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国際特許分類[C08F230/08]の内容

国際特許分類[C08F230/08]に分類される特許

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【課題】従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びにこれらの製造方法に使用する表面改質材料を提供する。
【解決手段】基板201上で高分子ブロック共重合体をミクロ相分離させて、連続相204中で複数のミクロドメイン203を規則的に配列させる高分子薄膜の製造方法において、前記連続相に対応するように前記基板にシルセスキオキサングラフト膜を形成すると共に、前記ミクロドメイン203の配列に対応するように前記シルセスキオキサングラフト膜とは化学的性質の相違するパターン部を形成する工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性に優れる共役ジエン系重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体、及び、該共役ジエン系重合体と補強剤とを含有する共役ジエン系重合体組成物を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下記式(1)で表される化合物に基づく構成単位とを有する共役ジエン系重合体。
1Si(−R2−A)m33-m (1)
(式中、mは1〜3の数を表し、R1は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、R2はヒドロカルビレン基を表し、R2が複数ある場合、複数あるR2は同一でも異なっていてもよく、Aは置換アミノ基を表し、Aが複数ある場合、複数あるAは同一でも異なっていてもよく、R3はヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基又は置換アミノ基を表し、R3が複数ある場合、複数あるR3は同一でも異なっていてもよい。) (もっと読む)


【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも1種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を50℃以上150℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを50℃以上150℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して50質量%より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位(S1)と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位(S2)とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
(B)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 ミクロンサイズの平均粒子径を有し、粒度分布が狭く、十分に架橋されていて耐溶剤性、耐熱性に優れる架橋重合体微粒子及びその製造方法の提供。
【解決手段】 (α)加水分解性シリル基含有ビニル単量体(a)に由来する構造単位を0.5質量%以上及び20℃の水溶解度が1.0g/100ml以下の単官能の疎水性ビニル単量体(b)に由来する構造単位を10質量%以上の割合で有するビニル系共重合体からなり、(β)加水分解性シリル基の加水分解縮合反応によって架橋された、(γ)平均粒子径0.7〜8μmの架橋重合体微粒子、並びに前記ビニル単量体(a)及び疎水性ビニル単量体(b)を用いて分散安定剤の存在下にビニル単量体及び分散安定剤を溶解するが、生成するビニル系共重合体を溶解しない親水性溶媒中で重合して重合体微粒子を製造し、ビニル単量体の重合時又は重合後にビニル系共重合体中の加水分解性シリル基の少なくとも一部を加水分解縮合反応させて前記架橋重合体微粒子を製造する方法。 (もっと読む)


【課題】帯電極性の変動が抑制された帯電粒子が得られる高分子分散剤を提供する。
【解決手段】構成単位(A)と構成単位(B)と構成単位(C)とを含む共重合体からなる高分子分散剤を用いた2種の電気泳動粒子を備え、2種の電気泳動粒子の母粒子が、互いに酸性基を持ち且つ互いに異なる酸価の酸性高分子を含んで構成される母粒子、又は一方が酸性基を持つ酸性高分子を含んで構成され、他方が塩基性基を持つ塩基性高分子を含んで構成された母粒子である電気泳動粒子分散液。
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【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、かつ、硬化したパターンの耐溶剤性が良好であるナノインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】(A)重合性化合物および(B)光重合開始剤を含有し、前記(A)重合性化合物として、(A1)フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性化合物および、(A2)芳香族基を有する重合性化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


本開示は、基材への向上した接着性を示す新規光配向(コ)ポリマー材料を規定する。この(コ)ポリマー構造は、少なくとも1つの光化学活性発色団および少なくとも1つの接着促進性基を含む。該光配向(コ)ポリマー材料から作られる少なくとも1つの光配向層を含む製造物品、光学素子、眼科用素子および液晶セル、ならびに形成方法も開示する。本開示のさらに他の実施形態は、光学素子、例えば、眼科用素子、表示素子、窓、鏡、能動液晶素子または受動液晶素子を規定する。前記光学素子は、基材と、該基材の表面の少なくとも一部分の上の第一の少なくとも部分的な層とを含む。
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【課題】 かご型シルセスキオキサン(POSS)及び親水性コモノマーから作成されるポリマー膜を提供する。
【解決手段】 複合膜は、ろ過膜、及びろ過膜の表面上の層を含む。この層は、少なくとも1つの頂点に結合した親水性部分を有するかご型シルセスキオキサン(POSS)誘導体を含んだポリマーを含む。複合膜を作成する方法は、ろ過膜の表面に、POSS化合物、親水性コモノマー、及び光開始剤を含んだ光重合可能組成物を塗布するステップを含む。この組成物を硬化させてろ過膜のうえに親水性層を形成する。 (もっと読む)


【課題】
酸性糖類を基材に安定して捕捉する方法、およびその基材。
【解決手段】
酸性糖類を基材に安定して捕捉する方法であって、基材の一方の面側に、親水性基を有するモノマーと、架橋可能な官能基を有するモノマーと、酸性糖を捕捉可能な化合物を固定化するための官能基を有するモノマーとの共重合体で構成される樹脂層と、前記酸性糖を捕捉可能な化合物で構成される固定層とが、この順に積層されてなることを特徴とする酸性糖類捕捉方法および基材。
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