【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、酸により脱離しうる有機基を有する繰り返し単位とを含有する高分子化合物（Ａ）を含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】樹脂絶縁層の形成に用いる光硬化性熱硬化性組成物であって、インクジェットプリンターを用いて、プリント配線板用の基板上に直接パターンを描画することができる光硬化性熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】分子内に（メタ）アクリロイル基とグリシジル基を有し２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下のモノマーと、３官能以上のアクリレートモノマーと、熱硬化触媒と、光重合開始剤を含むことを特徴とするインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基を有する構成単位と、カルボキシル基もしくはフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位と、を含む樹脂、及び、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、シアノ基、アリール基等を表し、Ｒ^２は、アルキル基又はアリール基を、Ｒ^３、Ｒ^４は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−等を表す。
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【課題】低温加熱での硬化が可能であり、アルカリ現像性が良好で、かつ高い放射線感度を有すると共に、優れた硬度及び耐溶剤性を有する硬化膜を形成可能な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］アルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］ビニロキシアルキルオキセタン及びビニロキシアリールオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、及び［Ｃ］エネルギーの付与により酸を発生する化合物を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性の高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、上記（Ａ）成分の高分子化合物が、架橋剤の存在下又は不存在下で、上記酸発生剤から発生する酸触媒によりアルカリ不溶性となる電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物であって、上記（Ａ）成分かつ（Ｃ）成分が塩基性ポリマー（ＰＢ）を含むことを特徴とする電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
【効果】超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いることで、塩基の拡散を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、アンダーカットの度合いが小さい電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物の提供。 （もっと読む）

【課題】ホルムアルデヒドを放出せず、熱架橋性を有し、また、紙処理剤として使用すると、低熱処理条件下で得られた紙であっても耐水性に優れ、さらに、繊維処理剤として使用すると、柔軟性に富む繊維が得られる熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物、その製造方法及び繊維処理剤を提供する。
【解決手段】カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を有する高分子重合体と、ポリカルボン酸とを含む水性エマルジョンであって、前記ポリカルボン酸のカルボキシル基の少なくとも一部が前記高分子重合体の官能基と反応していることを特徴とする熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物、その製造方法及びそれを用いた繊維処理剤。 （もっと読む）

【課題】 硬度が高く、且つ、よりカールしにくい硬化塗膜が得られるコーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び、硬度が高く、且つ、よりカールしにくい硬化塗膜を有するフィルムを提供すること。
【解決手段】 側鎖に（メタ）アクリロイル基を有し、且つ、（メタ）アクリロイル当量が２００〜６００であるアクリル系重合体（Ａ）とコロイダルシリカ（Ｂ）とを含有することを特徴とするコーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、前記コーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化させて得られる硬化層を有することを特徴とするフィルム基材。 （もっと読む）

デュアルダマシンプロセスに使用される組成物が開示される。
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【課題】 ラインエッジラフネスに優れ、より経済的な電子部品等の微細構造物を高い精度で安定して形成することができるナノインプリント用樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】
本発明のナノインプリント用光硬化性樹脂組成物は、硬化性モノマー、又は硬化性モノマーとバインダー樹脂とを含有し、該硬化性モノマーとバインダー樹脂との総量１００重量部に対して、同一分子骨格中に反応性官能基と疎水性官能基を有する化合物をさらに０．００１〜５重量部含有することを特徴とする。 （もっと読む）