国際特許分類[C08F8/12]の内容
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国際特許分類[C08F8/12]に分類される特許
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セメント用材料及びセメント組成物
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レジスト組成物
【課題】優れたCD均一性を有するレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び酸発生剤を含み、酸発生剤が、式(B1)で表される塩を含む酸発生剤であるレジスト組成物。式(aa)中、T1は、環骨格中に−O−SO2−を有する炭素数4〜34の環式基を表す。R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。R2は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。R3は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
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ホスホン酸ポリマーとその製造方法および燃料電池用電解質膜
【課題】低加湿状況下でのプロトン伝導率を高め得る新たなホスホン酸ポリマーと、低加湿状況下であっても高いプロトン伝導率を確保し得る燃料電池用電解質の提供。
【解決手段】下記の構造式(1)で表される分子鎖構造を繰り返し単位として含み、主鎖を構成する飽和炭化水素の炭素と側鎖末端のホスホン酸基とを、アミド結合とフッ化エチレン基とを介して結合させるホスホン酸ポリマー、該ホスホン酸ポリマーを用いた燃料電池用電解質膜、およびこれを用いた燃料電池。
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レジスト組成物
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
[式(I)中、AI1は、炭素数1〜49の4価の炭化水素基を表し、該炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。mは2又は3を表し、複数存在する環WI1は、それぞれ独立に炭素数2〜36の飽和複素環を表す。nは1又は2を表す。但し、m+n=4の関係を満たす。]
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
【課題】露光ラチチュード、及びLWRなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式(1)で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立に、アリールを表し、R1とR2が連結していてもよい。R3及びR4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、R3とR4が連結していてもよい。R5は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。R5は、R3もしくはR4と連結していてもよい。
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アクリロイル基含有エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物及びそれからなる組成物
【課題】接着性を保持しつつ、耐熱性および機械的強度に優れたホットメルト接着剤を提供する。
【解決手段】エチレン残基単位75.4〜98.3モル%、酢酸ビニル残基単位0.3〜19.6モル%、ビニルアルコール残基単位0〜24.2モル%及びビニルアルコール単位とアクリロイル基を有するイソシアネートとの反応によるアクリロイル基を有する残基単位0.1〜20.0モル%含み、JISK6924−1に準拠し測定したMFRが5〜40000g/10分であるアクリロイル基含有エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、それを含む組成物、及び該組成物を含む接着剤。
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ビニルアルコール系重合体を含有する組成物
【課題】取扱性に優れ、高い耐水性や耐ブロッキング性を有する皮膜を得ることができるコーティング剤を用いて得られる塗工物、感熱記録材、インクジェット記録材及び剥離紙原紙、並びに塗工物の製造方法を提供する。
【解決手段】式(1)で表される基を有する単量体単位を含み、式(I)を満たすビニルアルコール系重合体(A)、及びポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン系樹脂(B)を含有し、(B)の含有量が(A)100質量部に対して0.2質量部以上150質量部以下とする。
370≦P×S≦6,000・・・(I)。P:粘度平均重合度。S:上記単量体単位の含有率(モル%)。
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コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム
【課題】酸素遮断性が高いコーティングを提供することができる新規なコーティング組成物、該組成物を用いた、現像性と現像して得られる画像の強度に優れる画像形成材料及び平版印刷版原版、並びに優れた酸素遮断性フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造単位を有するポリマーを含むことを特徴とするコーティング組成物。該組成物を含む保護層を有する画像形成材料及び平版印刷版原版。該組成物を含む酸素遮断層を有するフィルム。
【化1】
式中、Mn+はn価の正電荷を有するカチオンを表し、nは1〜4の整数を表す。
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イオン結合ポリマーとその利用
【課題】イオンバランス異常治療のための方法と製薬組成を提供すること。
【解決手段】本発明は特に、カリウム結合ポリマーおよびその製薬組成から成る組成を提示する。治療や予防の利点に関し、このポリマー組成および製薬組成の使用方法が、ここに公開されている。これら方法の例には、腎不全や、高カリウム血症を起こす薬剤の使用によって発症した高カリウム血症の治療が含まれる。1実施形態において本発明は、カリウムを除去する必要のある動物被験体からカリウムを除去する方法であって、動物被験体に効果的な量のカリウム結合ポリマーを投与する工程を包含し、ポリマーが動物被験体の胃腸管において、ポリマー1g当たりカリウムを平均約1.5mmol結合し除去し得る方法を、提供する。
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化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】本発明は、化学増幅型レジスト材料のベース樹脂が酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及びベンゾトリアゾール系化合物を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法に関する。
【効果】本発明によれば、基板上に塗布した膜厚が5〜100μmと厚い場合のパターン形成において、基板付近、パターン底部の抜け性(溶解性)に優れ、感度を向上させることができ、更には、5〜100μmと厚い場合、現像時間の短縮が可能になるといった特徴を有した化学増幅ポジ型レジスト材料を提供できる。
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