【課題】 明色性を低下させることなく、生産性、貯蔵安定性、耐熱老化性に優れたクロロスルホン化ポリオレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】 １，１，２−トリクロロエタンを溶剤として用いて、ポリオレフィンをラジカル発生剤存在下、塩素と亜硫酸ガス、塩素と塩化スルフリル、亜硫酸ガスと塩化スルフリル、塩化スルフリル単独、又は塩素と亜硫酸ガスと塩化スルフリルを用いて塩素化及びクロロスルホン化させ、反応時に副生した塩化水素及び／又は亜硫酸ガスを反応系外に除去する工程の際、初期の温度が９５〜１１５℃で、かつ、工程終了時の温度が５０〜１００℃であることを特徴とするクロロスルホン化ポリオレフィンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 組成物のバンバリー作業性、押出機のダイ掃除性及びロール作業性が優れるクロロスルホン化ポリエチレンを提供する。
【解決手段】 重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が１４以上であるクロロスルホン化ポリエチレン、又は重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が１４以上であり、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比が７．０以下であるクロロスルホン化ポリエチレン。 （もっと読む）

【課題】 組成物のバンバリー排出性と押出機のダイ掃除性が良好で、押出成形した加硫物のヘタリ率が小さく、かつ加硫物の引張応力が大きいクロロスルホン化ポリエチレンを提供する。
【解決手段】 Ｚ平均分子量（Ｍｚ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比が６．０以上であり、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が２．０〜７．０であることを特徴とするクロロスルホン化ポリエチレン、その製造法及び用途。 （もっと読む）

【課題】 組成物のロール作業性及び押出機のダイ掃除性が優れ、押出加工時のダイスウェルが小さく、かつ加硫物の引張応力が大きいクロロスルホン化ポリエチレンを提供する。
【解決手段】 重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が３．５以下であり、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比が２．７以下であることを特徴とするクロロスルホン化ポリエチレン、その製造方法及び用途。 （もっと読む）

０．５〜１０重量パーセント塩素および０．２５〜５重量パーセント硫黄を含有する少なくとも部分中和されたクロロスルホン化エチレン／アルファ−オレフィンエラストマーが、３．５未満の重量平均分子量（Ｍｗ）対数平均分子量（Ｍｎ）の比を有するエチレン／アルファ−オレフィンコポリマーベース樹脂から製造される。 （もっと読む）

０．５〜１０重量パーセントの塩素および０．２５〜５重量パーセントの硫黄を含有するクロロスルホン化ポリオレフィンエラストマーが、塩化スルフリルまたはＣｌ₂とＳＯ₂との組み合わせのクロロスルホン化剤を用いる低温（５０℃〜７５℃）溶液法で製造される。 （もっと読む）

０．５〜１０重量パーセントの塩素および０．２５〜５重量パーセントの硫黄を含有する部分中和されたクロロスルホン化ポリオレフィンエラストマーは、プロピレン／エチレンコポリマー、エチレン／プロピレン／ジエンコポリマー、イソブチレン／ジエンコポリマー、イソブチレンホモポリマー、水素化スチレン／ブタジエンブロックコポリマ−および水素化スチレン／イソプレンブロックコポリマ−からなる群から選択されるポリオレフィンエラストマーベース樹脂から製造される。 （もっと読む）

０．５〜５５重量パーセントの塩素および０．１５〜５重量パーセントの硫黄を含有するクロロスルホン化プロピレン／オレフィンエラストマーは、３．５未満のＭｗ／Ｍｎの比および７０〜９８重量パーセントの共重合プロピレン含有率を有するメタロセン触媒プロピレン／オレフィンコポリマーベース樹脂から製造される。 （もっと読む）

【課題】 ラテックスの貯蔵安定性及びポリプロピレン系樹脂製品に対する密着性に優れたクロロスルホン化ポリプロピレンラテックスを提供する。
【解決手段】 重量平均分子量が１万以上２０万以下であるクロロスルホン化ポリプロピレンを含有し、かつ、平均粒径が０．６μｍ未満であることを特徴とするクロロスルホン化ポリプロピレンラテックスであり、該クロロスルホン化ポリプロピレンを有機溶媒に溶解し、界面活性剤の存在下で当該有機溶媒を水中に分散させて乳化し、その後有機溶媒を除去するクロロスルホン化ポリプロピレンラテックスの製造方法及びその用途。 （もっと読む）

本開示は放射標識されたトレーサの製造、特に陽電子放射断層撮影（ＰＥＴ）の放射標識されたトレーサとして用い得る¹⁸Ｆ標識化合物の製造のための固相製造方法に関する。本開示はまた、本明細書に記載されている製造方法を用いて放射標識されたトレーサに変換され得る放射標識されたトレーサの前駆体を含む放射性医薬品キットに関する。 （もっと読む）