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国際特許分類[C08F220/20]の内容

国際特許分類[C08F220/20]に分類される特許

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【課題】
空気中で紫外線照射した場合であっても表面特性に優れた塗膜を形成する事ができ、また、硬化性組成物を塗工した基材を一端保管した後に紫外線照射した場合であっても、表面特性に優れた塗膜を形成する事ができる硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、含フッ素(α置換)アクリル化合物を含む硬化性組成物を硬化する方法であり、(iv)該組成物の温度を50℃以上としてから紫外線を照射して該組成物を硬化する工程を含む方法である。さらに本発明は、該方法が、前記工程(iv)の前に、(i)基材に該組成物を塗工する工程を含む方法、更には、前記工程(i)の後、工程(iv)の前に、(ii)該組成物を乾燥する工程、及び(iii)該組成物の温度を50℃未満とする工程を含む方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】プラスチック基材、特にABS基材及びポリプロピレン基材のいずれに対しても密着性が良好であり、かつ耐水性に優れた塗膜が得られる、プラスチック基材用の水性被覆材を提供する。
【解決手段】シアノ基含有ビニル系単量体(a1)と、炭素数が4以上の水酸基含有ビニル系単量体(a2)と、その他共重合可能なビニル系単量体(a3)とを含む単量体混合物(A)を乳化重合して得られたエマルションに、シアノ基含有ビニル系単量体(b1)と、炭素数が4以上の水酸基含有ビニル系単量体(b2)と、酸基含有ビニル系単量体(b3)、その他共重合可能なビニル系単量体(b4)とを含む単量体混合物(B)をさらに加え乳化重合して得られ、重量平均分子量が80000以下の水性エマルション(I)と、塩素化ポリオレフィン樹脂(II)と、を含むことよりなる。 (もっと読む)


【課題】光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構造体に要求される条件として、表面形状のみならず、表面の物性に関するものも見出し、特に表面耐傷性等の機械的強度、汚れの付き難さ等を付与した構造体を提供すること、また、かかる特定の構造体を形成させる材料を提供すること。
【解決手段】表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって、(メタ)アクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであって、該(メタ)アクリレート化合物が、該(メタ)アクリレート化合物全体に対して、53質量%以上のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする構造体。 (もっと読む)


【課題】金及び銀に対して接着性に優れる樹脂ペースト組成物及び半導体装置を提供する。
【解決手段】(A1)1分子中に、2個のアクリロイルオキシ基と、炭素数5〜20の脂環式構造又は炭素数4〜20の脂肪族構造とを有するアクリロイルオキシ基含有化合物、(A2)1分子中に、2個のメタクリロイルオキシ基と、炭素数5〜20の脂環式構造又は炭素数4〜20の脂肪族構造とを有するメタクリロイルオキシ基含有化合物、(B)重合開始剤、及び(C)充填材を含有する樹脂ペースト組成物。支持部材、支持部材の表面に設置された半導体素子、支持部材の表面と半導体素子との間に介在して支持部材と半導体素子とを固定する上記樹脂ペースト組成物の硬化物、及び支持部材の一部と半導体素子とを封止する封止材を有する半導体装置。 (もっと読む)


【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を6μm未満のピッチで露光する際に、6μmピッチ露光時の最適パワーに対し、100%未満であり、かつ〔(ピッチ(μm)×75/6+25)−30〕〜〔(ピッチ(μm)×75/6+25)+15〕%のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が10未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が6.0以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、[A]下記式(1)で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、[B]フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】重合性化合物および重合開始剤を含有する光硬化性組成物を基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、該光硬化性組成物をモールドまたは基材で挟んだ状態で光照射することを含むパターン形成方法であって、光硬化性組成物の25℃における粘度が12〜100mPa・sであり、光硬化性組成物は、液滴を吐出により、基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、前記光硬化性組成物の吐出時の温度が28℃以上である、パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
1質量%以上、89質量%以下のヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート由来の構造単位(a)、10質量%以上、98質量%以下のカルボキシル基含有単量体(B)由来の構造単位(b)、及び、1質量%以上、89質量%以下のスルホン酸基含有単量体(C)由来の構成単位(c)、を必須構造単位として有する共重合体である。 (もっと読む)


【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
1質量%以上、89質量%以下のヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート由来の構造単位(a)、10質量%以上、98質量%以下のカルボキシル基含有単量体(B)由来の構造単位(b)、及び、1質量%以上、89質量%以下のポリアルキレングリコール系単量体(C)由来の構成単位(c)、を必須構造単位として有する共重合体である。 (もっと読む)


【課題】BMCやSMCなどの成形材料に添加したときの混練性に優れ、また、添加量が少なくても良好な増粘効果を得ることができる重合体粒子、及びプレス成形用成形材料を提供する。
【解決手段】重合体粒子は、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーと、架橋性モノマーとを含むモノマー混合物を重合して得られる重合体粒子であって、前記モノマー混合物が、前記架橋性モノマーを0.3〜1.0重量%含むものであり、架橋性モノマーが、炭素数が4以上であるα,ω−直鎖アルカンジオールジ(メタ)アクリレートであり、25℃でメタクリル酸メチルに対する24時間後の膨潤度が5〜8であり、且つ浸漬10分後から24時間後までの体積増加率が10%以下のものである。プレス成形用成形材料は、前記重合体粒子が配合されているものである。 (もっと読む)


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