国際特許分類[C08F220/04]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体 (4,622) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (4,406) | 酸;その金属塩またはアンモニウム塩 (379)
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不飽和カルボン酸およびアルケンエーテル誘導体に基づくコポリマーを含む混合組成物、スルホ基を含むコポリマーおよびターポリマー、ならびにその使用
本発明は、成分Iとして不飽和モノまたはジカルボン酸誘導体およびオキシアルキレンエーテルに基づくコポリマー、ならびに成分IIとしてスルホ基を含み、50 000〜20 000 000g/molの平均分子量を有する水溶性のコポリマーおよびターポリマーを含む、分散特性を有する混合組成物に関する。それぞれ4つの構造単位により特徴付けることができる両成分を組み合わせることによって、建築化学分野において知られている応用に加えて、有機および/もしくは無機顔料および充填剤のための分散剤として、もっと特別に使用することができる混合組成物を得ることが可能である。建築化学分野において、この混合組成物は、その分散特性の故に、特にセラミック系での、ならびに水性塗装および被覆系での使用に適している。その分散効果とは無関係に、上記混合組成物は優れた溶解剤でもあり、それらは、その安定化効果のおかげで、セルフレベリング間隙充填材料および鏝塗り配合物においても、特にカゼイン代替物として使用することができる。本発明の混合組成物は、成分IおよびIIの知られている好ましい性質を兼備しており、新規な応用分野で、建築化学以外の分野においてさえも使用することができる。 (もっと読む)
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】 式(1)及び(2)で示される繰り返し単位をそれぞれ1種以上含む重量平均分子量1,000〜50,000の高分子化合物。
【化1】
[R1、R3はH又はCH3、R4はアルキレン基、R2は式(R2−1)〜(R2−4)から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化2】
(YはCH2又はO、YがCH2の場合、R5はCO2R7、YがOの場合、R5はH又はCO2R7、R6はH又はアルキル基、R7はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。)]
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。
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高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】 式(1)及び(2)で示される繰り返し単位をそれぞれ1種以上含む重量平均分子量1,000〜50,000の高分子化合物。
【化1】
[R1、R3はH又はCH3。R4はアルキレン基。R2は式(R2−1)〜(R2−7)から選ばれる酸不安定基。
【化2】
(破線は結合位置及び結合方向を示す。R5はアルキル基、R6、R7はアルキル基。Zは結合する炭素原子と共に単環又は架橋環を形成する酸素原子を含んでもよい2価の炭化水素基、mは0又は1。)]
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて高い感度、解像性、エッチング耐性を与えると共に、優れた基板密着性、現像液親和性を有する。
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新規な温度及びpHに感受性のコポリマー
本発明は、少なくとも3つの型のモノマー単位を含むコポリマーに関し、この3つの型のモノマー単位は、温度感受性単位、親水性単位及び少なくとも1つのpH感受性部分を含む疎水性単位からなり、疎水性モノマー単位は共重合可能な不飽和脂肪酸に由来する。
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剥離紙用剥離剤組成物および剥離紙
【課題】 使用済み剥離紙を回収し、製紙工程で再利用できる基材を用いた時に、基材への密着性が良好で、残留接着率が問題なく、かつ剥離性が容易にコントロールできる剥離剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 シリコーンエマルジョンと特定のラテックスとの組み合わせが、基材への密着性、残留接着率、離解性が良好となりかつ優れた剥離性を有していることを見いだした。
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