国際特許分類[C08F36/20]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1個が2個以上の炭素−炭素二重結合を含有する化合物の単独重合体または共重合体 (325) | 不飽和脂肪族基が2個の炭素―炭素二重結合を含有する単量体 (252) | 非共役系 (47)
国際特許分類[C08F36/20]に分類される特許
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立体画像表示装置用複屈折レンズ材料、及び、立体画像表示装置用複屈折レンズの製造方法
【課題】 光学特性、耐久性、生産性、特に生産性に優れた立体画像表示用に用いられる複屈折レンズ材料を提供し、併せて生産性に優れた立体画像表示用複屈折レンズの製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも1つ以上の重合性官能基を有する液晶化合物、及び、少なくとも1つ以上の重合性官能基を有する非液晶化合物を含有する立体画像表示用複屈折レンズ材料及び当該立体画像表示用複屈折レンズ材料を用いた立体画像表示用複屈折レンズの製造方法。
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新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物の重合体の製造方法並びに該含フッ素化合物の重合体からなる光学素子、機能性薄膜及びレジスト膜
【課題】原料として入手が容易なオクタフルオロシクロペンテンからの合成が可能であり、且つフッ素含有量が多い新規な含フッ素化合物、並びに該含フッ素化合物をラジカル重合して得られ、透明性が高く、汎用溶媒に溶解できる新規な重合体の製造方法並びに該含フッ素化合物の重合体からなる光学素子、機能性薄膜及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】オクタフルオロシクロペンテンとアリルアルコール又はその誘導体を反応させて合成される式(1)で表される構造を有する含フッ素化合物、及び式(1)で表される構造を有する含フッ素化合物のクライゼン転位反応によって得られる式(2)で表される含フッ素化合物、並びにそれらの含フッ素化合物をラジカル重合して製造される重合体。
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フッ素系ポリマー複合粒子の製造方法
【課題】 本発明は、粒子径の小さいフッ素系ポリマー複合粒子が得られるとともに、粒子径やフッ素系ポリマー層の膜厚を均一に制御することが可能なフッ素系ポリマー複合粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭化水素系アレンモノマーを用いてリビング分散重合を行うことで樹脂コア粒子を作製する工程1、前記樹脂コア粒子及びフッ素含有アレンモノマーを用いてリビング分散重合を行うことで樹脂コア粒子の表面にフッ素系ポリマー層を形成する工程2を有するフッ素系ポリマー複合粒子の製造方法。
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含フッ素ジエン化合物、重合性液晶組成物、光学異方性材料、および光学素子
【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】新規な含フッ素ジエン化合物は下式で表される。この化合物を含有する重合性液晶組成物が調製され、この化合物を重合することにより光学異方性材料、光学素子が得られる。
CF2=CFCXYCH(CZ-O-W1-(CH2)m-R1-(CH2)n-(O)i-W2-(E1)h-W3-(E2)j-(E3)k-E4-R2)CH2CH=CH2
式中、R1は単結合、炭素数1〜12のアルキレン基等、R2は炭素数1〜8のアルキル基等、E1は1,4−フェニレン基、E2,E3,E4は各々独立に、1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基、またはトランス−2,6−デカヒドロナフタレニル基、CZはメチレン基等を示す。
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カルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル及びその製造方法
【課題】塗料・コーティング材料、土木建築材料、電子材料、オプトエレクトロニクス材料、医療材料等の分野において好適な新規なカルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステルを提供する。
【解決手段】式(I)で表されるカルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル。
(式(I)中、Rは水素原子又はメチル基、Aはアルキレン基を示す。)
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重合体、この重合体を用いた有機薄膜及びこれを備える有機薄膜素子
【課題】低LUMOであり、高い電荷輸送性を有し、しかも溶媒に対する高い溶解性を示す重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体。
[式中、Ar0は、置換基を有していてもよい芳香環又は置換基を有していてもよい複素環を示し、X1及びX2は、同一又は異なり、酸素原子又は硫黄原子を示す。]
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絶縁膜形成用重合体の重合方法、絶縁膜形成用重合体、有機絶縁膜用材料及び有機絶縁膜並びに電子デバイス
【課題】 ゲル化せずに安定した品質が得られる絶縁膜形成用重合体の重合方法、また、低誘電率、高耐熱性、高機械強度を兼ね備えた有用な有機絶縁膜用材料、また、低誘電率、かつ高耐熱性、高機械強度に優れた有機絶縁膜及びその有機絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 重合性不飽和結合を含む基と、アダマンタン構造を最小単位とするカゴ型構造を有するカゴ型構造化合物を、少なくとも2段階以上の多段階反応により重合する方法であって、各段階の反応において、該1段階前の反応より、反応温度を1℃以上低温で重合することを特徴とする、絶縁膜形成用重合体の重合方法。前記重合方法で重合して得られた絶縁膜形成用重合体を含む有機絶縁膜用材料。前記有機絶縁膜用材料を、加熱、活性エネルギー線照射、又は加熱と活性エネルギー線照射により、架橋反応させて得られる有機絶縁膜。前記有機絶縁膜を具備する、電子デバイス。
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液浸露光用レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法
【課題】撥液性とアルカリ溶解性に優れた液浸露光用レジスト保護膜材料の提供。
【解決手段】下式(a1)で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位(A1)、好ましくは下式(a2)で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位(A2)を含む液浸露光用レジスト保護膜組成物。ただし、Z:式−C(CF3)2OH で表される基を1つ以上有する炭素数3から20の有機基。n:0、1または2。R:水素原子または炭素数1〜20の1価有機基であって、2個のRは同一であってもよく異なっていてもよい。
CF2=CFCF2CH(C(O)OZ)(CH2)nCR=CHR (a1)
CF2=CFCF2CH(C(O)OZ)CH2CH=CH2 (a2)
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オキソカーボン基を有する高分子
【課題】主鎖が脂肪族鎖からなり、該主鎖にオキソカーボン基が直接結合している高分子電解質を効率的に製造できる化合物、当該化合物を用いてなる高分子、当該高分子を用いてなる高分子電解質を提供する。
【解決手段】式(1’)で表される化合物、当該化合物を付加重合してなる式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子、及び当該高分子を用いてなる高分子電解質を提供する。かかる高分子電解質は、燃料電池用部材の製造に好適に使用できる。
上式中、X1及びX2はともに−O−が好ましく、Zは−C(O)−(カルボニル基)が好ましい。
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ジエン重合体及びその製造方法
【課題】ジエン重合体を提供する。
【解決手段】重合体は、6員環を持つ特定の繰り返し単位及び5員環を持つ特定の繰り返し単位を有し、6員環を持つ特定の繰り返し単位及び5員環を持つ特定の繰り返し単位の総量に対する、6員環を持つ特定の繰り返し単位の量が70モル%以上である。
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