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国際特許分類[C08F20/60]の内容

国際特許分類[C08F20/60]に分類される特許

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【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、金属イオン及び有機溶媒と水が含有しない、高純度のイオン性ビニルモノマー、及び該モノマーからなる帯電防止剤又は帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)(式中、Rは水素原子又はメチル基を、R及びRは各々独立に炭素数1〜3のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、R4は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルケニル基又はベンジル基を表し、Yは酸素原子又はNH−を表し、Zは炭素数1〜3のアルキレン基を表し、Rf及びRfは同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基又は炭素数0のフルオロ基を表す。)で示されるイオン性ビニルモノマーを高純度、高収率で合成し、該イオン性ビニルモノマーからなるポリマー等を帯電防止の有効成分として用いる。
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【課題】塗布面状に優れ、耐刷性および耐汚れ性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、下塗り層と、画像記録層とを該順に有し、前記下塗り層が、(a1)一般式(O)で表される繰り返し単位と、(a2)エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位とを含む重合体(A)を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
一般式(O)
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【課題】直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(A)着色剤、(B)下記式(I)で表される部分構造を有するアクリル樹脂、(C)重合性化合物、及び(D)紫外線吸収剤を含み、該(D)紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、0.1質量%〜10質量%である着色感放射線組成物。
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【課題】パターン倒れ及び欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


アルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。] (もっと読む)


【課題】糖鎖および/または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の(式13)で表される構造を有するモノマー。


(R2はH,CH3,または炭素数2〜5の炭化水素鎖,R6は−O−,−S−,−NH−,−CO−,−CONH−で中断されてもよい炭素数1〜20の炭化水素鎖,[P]は保護基を示す。) (もっと読む)


【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位(A)を含んだ樹脂(P)を含有している。 (もっと読む)


【課題】糖鎖及び/又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び/又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能にする試料調製方法、及びこの方法により得られる分析試料を提供する。
【解決手段】ヒドラジド基を含む物質Aと、糖鎖および/または糖の誘導体とを、当該物質Aのヒドラジド基と当該糖鎖および/または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とし、糖鎖及び/又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び/又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能とし、前記試料調製方法に用いられる糖鎖捕捉物質の製造に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマー。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式(1)で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(X、YはCH又は窒素原子、mは1又は2、R1は水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基であり、nは0又は1である。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超LSI製造用あるいはEB描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】長期の使用に対しても液晶の配向性能が維持されるような長期の耐久性を有する液晶表示素子を得るための液晶配向剤を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体を含有し、前記繰り返し単位が、窒素原子に隣接する2つの炭素原子がそれぞれ下記式(S)で表される置換基2個を有している環状アミン構造、又は水酸基に対してオルト位の炭素原子のうち少なくとも1つの炭素原子が下記式(S)で表される置換基を有しているフェノール構造を有する。
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【課題】生体反応への糖鎖の関与に関する研究に有用な支持体、さらに、生体組織など莢雑物を含む試料から糖鎖および糖鎖含有物質のみを、簡単な操作で分離精製するための、ポリマー粒子、また、基板上に糖鎖を固定化したデバイスである糖鎖チップを、簡便かつ効率的な方法で作製する手段を提供する。
【解決手段】糖鎖のアルデヒド基と特異的に反応する官能基を担持してなる支持体であり、官能基がオキシルアミノ基,ヒドラジド基,及びセミチオカルバジド基から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする支持体、およびこの支持体を適用したポリマー粒子ならびに糖鎖チップ。 (もっと読む)


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