説明

国際特許分類[C08F220/54]の内容

国際特許分類[C08F220/54]の下位に属する分類

国際特許分類[C08F220/54]に分類される特許

71 - 77 / 77


【課題】多分散指数(PDI)の低いポリマーを製造するためのフリーラジカル重合プロセスおよびこれによって得られるポリマーを提供する。
【解決手段】本発明に係るフリーラジカル重合プロセスは、窒素含有モノマーである少なくとも1種の反応性モノマーと、少なくとも1種の開始剤と、溶剤としての少なくとも1種のイオン液体とを重合させることにより、PDIが1.5未満と低いポリマーを得るものである。このフリーラジカル重合プロセスにおける反応時間は、僅か3時間以内である。 (もっと読む)


本発明は、特定の中和剤で中和された、ポリエチレングリコール(メタ)アクリラートモノマー、カチオン性モノマー、及び場合によっては両性、アニオン性及び/又は親水性の非イオン性モノマーを含有する、新規のエチレン性コポリマーに関する。また本発明は、前記コポリマーを含有する特定の化粧品用又は製薬用組成物、並びに該コポリマーの調製方法、及びそれらを使用する美容処理方法に関する。 (もっと読む)


たとえば皮膚のような哺乳動物の身体組織に使用するのに適切な可塑性の架橋性重合体ヒドロゲルであって、一またはそれ以上のペンダントアニオン性基を含む第1のモノマーと、一またはそれ以上のペンダントカチオン性基を含む第2のモノマーとから形成された架橋性共重合体を含み、前記共重合体に含まれる前記モノマーの相対量は、アニオン性基とカチオン性基とが実質的に等モル量になるような量である。 (もっと読む)


【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板SUB上に成膜した金属膜MTを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストNRGを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクNMKを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜MTをエッチングして除去した後、ホトレジストNRGを除去する。 (もっと読む)


【課題】 重合時の安定性が良好で、機械的安定性、化学的安定性、貯蔵安定性、造膜性、耐溶剤性に優れ、紙の加工剤、特に建材紙用バインダー樹脂として使用した際に、印刷適性、特に水性インキに対する印刷適性に優れる紙加工用水性樹脂分散体を提供する。
【解決手段】 固形分100重量部において、シアノ基含有エチレン性不飽和単量体(A)15〜25重量部と、スチレン(B)5〜30重量部と、エチレン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル(C)5〜15重量部と、アミド基含有エチレン性不飽和単量体(D)2〜8重量部、及び、その他のエチレン性不飽和単量体(E)22〜73重量部とからなり、且つ水性媒体中で乳化重合してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】細胞を播種する前及び/又は後に光照射することにより、特定の領域においてその細胞接着性を高いコントラストと可逆性を持って局所的に亢進または減少させることが可能な温度・光応答性表面を有する細胞培養基材及びこれを構成する温度・光応答性組成物を提供する。これによって、培養細胞から細胞機能を損傷することなく、所望の細胞又は細胞群のみを選択的に分別回収する、あるいは所望のパターンに沿って培養するための煩雑な操作を要しない手段を提供する。
【解決手段】温度応答性ポリマーを構成するアクリルアミド系モノマー成分と、光応答性を有するスピロベンゾピラン及び/又はスピロオキサジン残基を有するモノマー成分から構成され、光照射及び/又は温度変化に応答してその細胞接着性が変化する温度・光応答性コポリマーを少なくとも一つの成分として含む温度・光応答性組成物。 (もっと読む)


マイクロエマルジョンから感熱性ポリマーを調製する方法を提供する。そのマイクロエマルジョンは感熱性ポリマーを形成できるモノマーと重合性界面活性剤を含む。マイクロエマルジョンには、作製されたポリマーの特性を変えるために追加のコモノマーを含めることができる。得られる感熱性ポリマーはナノポーラスであってよい。本発明によるポリマーは、創傷被覆としての使用、または細胞の移植部位への送達のための使用を含む医療施用での使用に適している。 (もっと読む)


71 - 77 / 77