【課題】ガスバリア性を向上できるガスバリア基材およびガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】基材と、基材の少なくとも一主面にある樹脂層と、樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア基材である。 （もっと読む）

【課題】矩形性の高い良好な断面形状、高い残膜率及びブリッジ欠陥の低減を鼎立し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、ラクトン構造又はサルトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位とを有する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


一般式（１）中、
Ｌは、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｒ_１は、水素原子又はアルキル基を表し、
Ｚは、環状酸無水物基を表す。 （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料２が提供される。このような被膜形成材料２を基板１上に形成し、モールド３を押し当て、モールド３の反転パターン３ｂを転写した被膜２ａを形成し、モールド３を被膜２ａから引き離す（離型）。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料２を用いることで、離型の際、モールド３への被膜２ａの付着が抑制される。 （もっと読む）

【課題】耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性が良好な光記録媒体の光透過層に使用する硬化性組成物、光記録媒体を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含み、ラジカル重合性化合物として１分子あたり７〜２２個のプロピレンオキシドにより変性された多官能（メタ）アクリレート化合物をラジカル重合性化合物の全量に対して２０〜１００質量％含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物層からなる光透過層を形成させることにより、耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性に優れる光記録媒体が得られる。 （もっと読む）

【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ａ１）を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が７以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位（ａ１）が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Ｘが０＜Ｘ≦５であるパターン形成方法。Ｘ＝（酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計）／｛（炭素原子の数）−（炭素原子でも水素原子でもない原子の数）｝ （もっと読む）

【課題】毛髪の容積特性を改善するための新しいやり方の提供。
【解決手段】パーソナルケア用途において有用であるポリマーであって、モノマー単位当たり少なくとも１個の式（Ｉ）（ここで、各Ｒ¹は独立して、Ｈ、メチル又はエチルであり、各Ｒ²は独立して、Ｈ又は（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキルであり、各ｎは独立して、約５から約５００の整数である）によるペンダントポリ（アルキレンオキシ）置換基を含むモノマー単位を、該ポリマーのモノマー単位の総数を基準として５０％より多く含み、且つモル当たり約１，０００から約１，０００，０００グラムの重量平均分子量を示すポリマー。
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【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含まれる樹脂製造用化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式（Ｉ）中、Ｔ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−又は炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基を表す。ｎは１〜６の整数を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、水素原子又は酸に不安定な基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁴〜Ｒ⁶はフッ素化１価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明により、高撥水性かつ高滑水性の含フッ素環状アセタールを含む繰り返し単位を有するレジスト保護膜材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、（２）上記レジスト膜に露光する工程、及び（３）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有する。
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