説明

国際特許分類[C08F220/10]の内容

国際特許分類[C08F220/10]の下位に属する分類

国際特許分類[C08F220/10]に分類される特許

11 - 20 / 579


【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 得られる硬化物が帯電防止性、硬化物の透明性および高温高湿試験後の透明性に優れる活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 (メタ)アクリロイル基を含有する3級アミン塩(A1)と、(メタ)アクリロイル基を含有しない酸性化合物(a0)と(メタ)アクリロイル基を含有しないアミン(b2)から構成されるアミン塩(A2)、アミン塩骨格を含有せず(メタ)アクリロイル基を含有する化合物(B)、並びに光重合開始剤(C)を必須成分として含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を使用する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】得られる硬化物が透明で耐熱黄変性が高い硬化性樹脂組成物、並びにその硬化物、並びにその硬化物を用いた発光ダイオード用封止材、発光ダイオード用レンズ及びカメラレンズ等の光学部材、並びに前記発光ダイオード用封止材又は発光ダイオード用レンズを用いた発光ダイオードデバイス及び前記カメラレンズを用いたカメラレンズモジュールを提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル系重合体(A)、1つの(メタ)アクリロイル基を有する単量体(B)、特定のポリエステルジオールジ(メタ)アクリレート(C)及び重合開始剤(D)を含有する硬化性樹脂組成物、その硬化物及びその硬化物を用いた光学部材を用いる。 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れた積層体を得ることができる絶縁材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁材料は、突出した複数の第1の電極2bを表面2aに有する第1の接続対象部材2において、複数の第1の電極2b上と複数の第1の電極2b間の隙間X上とに、複数の第1の電極2bを覆うように積層される絶縁層6Aを形成するために用いられる絶縁材料である。本発明に係る絶縁材料は、メタクリロイル基を有する熱硬化性化合物、アクリロイル基を有する熱硬化性化合物、及びビニル基を有する熱硬化性化合物からなる群から選択された少なくとも2種の熱硬化性化合物を含有するか、又はQ値が異なる少なくとも2種の熱硬化性化合物を含有する。本発明に係る絶縁材料は、熱ラジカル発生剤をさらに含有する。 (もっと読む)


【課題】直線性に優れる着色パターンを形成可能な着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2〜4の環状エーテル構造及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位と、式(x)で表される単量体に由来する構造単位とを有する共重合体を含む樹脂であり、式(x)で表される単量体に由来する構造単位の含有量が、該共重合体を構成する構造単位全量に対して、0.1モル%以上10モル%以下である着色感光性樹脂組成物。[式(x)中、Ra1は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Ra2は、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表す。]
(もっと読む)


【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び露光ラチチュードに優れ、パターンサイズの現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(ア)下記一般式(I)又は(II)で表される繰り返し単位(a1)を樹脂(P)中の全繰り返し単位に対して20モル%以上有する樹脂(P)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)膜を露光する工程、及び(ウ)露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。
(もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)で、レジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Lは、2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Xは、単結合又は−NR−を表す。Xは、脂肪族炭化水素基を表す。Wは、脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、カルボニル基等で置き換わっていてもよく、脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、アルキル基等に置き換わっていてもよい。Rは、水素原子又はアルキル基を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】(ア)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)によって表される酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
(もっと読む)


【課題】低圧条件下でα−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体を得ることを可能にする製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】α−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合反応において、イオン液体を重合反応溶媒として用いることより、触媒の重合反応活性が向上し、α−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体が得られ、前記共重合体が、低圧条件下で高い収率で、また分子量の大きいものが得られた。 (もっと読む)


11 - 20 / 579