国際特許分類[C08F212/06]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の共重合体 (799) | 1個の不飽和脂肪族基をもつ単量体 (676) | 1個の環を含有するもの (601) | 炭化水素 (269)
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スチレン (218)
環に結合した,分岐した不飽和脂肪族基またはアルキル基を含有するもの (8)
国際特許分類[C08F212/06]に分類される特許
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感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】密着性と解像度が優れ、レジストの微少な欠損が少なく、断面形状が矩形に近いレジストパターンを形成可能な感光性エレメント、並びに、これを用いたレジストパターンの形成及びプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】支持フィルム10と、その上に形成された感光層20と、保護フィルムを備える感光性エレメント1であって、支持フィルムのヘーズが、0.01〜1.5%であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子及び直径5μm以上の凝集物の総数が5個/mm2以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さT(μm)と365nmにおける吸光度Aとが、0.005≦A/T≦0.020で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、5×10−2m3/m2・日・MPa以下である感光性エレメント。
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感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、(A)スチレン又はスチレン誘導体に基づく構造単位と、(メタ)アクリル酸ベンジル又は(メタ)アクリル酸ベンジル誘導体に基づく構造単位と、(メタ)アクリル酸に基づく構造単位と、(メタ)アクリル酸アルキルエステルに基づく構造単位とを有し、分散度が1.0〜2.0であるバインダーポリマー、(B)光重合性化合物、及び、(C)光重合開始剤を含有する。
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感光性コポリマーおよびフォトレジスト組成物
【課題】フォトレジストコポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式を有するコポリマー
式中、R1〜R5は、H、C1−6アルキルもしくはC4−6アリール、R6はフッ素化もしくは非フッ素化C5−30酸分解性基;各Arは単環式、多環式もしくは縮合多環式C6−20アリール基;R7およびR8は−OR11もしくは−C(CF3)2OR11基、R11はH、フッ素化もしくは非フッ素化C5−30酸分解性基;各R9はF、C1−10アルキル、C1−10フルオロアルキル、C1−10アルコキシ、もしくはC1−10フルオロアルコキシ基;R10はカチオン結合C10−40光酸発生剤含有基ある。
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感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
【課題】高感度とPED特性とを両立することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a3)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)式(B)で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜7のシクロアルキル基を表し、R3は水素原子又はメチル基を表し、RB1及びRB2はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、RB1及びRB2は連結して環を形成していてもよく、RB3は炭素数1〜8のアルキル基、p−トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。
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ポリマーエマルションの製造方法
【課題】ポリマーエマルションの製造方法の提供。
【解決手段】反応性アニオン性界面活性剤(a)と、臨界ミセル濃度(CMC)が0.30重量%以下の非反応性アニオン性界面活性剤(b)とを使用してビニル系モノマーを含むモノマー(A)を乳化重合することを含むポリマーエマルションの製造方法であって、工程I:前記反応性アニオン性界面活性剤(a)及び前記非反応性アニオン性界面活性剤(b)の存在重量比[b/(a+b)]が0.40〜1.00を満たす条件下で前記モノマー(A)を重合すること、並びに、工程II:工程Iで得られた反応液にさらに前記反応性アニオン性界面活性剤(a)及び前記モノマー(A)を添加して前記モノマー(A)を重合すること、を含み、上記工程I及びIIにおいて使用する前記反応性アニオン性界面活性剤(a)の総量と前記非反応性アニオン性界面活性剤(b)の総量の重量比[b/(a+b)]が0.01〜0.30であるポリマーエマルションの製造方法に関する。
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イオン性高分子
【課題】リチウムイオン二次電池用固体電解質の構成材料として、優れたイオン伝導性に寄与するイオン性高分子の提供。
【解決手段】脂肪族炭化水素からなる繰り返し単位とスルホンイミド基を有する繰り返し単位とを含有するイオン性高分子であって、該スルホンイミド基を有する繰り返し単位中のスルホンイミド基は、下記式(1):
−SO2N(M)SO2R1 ・・・(1)
{式中、R1は、フッ素原子、炭素数1〜8のアルキル基、及びフルオロアルキル基から成る群から選ばれる基であり、そしてMは、プロトン又はリチウムイオンである。}で表されることを特徴とする前記イオン性高分子。
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リチウム二次電池
【課題】高抵抗層を形成して電流を遮断し、過充電時の電池の安全性を確保する機能性材料を提供する。
【解決手段】芳香族官能基を有する重合性官能基で構成された重合性化合物、高極性の官能基を有する重合性官能基で構成された重合性化合物、及び低極性の官能基を有する重合性官能基で構成された重合性化合物、又はこれらの重合性化合物を重合した重合体をリチウム二次電池の電解質に混合する。
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化学増幅ポジ型レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法及びメッキパターン形成方法
【解決手段】(i)下記(A)〜(C)成分含有の化学増幅ポジ型レジスト材料を基板に塗布しレジスト層を形成する工程、
(A)ヒドロキシスチレン単位、およびp-アミロキシスチレン化合物単位、および/又はスチレン化合物単位、および/又はアルキル(メタ)アクリレート単、のの繰り返し単位を有するMw1,000〜500,000の高分子化合物、
(B)光酸発生剤、
(C)アゾベンゼン構造含有化合物、
(ii)加熱処理後、フォトマスクを介して放射線又は電子線で露光する工程、
(iii)加熱処理後、現像する工程、を有し、現像後の断面パターン形状においてパターン側壁が基板面に対し70°以上87°未満の角度面を有すレジストパターン形成方法。
【効果】保存安定性が高く、プロセス適応性を有し、パターン側壁角度の制御性能に優れ、高解像度で電解メッキ耐性を与えるレジストパターンを形成し得る。
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機能性樹脂組成物
【課題】感度や解像度、ラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基板密着性に優れた機能性樹脂組成物の開発に関し、リソグラフィー用レジスト原料として、透明性、エッチング耐性に優れるだけでなく、更に高感度、高解像度を有し、集積密度向上に対して技術的に好ましい機能性樹脂組成物の提供。
【解決手段】式(1)の化合物、4位をヒドロキシ基、アルコキシ基で置換されたスチレン系化合物、および酸素含有複素環エステル基を有する(メタ)アクリレート化合物を繰り返し単位に含む機能性樹脂組成物。
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二次電池電極用バインダー
【課題】有機溶媒は使用しない系において、集電体や活物質との結着力に優れ、得られた電極の柔軟性と導電性に優れている二次電池電極用バインダーを提供する。
【解決手段】a)脂肪族共役ジエン系単量体5〜35重量部、b)不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体9〜50重量部、c)シアン化ビニル単量体2〜40重量部、d)アルケニル芳香族単量体2〜60重量部及びe)その他共重合可能な単量体0.1〜20重量部から構成される単量体組成物(ここでa)〜e)の合計は100重量部)を共重合して得られる共重合体ラテックスであって、b)成分とc)成分の共重合体の固形分に対する含有量(B+C)が28重量%以上で、かつd)成分の共重合体の固形分に対する含有量D(重量%)との比率が、(B+C)/D=0.8〜3.5である共重合体ラテックスを二次電池電極用バインダーに含有させる。
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