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国際特許分類[C08G79/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物 (33,999) | 高分子の主鎖に,けい素,いおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずに,けい素,いおう,窒素,酸素および炭素以外の原子を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物 (230)

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【課題】メチルアセチレンとメチルアセチレンを除く炭素原子数が3である炭化水素との分離方法の提供。
【解決手段】式(1)で示される配位子と金属イオンとを含むピラードレイヤー構造を有する配位高分子が有する、圧力および温度の同一条件下におけるメチルアセチレンとメチルアセチレンを除く炭素原子数が3である炭化水素との各々に対する保持能力の差異に基づき分離する。


[式中、X、X、X、X、XおよびXは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を示す。] (もっと読む)


【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式(2)で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びRm1m2m3Si(OR)(4−m1−m2−m3)(1)U(ORm4(ORm5(2)(B)一般式(3)で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式(4)で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Rm6m7m8Si(OR(4−m6−m7−m8)(3)Si(OR10(4)を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】エレクトロルミネセンスデバイスに使用することができる更なるデンドリマー、特に、効率的であり、高分子レベルで他の有利な特性を有するデバイスを製造するために、分子レベルで良好な制御を提供することができる更なるデンドリマーを提供する。
【解決手段】式(I)、[DENDRON−CORE−[B−[X](I)[式中、COREは、金属イオン又は金属イオンを含む基、或いは非ポリマー性有機基であり;Bはフェニル環であり;aは、1〜8の整数であり;bは、3〜5の整数であり;xは、0又は1〜7の整数であり;各Xは、アリール又はヘテロアリール環であるか、或いは少なくとも部分的に共役している樹枝状分子構造であり;各DENDRONは、少なくとも部分的に共役している樹枝状分子構造であり;このデンドリマーは、1つ又は複数の表面基を更に含み;但し、COREが非金属核の場合、Xは、少なくとも1つの連結基を含む、少なくとも部分的に共役している樹枝状分子構造である]のデンドリマー。 (もっと読む)


【課題】ガス吸着圧力が低い環境であってもガスを吸着しうるガス吸着材を提供する。
【解決手段】式[X(Y,Y’)22nで表わされる単位構造を有した二次元平面格子積層型の基本構造を有する高分子金属錯体であって、Xは、コバルト、ニッケル、銅のいずれかの二価イオンであり、YはCF3BF3-イオン、Y’はCF3SO3-イオンであり、Lの有機配位子が4,4’―ビピリジンであることを特徴とする高分子金属錯体。これを用いたガス吸着材及びガス分離装置。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率、良好な熱安定性、透明性を有し、並びにその未硬化状態で(一時的な溶媒(fugitive solvent)の添加の必要なしに)液体であって、半導体発光ダイオードダイの大量生産を容易にする液体硬化性材料を用いて半導体発光ダイオードダイを製造する方法。
【解決手段】1.61より大きく1.7以下の屈折率を示し、かつ室温および大気圧で液体である硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体により、面を有する半導体発光ダイオードダイで、半導体発光ダイオードダイは面から光を放射するものであり、半導体発光ダイオードダイを硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体と接触させ、並びに、硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体を硬化させて、光学エレメントを形成し、光学エレメントの少なくとも一部分が面の近傍にあること。 (もっと読む)


【課題】高屈折率硬化性かつ光学的に透明な発光ダイオード封止材配合物を提供。
【解決手段】発光ダイオード封止材として使用するための硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体であって;5nm未満の平均ドメインサイズを有するTiOドメインを有するポリシロキサンプレポリマーを当該複合体が含み;前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体が全固形分基準で20〜60モル%のTiOを含み;前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体が1.61より大きく1.7以下の屈折率を示し;並びに、前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体が室温および大気圧で液体である;硬化性液体ポリシロキサン/TiO複合体。 (もっと読む)


【課題】、速いプロセススピードにおいても安定して感光体を帯電させられる、高い帯電能力を長期に亘って維持することのできる帯電部材の提供。
【解決手段】導電性支持体101、導電性弾性層102および表面層103を有する電子写真装置用帯電部材であって、該表面層は、Si−O−Ti結合を分子構造中に有する高分子化合物を含み、該高分子化合物は、特定の構造で示される構成単位を有する。 (もっと読む)


【課題】分散溶媒としてテトラヒドロフランを用いることがなく、安全な溶媒を用い、この溶媒を用いることでアルコキシ化反応効率が向上し、もって製造されたMo吸着剤が、Mo吸着能力が高く、しかも安定性がよく、99mTc溶出能力を向上させることができるようにする。
【解決手段】原料としてのジルコニウムのハロゲン化物とアルコールに分散溶媒としてのブチルエーテルを添加し、反応させ、アルコキシ化生成物を生成する第1工程のアルコキシ化工程と、反応生成したアルコキシ化生成物に水と更にブチルエーテルを添加して、加水分解及び脱水縮合して前駆生成物を生成する第2工程の加水分解・脱水縮合工程と、生成した前駆生成物を重合濃縮し、溶媒除去、熱処理する第3工程とを用いることによって、−O−Zr−Clの骨格構造であって、塩素の含有量が160mg(Cl)/g以上の性状を示すMo吸着剤を生成する。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(A−1)、下記一般式(A−2−1)、及び下記一般式(A−2−2)で表される反応性化合物及び/又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の1種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、(Rm2(OR(3−m2)Si−R−Si(Rm4(OR(3−m4)(A−1)R11m1112m1213m13Si(OR14(4−m11−m12−m13)(A−2−1)U(OR21m21(OR22m22(O)m23/2(A−2−2)(B)有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 (もっと読む)


【課題】
従来の6つの配位座ではなく、CuやPt等の4つの配位座を有する金属を使った有機/金属ハイブリッドポリマーを与える。
【解決手段】
スペーサー部位の両端に夫々フェナントロリン誘導体を設けた構造の配位子を使用する。夫々のフェナントロリンは配位数が2であるので、このような配位子と4つの配位座を有する金属とを1:1で錯体形成させることで、たとえば以下の構造式で表される所望の有機/金属ハイブリッドポリマーが形成される。
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