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国際特許分類[C08F20/26]の内容

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【課題】発光装置の防曇等に用いられる防曇構造、その形成方法およびそれを有する発光装置を提供する。
【解決手段】下記の第一モノマー、第二モノマー、第三モノマーまたはこれらの組合せと光開始剤とを混合して、混合物を形成する工程と、前記混合物で基材表面を被覆する工程と、前記混合物を固化して、前記基材表面上に防曇層を形成する方法、該方法により形成された防曇構造、該防曇構造を適用した透明カバーを有する発光装置であり、前記第一モノマーは:


で表され、前記第二モノマーは:ポリアルキレングリコールメチルエーテルのアクリル酸もしくはα−アルキル置換アクリル酸エステル、前記第三モノマー:ジアルキレングリコールアルキルエーテルのアクリル酸もしくはα−アルキル置換アクリル酸エステルであるもの (もっと読む)


【課題】低粘度で吐出性に優れ、かつ耐熱性、エッチング耐性、めっき耐性など各種耐性に優れる剥離レジスト形成用硬化性組成物、及びその硬化物並びにそれを用いた電子回路基板を提供する。
【解決手段】式(I):


(Rは、水素原子又は1価の有機基。有機基は、エーテル基、ハロゲン原子を有していてもよい。)で表わされる化合物を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】[A]親水性基を含む構造単位(I)を有するフッ素原子含有重合体、[B]アルカリ解離性基を含む構造単位(II)を有するフッ素原子含有重合体、及び[C]酸解離性基を有する重合体を含有し、[A]重合体、[B]重合体及び[C]重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】現像時における未露光部の溶解を抑制することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)無機粒子、(成分B)酸基を有する分散剤、(成分C)溶剤、(成分D)(a−1)酸及び/又は熱によって脱離する基を有する構成単位と(a−2)架橋性基を有する構成単位とを有する重合体、並びに、(成分E)光酸発生剤を含有し、成分Dの酸価が、50mgKOH/g以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形または矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供することが可能な樹脂を提供する。
【解決手段】主鎖末端にカルボキシル基を含有し、かつ、3員環および/または4員環の環状エーテル基を有する繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶または難溶性で酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となるポジ型感光性アクリル樹脂を用いる。 (もっと読む)


【解決手段】側鎖末端にヘキサフルオロヒドロキシプロピルカルボニルオキシ基を有する(メタ)アクリレート単位を含有し、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。
【効果】上記レジスト保護膜材料は、高撥水性かつ高滑水性性能を有する。そのため水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト成分の水への溶出が抑えられる上、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィーを実現することができる。 (もっと読む)


【課題】感光性、基板との密着性、現像性、耐熱性、透明性等の各種物性に優れるとともに、画像形成性及び表面平滑性にも優れ、未露光部の残渣や地汚れ等がなく、かつ膜厚が充分に低減された硬化物(硬化膜)を与えることができるネガ型レジスト組成物を提供する。また、このようなネガ型レジスト組成物を用いてなるカラーフィルター及びその製造方法、並びに、該カラーフィルターを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリレート系重合体、重合性単量体及び光重合開始剤を含むネガ型レジスト組成物であって、該(メタ)アクリレート系重合体は、全単量体成分100質量%に対し、特定構造からなる3級炭素含有(メタ)アクリレート系単量体を30〜80質量%含む単量体成分を重合してなる重合体。 (もっと読む)


【課題】耐マイグレーション性に優れた接続構造体を得ることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、エポキシ基を有さないか又はエポキシ基を有し、かつ(メタ)アクリロイル基を有する硬化性化合物と、熱ラジカル発生剤とを含む。硬化性化合物は、式(11−1)で表される化合物のエポキシ基の一部又は全部に(メタ)アクリル酸を反応させることにより得られる。式(11−1)中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜5のアルキレン基を表し、R3〜R8の6個の基の内の4〜6個の基は水素原子を表し、R3〜R8の内の水素原子ではない基は、式(11a)で表される基を表す。式(11a)中、R9は炭素数1〜5のアルキレン基を表す。
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【課題】高感度であり、保存安定性及び硬化膜の透明性に優れ、現像寛容度が広い感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】式(1)で表されるオキシムスルホネート化合物、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、及び、溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ar1はo−アリーレン基又はo−ヘテロアリーレン基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表す。2以上存在するR2のうち、少なくとも1つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。
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