。
【化１】
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【課題】本発明は、形成される塗膜の耐水性と耐汚染性に優れ、更に、耐候性及び表面タック等の総合的な性能にバランスよく優れる水性塗料を得るための塗料用添加剤及びそのような塗料用添加剤を含んで成る水性塗料を提供する。
【解決手段】（ａ）重合性不飽和単量体を重合して得られた（Ａ）水性樹脂を含む塗料用添加剤であって、（Ａ）水性樹脂の酸価は２０〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、（ａ）重合性不飽和単量体は、（ａ１）ヒドロキシル基およびエチレン性二重結合を有する単量体を含んで成る塗料用添加剤を含む塗料は、形成される塗膜の耐水性と耐汚染性に優れ、更に、耐候性及び表面タック等に総合的にバランスよく優れる。（ａ）重合性不飽和単量体は、（ａ２）アルコキシシリル基およびエチレン性二重結合を有する単量体を含んで成ることが好ましい。本発明に係る塗料用添加剤は、耐汚染化剤として使用できる。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
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