【課題】スピン塗布やスリット塗布に適していて、微細なパターン形成が可能であり、光硬化後の基板に対する密着性が高くて、レジストの剥離が容易であるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】１官能重合性化合物８７質量％以上と、光重合開始剤とを含むナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高い平滑性を有しながら焼成後にパターンの両端の反りが生じない感光性樹脂層を形成することができ、高精細な電極パターンを形成することのできる感光性組成物、および高精細な電極パターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）ガラス粒子、（Ｃ）（ｃ１）(メタ)アクリル酸アルキルオキシアルキルエステル構成単位、および（ｃ２）カルボキシル基を含有する構成単位を含有する重合体、（Ｄ）光重合性モノマー、および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

架橋されると感圧接着剤及び感圧接着剤物品を提供する、酸官能性（メタ）アクリレートコポリマー及びアジリジン架橋剤を含む接着剤前駆体組成物が開示されている。 （もっと読む）

【課題】
窯業系サイディングボード、特にエフロレッセンスが発生した部位に対して、優れた密着性、良好な耐透水性および耐凍害性を有する合成樹脂エマルジョン組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、（Ａ）（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体及び／又は（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体と共重合可能な不飽和単量体を重合して得られる重合体からなる合成樹脂エマルジョンの樹脂固形分１００質量部に対し、（Ｂ）重合リン酸塩３〜５０質量部を含む合成樹脂エマルジョン組成物に関する。 （もっと読む）

ここでは、酸官能性（メタ）アクリレートコポリマー及びアジリジン架橋剤を含む予備接着剤組成物が説明され、これが架橋されると、感圧接着剤及び感圧接着剤物品が提供される。 （もっと読む）

【課題】 耐衝撃性、耐熱性、耐候性、低吸水性、耐擦傷性に優れた熱可塑性樹脂積層体、および該熱可塑性樹脂積層体を用いた透明性基板材料および透明性保護材料を提供する。
【解決手段】 特定の（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）の少なくとも１種と、特定の脂肪族ビニル構成単位（ｂ）の少なくとも１種を含み、前記（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）と前記脂肪族ビニル構成単位（ｂ）とのモル構成比が１５：８５〜８５：１５であるビニル共重合樹脂（Ａ）が、熱可塑性樹脂（Ｂ）の片面または両面に積層された熱可塑性樹脂積層体、ならびに該積層体からなる透明性基板材料および透明性保護材料。 （もっと読む）

ここでは、酸官能性（メタ）アクリレートコポリマー、及びアジリジン架橋剤を含む予備接着剤組成物を提供し、これが架橋されると感圧接着剤、及び感圧接着剤物品を提供する、ことを含む予備接着剤組成物が説明されている。 （もっと読む）

【課題】透明性及び耐光性などの光学特性、長期耐熱性などの耐久性、誘電率などの電気特性に優れた硬化物を与えるアダマンタン系共重合樹脂を提供する。
【解決手段】カチオン重合性官能基を有する（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）由来の構成単位、及びアダマンタン構造を有する（メタ）アクリル系モノマー（Ｂ）由来の構成単位を含む共重合体で、［モノマー（Ａ）由来の構成単位］／［モノマー（Ｂ）由来の構成単位］のモル比が０．１〜２０、重量平均分子量が１，０００〜１０，０００であるアダマンタン系共重合樹脂である。 （もっと読む）

【課題】２種の複屈折部材が積層された構成、あるいは特定の光学特性を有する微粒子が添加された構成をとらずとも、例えば単層でありながら、少なくとも可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性（逆波長分散性）を示す、新規な組成を有する光学部材を提供する。
【解決手段】複素芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位を構成単位として有する（メタ）アクリル系樹脂（Ｃ）からなる光学部材とする。このような光学部材の形態の一例として、（メタ）アクリル系樹脂（Ｃ）は、固有複屈折が正であり、（メタ）アクリル酸エステル単位を構成単位として有する（メタ）アクリル系重合体（Ａ）と、固有複屈折が負であり、複素芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位を構成単位として有する重合体（Ｂ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上、及びマスク忠実性、特にＬＥＲを低減したパターンを与えることのできるポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定のスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
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