【課題】熱可塑による成形が可能であり、耐ケミカルクラック性や機械強度が高く、さらには表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂組成物及びこの成形体が得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％と、を含むメタクリル系樹脂（Ａ）：１００質量部と、
以下の（ｉ）及び（ｉｉ）の条件を満たすテトラフルオロエチレン樹脂（Ｂ）：０．０１〜１０質量部と、
を、含有する
メタクリル系樹脂組成物。
（ｉ）数平均分子量（Ｍｎ）が０．５万以上５０万未満
（ｉｉ）平均粒子径が０．５μｍ以上８μｍ以下 （もっと読む）

【課題】炭素系複合材を含有する無電解複合めっき液の分散安定性及びめっき液寿命を向上させることができ、且つ、優れた外観を有するめっき皮膜を得ることができる無電解複合めっき液用分散剤を提供する。
【解決手段】例えばジアリルアミンのハロゲン化水素塩を代表とするグループの第１の化合物、例えばジアリルアミンの硫酸塩を代表とするグループの第２の化合物及び、例えばメチル（メタ）アクリレートを代表とするグループの化合物の群から選択される少なくとも２種のグループの化合物を共重合せしめることにより得られたカチオン性ポリマーを含有しており、炭素系複合材を無電解複合めっき液中に分散せしめるための分散剤であること、を特徴とする無電解複合めっき液用分散剤。 （もっと読む）

【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式（Ｉ）で表される塩とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｌ^２は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。Ｙ^１は、芳香族炭化水素基を含む炭素数６〜３０の２価の有機基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜１２のフッ化アルキル基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】金属イオン含有溶液に含まれる金属イオンを捕捉した後、簡便な操作により解離させて回収することができ、かつ、金属イオンの捕捉に利用した材料を煩雑な操作を経ることなく再利用可能なものとすることができる、金属イオンの分離方法を提供する。
【解決手段】金属イオン含有溶液と、金属原子に配位結合する多座配位子を有するモノマー（Ａ）と親水性のモノマー（Ｂ）とを少なくとも共重合させた共重合体とを接触させ、金属高分子錯体を形成させる錯体形成工程と、上記金属高分子錯体を分離する錯体分離工程と、上記金属高分子錯体から金属イオンを解離させ、当該金属イオンと上記共重合体とに分離する金属イオン解離工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード（ＥＬ）のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）多環芳香族基を有する繰り返し単位（ａ）及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ａ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
（イ）該膜をＡｒＦエキシマレーザーにより露光する工程、及び
（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、光学特性及び機械特性に優れる導電性基板を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される第一の構造単位と、イミド単位を含有する第二の構造単位及び第三の構造単位を有するアクリル系樹脂を含有する樹脂層と、該樹脂層の一面上に設けられた導電層と、を備える導電性基板。
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【課題】耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性（低複屈折性）を有する光学等方性支持板、インナータッチパネル用光学等方性支持板及びインナータッチパネルを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％とを有するアクリル系熱可塑性樹脂で形成される光学等方性支持板１２。




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【課題】本発明の目的は、通常露光（ドライ露光）によるパターニングにおいて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物（Ａ）並びに（メタ）アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）を含有する重合性組成物。下記式中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環Ａ¹〜Ａ³は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、Ｘ、Ｙ及びＺは、各々独立にＣ１〜８アルキル基等を表し、Ｌ¹〜Ｌ⁴は、各々独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ等を表し、ａ、ｂ及びｃはそれぞれ環Ａ¹〜Ａ³における置換基の数であって、環Ａ¹〜Ａ³に含まれる６員環の数をｖとすると、ａ、ｂ及びｃは各々独立に２ｖ＋２以下の整数を表す。
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【課題】高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｂ１）で表される繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂を含有する（一般式（Ｂ１）中、Ｒ_３は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し；Ｙは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｚは、単結合又は２価の連結基を表し；Ａｒは、芳香環基を表し；ｐは１以上の整数を表す。）。
【化１】
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