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国際特許分類[C08J7/18]の内容

国際特許分類[C08J7/18]に分類される特許

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【課題】 本発明は、高分子材料の表面を高分子被覆で改質して、その表面を潤滑性かつ抗菌性にする方法である。
【解決手段】 本方法は、光重合開始剤で被覆された高分子材料をフリーラジカル重合可能な水溶性モノマーと共に定温放置し、定温放置している高分子材料にUV光を当てて、その高分子材料の改質表面を形成することを含む。本方法は、さらに、改質表面に銀成分を付加することを含む。該銀成分は、銀塩被覆として与えられるか、あるいは、アクリレート改質高分子材料の表面に結合したヒドロゲル内に含まれる銀塩として与えられる。 (もっと読む)


【課題】2つの被着体同士を、高い寸法精度で強固に、かつ低温で効率よく接合可能な接合方法、2つの被着体同士を高い寸法精度で強固に接合してなる接合体、かかる接合体を備えた信頼性の高い液滴吐出ヘッド、およびかかる液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】本発明の接合方法は、2つの基材2上に、それぞれプラズマ重合膜3を形成し、第1の被着体41および第2の被着体42を得る工程(第1の工程)と、各プラズマ重合膜3同士を密着させるように、2つの被着体41、42を重ね合わせて、仮接合体5を得る工程(第2の工程)と、仮接合体5中の各プラズマ重合膜3に対してエネルギーを付与することにより、各プラズマ重合膜3同士を接合して、接合体1を得る工程(第3の工程)とを有する。このうち、プラズマ重合膜3は、ポリオルガノシロキサンを主材料として構成されているのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】炭化水素系フィルムやグラフト膜といった高分子フィルムを始めとする高分子材料のスルホン化処理を、より効率的に行って高分子電解質膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波を照射しながら、高分子材料をスルホン化剤で処理することを含む、高分子電解質膜の製造方法である。高分子材料を構成する高分子は、芳香環を含む構造を有することが好ましい。高分子材料は、高分子フィルムであることが好ましい。高分子フィルムが、フッ素系高分子製の膜を基材に用いたグラフト膜であった場合には、特に効果が高い。 (もっと読む)


【課題】不飽和カルボン酸化合物を180〜200℃の高温での熱処理による架橋を行わずに、透明性に優れ、且つ高湿度下でのガスバリア性に優れたガスバリア性膜を安定して得る方法を開発することを目的とする。
【解決手段】基材層に重合度が20未満の不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩溶液を塗工した後、不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩に溶媒の存在下で電子線を照射することを特徴とするガスバリア性膜の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】側突対策が施された簡単な構成の車両用内装材を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂の基材を備えた車両用内装材であって、基材(11)は、前記熱可塑性樹脂のゲル分率が45%以上90%以下である架橋構造を有する本体部(12)に、部分的に前記熱可塑性樹脂のゲル分率が10%以下の易変形部(13)を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 処理の危険性、環境負荷が小さく、活性点の導入、親水膜の形成を、同一装置で行うことができて、処理の煩雑性という問題が生じないとともに、充分な易接着性を付与することができ、かつ、この易接着性を経時的にも安定して発揮させることのできる、フッ素樹脂系成形物の表面改質方法を提供することである。
【解決手段】 本発明にかかるフッ素樹脂系成形物の表面改質方法は、フッ素樹脂系成形物表面にプラズマ照射することにより、成形物表面に活性点を導入する工程(1)と、不飽和結合を有する水溶性モノマーを必須とする雰囲気ガス中でプラズマ照射することにより、前記成形物表面の活性点で前記モノマーをグラフト重合させる工程(2)と、グラフト重合後の成形物表面に堆積した、前記モノマー由来のホモポリマーを除去する工程(3)と、を含む、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製塩に用いられる陽イオン交換膜について、従来使用されている膜と比較し、電気抵抗を増加させずに、濃縮性能を向上させ、且つ機械的強度を向上させる。
【解決手段】超高分子量ポリエチレンフィルムに電離放射線を照射することにより、超高分子量ポリエチレンにラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体単独、又は該重合性単量体及び架橋性単量体の重合性混合物を用いてグラフト重合を行うことにより得られたことを特徴とする製塩用陽イオン交換膜。前記単量体単独、又は前記重合性単量体及び架橋性単量体の重合性混合物を用いてグラフト重合を行う際に膨潤溶媒を使用したことが好ましい。その製造方法。 (もっと読む)


【課題】製塩に用いられる陰イオン交換膜について、従来使用されている膜と比較し、電気抵抗を増加させずに、濃縮性能を向上させ、且つ機械的強度を向上させる。
【解決手段】超高分子量ポリエチレンフィルムに電離放射線を照射することにより、超高分子量ポリエチレンにラジカルを発生させた後、陰イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体単独、又は該重合性単量体及び架橋性単量体の重合性混合物を用いてグラフト重合を行うことにより得られることを特徴とする製塩用陰イオン交換膜。前記単量体単独、又は前記重合性単量体及び架橋性単量体の重合性混合物を用いてグラフト重合を行う際に膨潤溶媒を使用したものであることが好ましい。及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】リチウム塩の配合量を低減しても、優れた帯電防止性を有し、かつ優れた耐耗耐性を有する硬化膜が得られる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)重合性不飽和基を有し、かつ、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を主成分とする粒子、(B)下記式(3a)又は(3b)で示される化合物、(C)分子内に2以上の重合性不飽和基を有する化合物、及び(D)光重合開始剤を含有し、前記成分(B)の化合物の含有量が、該組成物の固形分全量を100重量%としたときに、6〜20重量%の範囲内であることを特徴とする硬化性組成物。
LiCn’2n’+1X (3a)
Li(Cn’2n’+1Y)N (3b) (もっと読む)


【課題】電子線に対して高感度であり、保存安定性に優れ、有機高分子基材上に密着性が良好な皮膜を作製できる電子線硬化性組成物、及び、有機高分子基材上に密着性に優れた硬化皮膜を製造する方法を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする電子線硬化性組成物。


式(I)中、Q1はシアノ基又は−COX2基を表し、X1は、ヘテロ原子を介してα炭素に結合する水素原子、有機残基若しくはポリマー鎖、又は、ハロゲン原子を表し、X2は、ヘテロ原子を介してカルボニル基に結合する水素原子、有機残基若しくはポリマー鎖、又は、ハロゲン原子を表し、Ra、Rbは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表し、X1とX2、RaとRb、X1とRa又はRbとが互いに結合して環状構造を形成してもよい。 (もっと読む)


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