国際特許分類[C08F8/12]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 後処理による化学的変性 (2,907) | 加水分解 (230)
国際特許分類[C08F8/12]に分類される特許
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N−ビニルホルムアミド重合体の加水分解物を含む組成物及びその製造方法
【課題】製造後における重合体の構造単位の変化が抑制された、N−ビニルホルムアミド重合体の加水分解物を含む安定な組成物を提供する。
【解決手段】N−ビニルホルムアミド重合体の加水分解物を含む組成物であって、N−ビニルホルムアミド重合体の加水分解物は、ビニルホルムアミド単位、ビニルアミン(塩)単位、6員環アミジン単位を含み、下記式(1)として定義されるカチオン化率が20モル%以上であり、水分を含有しその含有量の上限が15%で且つギ酸又はその塩を含有しその含有量の上限が15%である。{(ビニルアミン単位)+(6員環アミジン単位)}/{(ビニルアミン(塩)単位)+(ビニルホルムアミド単位)+2×(6員環アミジン単位)}・・・(1)
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
【課題】コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いEDWを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつBlob欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)特定構造の3種類の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)2−フェニルベンゾイミダゾール系塩基性化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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鹸化エチレン酢酸ビニル共重合樹脂の製造方法
【課題】
鹸化エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を、ホットエアー取入口及び水切りメッシュを具備する乾燥機で乾燥する際に、熱風取り入れメッシュや水切りメッシュのメッシュ部の洗浄方法を改良して、この洗浄による乾燥の中断時間を短縮して生産能力を増強すると共に、乾燥後の水分含有量を低減して、品質の向上を図る。
【解決手段】
エチレン酢酸ビニル共重合樹脂のペレットをメタノール中において苛性ソーダと反応させた後、中和、洗浄、乾燥する鹸化エチレン酢酸ビニル共重合樹脂の製造方法であって、鹸化エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を、熱風取り入れ口及び水切りメッシュを具備する乾燥機で乾燥する際に、熱風取り入れ口に具備されたメッシュ及び水切りメッシュのメッシュ部を高圧洗浄機により洗浄し、洗浄終点を乾燥機下部から排出される洗浄液中に不純物がないことを目視確認する。
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親水性高分子およびそれを配合する化粧料または皮膚外用剤
【課題】 低湿度の条件下でも保湿性を維持し、配合製剤へ粘性や曳糸性、べたつき等を付与せず、被膜形成性が高く長時間皮膚上に滞留することが可能な、化粧料または皮膚外用剤用の親水性高分子を提供すること。
【解決手段】 アミド基を含有する特定の単位構造を有する親水性高分子である。
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合わせガラス用中間膜、合わせガラス用多層中間膜及び合わせガラス
【課題】遮音性に優れており、かつ発泡の発生及び発泡の成長を抑制できる合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、並びに該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラス用多層中間膜を提供する。
【解決手段】合わせガラス用中間膜2は、熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する。熱可塑性樹脂に占める、絶対分子量100万以上の高分子量成分の割合は7.4%以上であるか、又は、熱可塑性樹脂に占める、ポリスチレン換算分子量100万以上の高分子量成分の割合は9%以上である。合わせガラス用多層中間膜1は、合わせガラス用中間膜2と、該合わせガラス用中間膜2の一方の面2aに積層されており、かつ熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する第2の合わせガラス用中間膜3とを備える。
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ポリビニルアルコール樹脂の製造方法及び製造装置
【課題】品質を低下させずに、消費エネルギーを低減することができるポリビニルアルコールの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】先ず、1種若しくは2種以上のビニルエステルを重合するか、又は、ビニルエステルとこれと共重合可能なその他の単量体とを共重合して、ポリビニルエステルを得る。次に、流路1内に、ポリビニルエステルと有機溶媒とからなる鹸化原料溶液を通流させ、その中央部に鹸化触媒を含む溶液を導入する。そして、スタティックミキサー2でこれらを混合した後、その混合物4をベルト3上に載置し、鹸化反応を進行させる。
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酸性糖鎖捕捉用基材
【課題】
糖鎖を捕捉するための基材の一つであって、酸性糖を基材表面に固定化可能で、かつ捕捉酸性糖以外の物質の非特異吸着を抑制することで酸性糖のみを安定的に基材表面に捕捉可能な基材を構築する。
【解決手段】
基材の一方の面側に、親水性基を有するモノマーと、前記酸性糖を捕捉可能な官能基を有するモノマーと、環状アルキル基により疎水性基を有するモノマーの共重合体で構成される樹脂層を、基材表面に形成したことにより酸性糖固定基材を作製できた。
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架橋重合体微粒子およびその製造方法
【課題】 ミクロンサイズの平均粒子径を有し、粒度分布が狭く、十分に架橋されていて耐溶剤性、耐熱性に優れる架橋重合体微粒子及びその製造方法の提供。
【解決手段】 (α)加水分解性シリル基含有ビニル単量体(a)に由来する構造単位を0.5質量%以上及び20℃の水溶解度が1.0g/100ml以下の単官能の疎水性ビニル単量体(b)に由来する構造単位を10質量%以上の割合で有するビニル系共重合体からなり、(β)加水分解性シリル基の加水分解縮合反応によって架橋された、(γ)平均粒子径0.7〜8μmの架橋重合体微粒子、並びに前記ビニル単量体(a)及び疎水性ビニル単量体(b)を用いて分散安定剤の存在下にビニル単量体及び分散安定剤を溶解するが、生成するビニル系共重合体を溶解しない親水性溶媒中で重合して重合体微粒子を製造し、ビニル単量体の重合時又は重合後にビニル系共重合体中の加水分解性シリル基の少なくとも一部を加水分解縮合反応させて前記架橋重合体微粒子を製造する方法。
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フッ素を含まない縮合環複素芳香族光酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物
【課題】フッ素を含まない縮合環複素芳香族光酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、フッ素を含まない光酸発生剤(PAG)と、それを含むフォトレジスト組成物とに関する。PAGは、オニウムカチオン性成分、および1つまたは複数の電子求引性置換基を含む、フッ素を含まない縮合環複素環式芳香族化合物スルホネートアニオン性成分の存在を特徴とする。PAGのオニウムカチオン性成分は、好ましくはスルホニウムまたはヨードニウムカチオンである。フォトレジスト組成物は、酸感応性イメージング・ポリマーをさらに含む。フォトレジスト組成物は、193nm(ArF)リソグラフィを用いて半導体基板上に材料パターンを形成するのに特に有用である。
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ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【課題】ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ネガ型レジスト組成物であって、ベース樹脂は、スチレン系繰り返し単位を含み、重量平均分子量が1,000〜10,000であり、塩基性成分として窒素を含有する化合物は、カルボキシル基を有し、かつ塩基性中心である窒素原子に共有結合で結合する水素を有しないアミン化合物の1種以上を含むものであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
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