【課題】 高分子固体電解質のイオン導電率の温度依存性を抑止するとともに、高いイオン導電率を示す高分子固体電解質用ベースポリマーおよびこれを利用した高分子固体電解質を提供すること。
【解決手段】下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒはメチル基又はエチル基であり、ｎは５〜１００の数である）
で表される繰り返し単位を有する共重合体およびこれとリチウム塩とで構成される高分子固体電解質。 （もっと読む）

【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高酸素透過電解質及びその製造方法、並びに、このような高酸素透過電解質の原料として使用することが可能なスルホンイミドモノマを提供する。
【解決手段】（Ａ）式で表される構造を備えた高酸素透過電解質。但し、Ｐは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｐ'は脂環式構造、又は、脂環式構造及び鎖式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｑは、直接結合、又は、鎖式構造若しくは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。ａは、１以上の整数。ｎは、１以上の整数であり、繰り返し単位の中のｎは互いに異なっていても良い。Ｒ¹は、ＯＨ又はスルホンイミド基を介したパーフルオロカーボン基（−ＮＨＳＯ₂Ｒf¹）。
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【課題】液浸露光に適用した場合のマスク形状再現性、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）特定の混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】環状カーボネートを有する繰り返し単位と、酸によってアルカリ現像液に可溶になる繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光する工程と、加熱処理後に現像液を用いて上記レジスト膜を現像してポジ型パターンを形成する工程と、その後に熱あるいは酸と熱によってポジ型パターンを架橋硬化させ、反転用膜形成用組成物に含まれる有機溶媒に不溶でかつアルカリ現像液に可溶の膜に変質させる工程と、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程と、上記ポジ型パターンをアルカリ現像液で溶解除去する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジネガによる画像反転を行うことでレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、１９３ｎｍ以下、特に１５７ｎｍ用であって、このような短波長でも高透明性であるばかりでなく、例えば優れたプラズマエッチング耐性および接着性を含むその他鍵となる特性をも有する別の新規なレジスト組成物の提供である。
【解決手段】本発明は、フッ素含有コポリマーであって、（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含む少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位と、（ｉｉ）ＣＨ₂＝ＣＨＯ₂ＣＲ¹⁵、ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂Ｒ¹⁵およびＣＨ₂＝ＣＨＯＲ¹⁵からなる群から誘導された反復単位であり、式中、Ｒ¹⁵は、炭素原子が約４個から約２０個の飽和アルキル基であり、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じであるという条件付きで、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有している反復単位と、を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーに関する。 （もっと読む）

テキスタイル、医療機器、包装材料など、またはそれらの上に被膜を形成する際に使用するための抗菌材料を提供する。いくつかの実施形態において、抗菌材料を、物品のバルク修飾のために利用してもよい。抗菌材料は、ビニル官能基および／またはアクリレート官能基を有するフラノンを、場合によってはビニル基および／またはアクリレート基を有する別のモノマーと組み合わせて含む。実施形態において、本開示は、物品を準備するステップと、少なくとも１つのビニル基またはアクリレート基を有する第１のモノマーと第２のモノマーを組み合わせて、物品と接触させるステップと、第１のモノマーおよび第２のモノマーを重合するステップとを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたスチレン系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】クマリン系化合物単位２５〜５８．４質量％および芳香族ビニル化合物単位４１．６〜７５質量％からなり、数平均分子量が５０００〜３００００００であるクマリン系化合物−芳香族ビニル化合物共重合体の製造方法であって、クマリン系化合物および芳香族ビニル化合物を、ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物などのルイス酸の存在下でラジカル重合する共重合するクマリン系化合物−芳香族ビニル化合物共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性と耐熱性及び接着力は勿論、現像液に容易に溶解しないＡｒＦ感光膜樹脂及びその製造方法を提供することを目的とし、さらに、この新規のＡｒＦ感光膜樹脂に用いる共重合体及び共重合体を製造する方法、及び、前記ＡｒＦ感光膜樹脂を含む感光膜及び感光膜の製造方法を提供する。また、前記ＡｒＦ感光膜樹脂を含むフォトレジストを利用した半導体装置及び半導体装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】遠紫外線領域で用いることができる新規のフォトレジスト物質であり、ビシクロアルケン誘導体と無水マレイン酸、又はビニレンカルボネートを共重合させた３，０００〜１００，０００分子量の共重合体であり、本発明の共重合体は優れたエッチング耐性と耐熱性及び接着性を有するだけでなく、現像液のＴＭＡＨ溶液を用いて現像することが可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低反射率特性に優れた塗膜を形成することができる反射防止フィルム形成に優れた共重合体等を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位２０〜７０モル％、
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造単位０．１〜３０モル％、および
（ｃ）下記一般式（３）で表される構造単位１０〜７０モル％、
を含有し、かつ、重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００である共重合体。
【化１】


（一般式（１）中、Ｒ¹は含フッ素アルキル基を表す。）
【化２】


（一般式（２）中、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。）
【化３】


（一般式（３）中、Ｒ⁴〜Ｒ⁷は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、ｍは１または２を表す。） （もっと読む）

【課題】透明性と耐湿熱性とを有するコポリマーを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるモノマー（Ａ）由来の繰り返し単位、１，４−ジオキセン類（Ｂ）由来の繰り返し単位、及び末端にカルボキシル基、ヒドロキシル基およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１つの基を有するビニルモノマー（Ｃ）由来の繰り返し単位を含む非晶質コポリマー。一般式（１）


（Ｒ¹及びＲ²は各々独立に、水素原子（¹Ｈ）または重水素原子（²Ｈ）を表す。Ｒ³は、水素原子（¹Ｈ）、重水素原子（²Ｈ）、アリール基またはアルキル基である。） （もっと読む）