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国際特許分類[C08F220/10]の内容

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【課題】得られる硬化物が透明性に優れ、高屈折率かつ高光線透過率を両立できる活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート(A)及び下記式(2)で表されるモノ(メタ)アクリレート(B)を含有する活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物。当該組成物を、所定の形状を有する型枠に塗布するか又は流し込んだ後、活性エネルギー線を照射する光学材料の製造方法。
【化1】


〔式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R3及びR5は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、R4及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又は臭素原子を表す。〕
【化2】


〔式(2)において、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R11は、水素原子、フェニル基又はクミル基を表し、nは0〜5の整数を表す。〕 (もっと読む)



本発明は、溶媒含有量が低い、ヒドロキシ官能性コポリマーに基づく水性ヒドロキシ官能性バインダー分散体、このようなバインダーの製造方法、これらに基づくバインダーの組合せ、及びバインダーの塗料での使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、第一の部分の、フリーラジカル発生種アミン錯体を形成することができる有機ホウ素化合物並びに第二の部分の、1種又はそれ以上のフリーラジカル重合が可能な化合物並びにa)少なくとも1種のキノン構造を含有する化合物又はb)少なくとも1種の、少なくとも1個の芳香族環及び1個又はそれ以上の、好ましくは2個の、ヒドロキシル、エーテル及び両方から選択された、芳香族環上の置換基を含有する化合物(但し、2個の置換基が存在する場合、これらは互いにオルト又はパラに位置している)及び過酸化物含有化合物からなる硬化促進剤を含む二部分型重合性組成物である。第二の部分には、更に、2個の部分を接触させた際に、有機ホウ素化合物がフリーラジカル発生種を形成するようにすることができる試薬が含有されていてよい。第一の部分は、更に、フリーラジカル重合が可能な1種又はそれ以上の化合物からなっていてよい。これは、2個の部分の商業的に望ましい体積比を有する組成物を配合することを容易にする。本発明の配合の接着組成物は、低表面エネルギー基体、例えばプラスチックスへの優れた接着を与える。 (もっと読む)


本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、RAFT(可逆付加開裂連鎖移動)重合のような、制御ラジカル重合(CRP)技術を用いて製造される。 (もっと読む)


本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性アクリルポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性ポリマーは、RAFT(可逆付加開裂連鎖移動)重合のような、制御ラジカル重合(CRP)技術を用いて製造される。 (もっと読む)


(a)光化学的に異性化可能なまたは二量化可能な分子が共有結合した、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーと、(b)増感剤が共有結合した、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーと、(c)場合により他のエチレン性不飽和コモノマーと、を含む組成物は、液晶用の重合性配向層を製造するのに格別適している。 (もっと読む)


本発明はリビングフリーラジカル重合技術によるフォトレジストポリマーの調製に関する。立体的にかさばるエステルモノマーが重合成分として用いられる。連鎖移動剤の使用が重合処理条件に含められる。ヘテロ原子を含むポリマー末端基の開裂が記される。本発明は、エッチングおよび/または他の露光後処理工程に耐えるのに十分な厚さでもありながらレジストの底部に光が透過するのを許容するように十分に薄い単層または多層薄レジストを製造するための物質および方法を提供する。 (もっと読む)


【目的】 塗料やコーティング用として使用される水分散液組成物の泡立ちが少なく、貯蔵安定性に優れ、しかも長期の保存後も塗膜の耐水性、耐候性、および基材への付着性が低下することの少ない水性重合体被覆組成物の提供。
【構成】 特定の不飽和基含有高分子量乳化剤0.1〜10重量部の存在下にビニル重合性単量体99.9〜90重量%と、カルボキシル基含有ビニル単量体0.1〜10重量%からなる単量体混合物100重量部を乳化共重合させて得られる共重合体水分散液と、非ビニル重合性シランカップリング剤0.1〜10重量部とからなる水性重合体被覆組成物。 (もっと読む)


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