【課題】反射防止組成物、およびこれらの組成物を回路形成に用いる方法を提供する。
【解決手段】組成物は溶媒系に溶解しまたは分散するポリマーを含み、好ましいポリマーはポリカーボネート、ポリスルホニルエステル、ポリカーボネートスルホン、およびこれらの混合物を含む、組成物はシリコンウェーハーや他の基体上に塗布され、硬化または固化膜を形成でき、この膜は始はフォトレジスト現像液に不溶で、露光すると硬化または固化膜はフォトレジスト現像液に可溶となり現像されたファトレジスト層と一緒に選択的に除去できるので別の除去工程が省ける。 （もっと読む）