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国際特許分類[C08F234/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 複素環中に1個以上の炭素―炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の共重合体 (27)

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環中に酸素を含有する単量体 (16)
環中にいおうを含有する単量体

国際特許分類[C08F234/00]に分類される特許

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【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高分子電解質及びその製造方法、このような高分子電解質の原料として使用することが可能なイミドモノマ、並びに、このような高分子電解質を用いた電池を提供すること。
【解決手段】高分子の主鎖又は側鎖に、脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を備えた高分子電解質及びこれを用いた電池。重合反応又は重合反応+フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能なイミドモノマ。重合反応又は重合反応+フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能な1種又は2種以上のイミドモノマを含む原料を重合させる重合工程を備えた高分子電解質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光の伝搬損失の発生を抑制できる感光性樹脂組成物、光導波路フィルムおよび光導波路フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、(A)置換または無置換の環状オレフィン樹脂と、(B)(A)とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーと、(C)光酸発生剤と、を備える。このような感光性樹脂組成物は、屈折率が異なる領域を含むフィルムに使用され、たとえば、光導波路フィルムに使用される。 (もっと読む)


本発明は、レジスト下層膜用芳香族環含有重合体およびこれを含むレジスト下層膜組成物を提供する。
前記芳香族環含有重合体は、化学式1で表される単位構造を含む。前記化学式1の定義は、明細書に記載されたとおりである。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、透明性、低吸水性、成形性及び靭性に優れ、かつ線膨張係数の小さい成形体となりうる環状オレフィン/α−オレフィン付加共重合体、並びにこの環状オレフィン/α−オレフィン付加共重合体からなる成形体、光学フィルム及び、液晶またはEL表示素子用透明導電性フィルムを提供することにある。
【解決手段】 環状オレフィン(A)単量体単位と炭素数5以上のα−オレフィン(B)単量体単位との合計100モル%中、構造単位(A)の割合を80〜99モル%、構造単位(B)の割合を1〜20モル%にして共重合をすることによって、該共重合体は、耐熱性、透明性、低吸水性、成形性及び靭性に優れ、かつ低い線膨張係数を有し、光学材料として非常に有用な材料を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】本発明の環状オレフィン系付加共重合体は、炭素数6のアルキル基を置換基として有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位(1)と、炭素数7〜12のアルキル基を置換基として有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位(2)とを有し、必要に応じてその他の環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位(3)を有する。
【効果】本発明によれば、溶融成形加工性、透明性および耐熱性に優れ、吸水性および誘電率が低く、金属含有量が少なく、光学フィルムなど光学部品用途に好適に使用できる環状オレフィン系付加共重合体、ならびに該付加共重合体を、少ない触媒使用量で、高収率で製造できる環状オレフィン系付加共重合体の製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】均一に形成されたフォトレジスト膜の提供。
【解決手段】 フォトレジスト重合体、フォトレジスト組成物及びこれを用いた半導体素子の製造方法に関し、より詳しくは、フッ素元素を含むフォトレジスト重合体と、前記フォトレジスト重合体及び有機溶媒を含み表面張力が減少したフォトレジスト組成物とを提供し、これを用いて被エッチング層パターン全面に均一なフォトレジスト膜を形成することにより、後続イオン注入工程を安定に行い得る。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンエッジラフネス、ドライエッチング耐性が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】(A)少なくとも2種類の特定な繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】光安定性を向上させることができるプラスチック製光学素子と、それを用いた光ピックアップ装置を提供する。
【解決手段】含フッ素アクリレート類と、スチレン類、α−オレフィン類及び環状オレフィン類から選ばれる少なくとも1種のビニルモノマーとをラジカル重合開始剤の存在下で共重合させることにより得られる下記一般式で表される重合体を含む樹脂組成物を成型してなる。
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【課題】光安定性を向上させ、その特性を長時間に亘って維持することができるプラスチック製光学素子と、それを用いた良好な光ピックアップ装置の提供。
【解決手段】炭素原子数2〜20のα−オレフィンと、テトラシクロ[4.4.0.125.1710]−3−ドデセン等の環状オレフィンからなる単量体組成物とを、ジフェニルメチレン(5,6−ジメトキシインデニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリドのような特定の遷移金属化合物を含む重合触媒の存在下で付加重合させることにより得られる重合体を含む樹脂組成物を成型してなることを特徴とする光学素子。 (もっと読む)


【解決手段】 インデン類と、ヒドロキシ基もしくはエポキシ基を有すると共に重合性2重結合を有する化合物とを共重合してなる高分子化合物を含有することを特徴とする下層膜形成材料。
【効果】 本発明の下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、200nm以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるCF4/CHF3系ガス及びCl2/BCl3系ガスエッチングの速度も通常のm−クレゾールノボラック樹脂よりも遅く、高いエッチング耐性を有する。また、パターニング後のレジスト形状も良好である。 (もっと読む)


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