国際特許分類[C08F32/06]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 炭素環系に1個以上の炭素−炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の単独重合体または共重合体 (242) | 縮合環をもたない単量体 (50) | 2個以上の炭素―炭素二重結合を含有するもの (2)
国際特許分類[C08F32/06]に分類される特許
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膜形成用組成物入り容器
【課題】パーティクルを生じにくい膜形成用組成物入り容器を提供すること。
【解決手段】本発明の膜形成用組成物入り容器は、分子内に、アダマンタン型のかご型構造を含む部分構造と、重合反応に寄与する重合性反応基とを有する重合性化合物を含む液状の膜形成用組成物を容器に収納してなるものであって、前記容器の前記膜形成用組成物を収納する収納部の収納量をV[cm3]、前記収納部の内表面積をS[cm2]としたとき、S/V≦0.85の関係を満足することを特徴とする。
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レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
【解決手段】 下記一般式(1)で示される部分構造を有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化1】
【効果】 本発明の液浸リソグラフィーによるパターン形成方法は、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液(アルカリ現像液)に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。
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