国際特許分類［C08F228/02］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ１つの炭素―炭素二重結合を含有する１個以上の不飽和脂肪族基をもち，その少なくとも１つがいおうに対する結合またはいおう含有複素環によって停止されている化合物の共重合体 (59) | いおうに対する結合によって停止されている単量体 (50)
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チオエーテル (6)
国際特許分類［C08F228/02］に分類される特許
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レジスト材料及びパターン形成方法
【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料は、［化１］の一般式で表わされる第１のユニットよりなる共重合体を含むベース樹脂を有する。
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レジスト材料及びパターン形成方法
【課題】 波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】 レジスト材料は、［化１］の一般式で表わされる第１のユニットからなる共重合体を含むベース樹脂を有する。
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レジスト材料及びパターン形成方法
【課題】 波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料の提供。
【解決手段】 一般式（１）で表わされるユニットを含むベース樹脂を有するレジスト材料。
（１）
但し、Ｒ5 は水素原子、炭素数１以上で且つ２０以下の直鎖状のアルキル基、分岐状若しくは環状のアルキル基、フッ素化されたアルキル基、又は酸により脱離する保護基であり、Ｒ6 は環状エステル化合物を有する基、水酸基を含む脂環族化合物を有する基、又はヘキサフルオロイソプロピルアルコールを含む化合物を有する基。
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アミノ基を含有するビニルアルコール系重合体
【解決手段】 下記の化１で表される単位を０．０１〜３０モル％含有するビニルアルコール系重合体。
【化１】
（ここで、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は水素原子または置換基を有していてもよい炭素数８以下の炭化水素基を表し、Ｓは硫黄原子を表し、Ｘはアミノ基を含有する一価の基を表す。）
【効果】 本発明によれば、機能性に優れたアミノ基を含有するビニルアルコール系重合体が提供される。
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