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国際特許分類[C08F232/08]の内容

国際特許分類[C08F232/08]に分類される特許

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【課題】高感度で、現像後のパターン倒れの発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスの提供。
【解決手段】(A)下記一般式(A0)で表される部分構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程(4)を有するパターン形成方法。


上記一般式中、Arは樹脂(A)の主鎖と直接又は間接的に結合する芳香環基を表し、Rは水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。 (もっと読む)


【課題】接着強度及び水蒸気バリア性に優れ、かつ高温高湿及び太陽光に長時間晒されても透明性が低下しない太陽電池用接着シートを提供する。
【解決手段】太陽電池モジュール内における太陽電池素子を固定する接着シートであって、ガラス転移温度が55℃以下である環状オレフィン系共重合体と、有機過酸化物とを含む架橋性組成物をシート状に成形してなることを特徴とする太陽電池用接着シートである。環状オレフィン系共重合体としては、エチレンと環状オレフィンとの共重合体、あるいはエチレンとノルボルネンとのランダム共重合体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード(EL)のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(ア)多環芳香族基を有する繰り返し単位(a)及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(b)を有する樹脂(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
(イ)該膜をArFエキシマレーザーにより露光する工程、及び
(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 透明性であり、かつ、熱変形しにくい、すなわち、線膨張係数が低い組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 環状オレフィンポリマーと特定の構造を有する、架橋性重合体の架橋体との組成物。 (もっと読む)


【解決手段】特定の環状オレフィン官能性シロキサン、又はこのシロキサンと特定の環状オレフィン化合物とを付加重合することにより得られ、特定の環状オレフィン官能性シロキサンに由来する構造単位の割合が付加重合体中5〜100モル%であり、THFを溶媒とするGPCで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜2,000,000である高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
【効果】本発明の重合体は、優れた気体透過性、熱安定性、溶解性を有し、更には、機械的強度、特に柔軟性に優れる。また、本発明の重合体は、特定の多成分系触媒を用い、環状オレフィンのビニル付加重合により容易、且つ、高効率で製造することができる。 (もっと読む)


【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角により、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制される液浸露光用感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】[A]フッ素原子及びアルカリ解離性基を有し、主鎖に脂環式基を有する重合体、及び[C]酸発生体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物。[A]は、下記式(1)の構造単位(I)を含むことが好ましい。
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【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び/又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、(1)側鎖に酸発生基を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(2)側鎖に縮合芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(3)アセナフチレン単位、(4)インデン単位の繰り返し単位を含有し、(1)の繰り返し単位は0.5〜10モル%、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は50〜99.5モル%を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス(LER)の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 (もっと読む)


【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び/又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、(1)側鎖に酸発生基を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(2)側鎖に縮合芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(3)アセナフチレン類単位、(4)インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、LERの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 (もっと読む)


【課題】 無機粒子を環状オレフィンポリマーに分散させるための表面修飾剤として用いることができる可能性がある従来の共重合体は、パラジウム化合物のような高価な触媒を用いる必要があるため、製造コストが高い。
【解決手段】 環状オレフィンポリマーとの親和性が高く、無機粒子に結合させることができる共重合体。 (もっと読む)


【課題】耐熱性および誘電特性に優れた厚板を作成でき、回路基板加工時の基板の反りを低減した成形体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)で示される構造単位Aならびに特定構造単位を含む組成物を塊状重合して構成された付加型の環状オレフィン系樹脂、を含むことを特徴とする成形体。
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