【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、基材成分（Ａ）が、スルホニル基を含む環式基を側鎖に含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、特定構造を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ５）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)および（２）で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位（３）をそれぞれ１種類以上含むことを特徴とする重合体（Ａ）、ならびに感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】高耐熱性を有するアクリル系共重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（１）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示されるモノマーからなる繰り返し単位とメタクリル系モノマー誘導体からなる繰り返し単位とを有する。この高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（２）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示される化合物とメタクリル系モノマーとを、過酸化物重合反応開始剤の存在下で、共重合することにより製造される。 （もっと読む）

熱可塑性又は熱硬化性マトリクス樹脂において用いるための強化用繊維を、（ａ）４０℃より高いＴｇを有する少なくとも１種類のアルキルメタクリレート５〜９０ｐｐｈｗｍ；及び（ｂ）０℃より低いＴｇを有する少なくとも１種類のアルキルアクリレート５〜５０ｐｐｈｗｍ；及び（ｃ）少なくとも１種類のＣ_３〜Ｃ_６不飽和カルボン酸０．１〜２０ｐｐｈｗｍ；並びに（ｄ）（ｉ）少なくとも１種類のネオアルカン酸のビニルエステル５〜５０ｐｐｈｗｍ、及び（ｉｉ）少なくとも１種類のα−モノ置換脂肪酸のビニルエステル１０〜６０ｐｐｈｗｍ、及び（ｉｉｉ）芳香族カルボン酸のビニルエステル５〜５０ｐｐｈｗｍ、及び（ｉｖ）他のコモノマーを含む群から選択される少なくとも１種類の更なるコモノマー；を反応させることによって得られる１種類以上のコポリマー組成物でサイジング処理する。 （もっと読む）

【課題】ヘイズ値を抑制しつつ可撓性に優れ、かつ、フィルムの脆さが改善された光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルムは、一般式（１）で表わされるスチレン−マレイン酸共重合体、


スチレン・ブタジエン・アクリレート共重合ゴム成分、メタクリル酸エステル系の分散剤を含有し、屈折率楕円体がｎｚ≧ｎｘ＞ｎｙの関係を有する。 （もっと読む）

【課題】高い解像性で、ＬＷＲが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にヒドロキシ基含有ナフタレン誘導体基を有する構成単位（ａ１０）、側鎖に酸解離性基を有する構成単位（ａ１１）および側鎖に酸解離性基含有エステル基を有する構成単位（ａ１２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コントラスト比の高い画素を形成することができ、且つ保存安定性にも優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤、及び（Ｆ）溶媒を含有する着色層形成用感放射線性組成物であって、（Ｂ）分散剤として、下記式（１）で表される繰り返し単位、下記式（２）で表される繰り返し単位及び下記式（３）で表される繰り返し単位を有する共重合体を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
（もっと読む）

【課題】高い固定性を有するアクリルエマルション粘着剤および両面粘着テープを提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ）を主成分とし、イタコン酸（ｂ）を含むビニル系不飽和単量体混合物を、水性媒体中において乳化重合させることを特徴とするアクリルエマルション粘着剤であり、ビニル系不飽和単量体混合物が、分子中にカルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基及びアミド基から選択される一以上の置換基を有する単量体（ｃ）並びに／又は親水性のビニル系不飽和単量体（ｄ）を一種以上更に含むアクリルエマルション粘着剤および両面粘着テープ。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物；式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも１つは式（ｂ１−１−０）で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^２は単結合又はアルキレン基、ｐは１〜３の整数である。Ｗは炭素数２〜１０のアルキレン基である。］
［化１］
（もっと読む）

【課題】高解像性、疎密依存性、露光マージンに優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又はアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基、あるいはＲ²、Ｒ³及びＲ⁴が式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。Ａはヘテロ原子を含んでいてもよい環状構造の二価の炭化水素基。ｎは０又は１。） （もっと読む）