【課題】高温焼成で形成される膜厚の厚いシリカ系樹脂膜におけるクラック耐性の向上を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】５００℃以上の高温焼成で形成される厚さ２．０μｍ以上のシリカ系樹脂膜用の組成物の製造方法であって、下記一般式（１）で表される第１アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成される第１アルコキシシランの加水分解生成物の脱水縮合反応を進行させる第１工程と、第１アルコキシシランの加水分解生成物が残存する第１工程の反応系に下記一般式（２）で表される第２アルコキシシランを混合し、第２アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成された第２アルコキシシランの加水分解生成物と第１工程の脱水縮合反応生成物と残存する第１アルコキシシランの加水分解生成物との脱水縮合反応を進行させる第２工程と、を含む。（Ｒ^１）_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２（１）Ｓｉ（ＯＲ^３）_４（２） （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、更には、基板に対する密着性に優れ、かつ高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）アルカリ可溶性基及び重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、アルカリ可溶性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位と、重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、又はアルカリ可溶性基を含む１価の基と重合性基を含む１価の基とを有する珪素原子を含有する構造単位を少なくとも含有する化合物、とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】多孔質の有機シリカガラス膜を製造するための堆積方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバーに、有機シラン又は有機シロキサンの１つの前駆体と、該前駆体とは異なるポロゲンであって、本質的に芳香族であるポロゲンとを含むガス状試薬を導入する工程、前記チャンバー中の前記ガス状試薬にエネルギーを適用して該ガス状試薬の反応を引き起こしてポロゲンを含有する膜を堆積させる工程、並びにＵＶ放射によって有機材料の実質的にすべてを除去して気孔を有しかつ２．６未満の誘電率を有する多孔質の膜を提供する工程を含む多孔質の有機シリカガラス膜を製造するための堆積方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性や吸着・脱離連続処理能力に優れ、かつ、水分の存在する大気に触れる環境でも水以外の比較的極性の高い物質に対する吸着能に優れた多孔質材料、前記多孔質材料を熱処理した多孔質炭素材料、及び、それらを用いた吸着材やガス処理装置を提供する。
【解決手段】Ｓｉ原子と、一般式（１）、（２）及び（３）からなる群より選択される１種以上の有機化合物との共有結合によって形成された三次元的多孔質構造を有する多孔質材料を使用する。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずに、様々な近赤外光を吸収するポリシラン薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に下記の一般式で表される架橋ポリシラン薄膜を形成した後、加熱処理することにより該架橋ポリシラン薄膜の吸収スペクトルを変化させて、近赤外光を吸収するポリシラン薄膜とする。
【化１】


（式中、Ｒ_１は、縮合多環芳香族基を表し、Ｒ_２は、アリール基又は縮合多環芳香族基のいずれかを表し、Ｒ_３は、アルキル基を表す。また、ｘ及びｙは、整数を表す。） （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 吸水性樹脂の運搬・輸送による衝突等の衝撃に起因する通液速度の著しい低下を受けずに耐衝撃性が良好で、水性液体、又は尿、経血もしくは汗などの体液等に対して良好な吸水性能を有する吸水性樹脂及びその製造法の提供。
【解決手段】 水溶性モノマーを含むモノマー成分を重合させて得られる架橋重合体（Ａ）と、式（１）で表されるアルコキシシラン、その加水分解物及びこれらの重縮合物から選ばれる少なくとも１種のケイ素化合物（Ｂ）とを含有する吸水性架橋重合体、並びにその製造方法。
Ｒ¹_pＳｉ(ＯＲ²)_4-p （１）
〔式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数２〜６のアルケニル基、ｐは０〜３の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】耐候性と耐食性に優れる硬化塗膜を形成することができる有機−無機ハイブリッド樹脂の水性分散体、硬化性樹脂組成物、塗料および塗装物を提供すること。
【解決手段】酸基および／または中和された酸基ならびに加水分解性シリル基および／またはシラノール基を含有する重合体（Ａ）を、ジルコニウム原子に結合したアルコキシ基および／またはシリコン原子に結合したアルコキシ基を含有するジルコノシロキサン化合物（Ｂ）で変性して得られる、中和された酸基ならびに加水分解性シリル基および／またはシラノール基を有するジルコノシロキサン変性重合体（ＡＢ）を、水性媒体中に分散させた後、アルコキシ基を加水分解縮合して得られる有機−無機ハイブリッド樹脂水性分散体、この水性分散体と硬化剤（Ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物、これらを含有する塗料及びこの塗料を塗装して得られる塗装物。 （もっと読む）

【課題】３．７以下の誘電率を有するシリカ系の材料及び膜、並びにそれを作製及び使用するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系材料を調製するための組成物であって、少なくとも１つのシリカ源と、溶剤と、少なくとも１つのポロゲンと、任意選択で触媒と、任意選択で流動添加剤とを含み、該溶剤が、９０℃〜１７０℃の温度で沸騰し、化学式、ＨＯ−ＣＨＲ⁸−ＣＨＲ⁹−ＣＨ₂−ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、独立して１〜４個の炭素原子のアルキル基又は水素原子であることができる）；Ｒ¹²−ＣＯ−Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²は３〜６個の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｒ¹³は１〜３個の炭素原子を有する炭化水素基である）；及びそれらの混合物によって表される化合物から成る群より選択された組成物によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、特定のテトラアルコキシシラン化合物および分子中に酸素原子、フェニレン基または炭素数１〜６のアルキレン基を有した特定のシラン化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物５０〜１００モル％と、他のシラン化合物０〜５０モル％とを加水分解縮合して得られた第１の加水分解縮合物と、分子中にアルコキシ基を２〜３個有した特定のシラン化合物を５０モル％超と、他のシラン化合物５０モル％未満とを加水分解縮合して得られた第２の加水分解縮合物と有機溶媒とを含み、前記第１の加水分解縮合物及び前記第２の加水分解縮合物の重量平均分子量は７００以上２０，０００以下である絶縁膜形成用組成物。 （もっと読む）