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国際特許分類[C08F28/02]の内容

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【目的】 本発明の目的は、高い吸湿性、放湿性を有し、かつその吸湿、放湿性能を短時間で発現することのできる吸脱湿剤を提供することにある。
【解決手段】
−SO3で表される基を1.5mmol/g以上有する重合体からなる吸脱湿剤。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なネガティブパターン形成用レジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】スルホンアミド基が酸不安定基で置換された式(1)の繰り返し単位a1及び/又はa2を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、露光し、有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
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【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1は、式(a−g1)で表される基;環Wは、置換基を有していてもよいスルトン環;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基;X10は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基を表す。] (もっと読む)


【課題】CD均一性(CDU)に優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、式(B1)で表される塩と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;nは1〜3の整数;Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は単結合又は2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1は、式(a−g1)で表される基;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、s=0の時、A11は単結合ではない;X10は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基;環WRは、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたマスクエラーファクター(MEF)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は水素原子又はメチル基;nは1〜3の整数;A1は式(a−g1)で表される基;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、s=0の時、A11は単結合ではない;X10は、酸素原子を含む基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す;環Wは、置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、式(B1)で表される塩とを含有するレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;Rは、酸に不安定な基;Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は、単結合又は2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基;Z+は、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。環Wは置換基を有していてもよい炭素数3〜34のラクトン環を表す。] (もっと読む)


【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1):


(式中、R、Rはフルオロアルキル基を、Rは水素原子等を、R6は単結合、2価の有機基を表す。)で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 (もっと読む)


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