【課題】塗布ムラを小さくすることができると共に、プロセスマージンを広くすることができる高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性クレゾールノボラック樹脂（Ａ）、アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂（Ｂ）、キノンジアジドスルホン酸エステル（Ｃ）、および有機溶剤（Ｄ）を含有してなり、アルカリ可溶性クレゾールノボラック樹脂（Ａ）とアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂（Ｂ）との比率（Ａ：Ｂ）が重量比で９５：５〜８５：１５であり、アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が１３００以下で、かつ、分子量分布が１．０５以上１．７０以下であり、有機溶剤（Ｄ）は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｄ１）および常圧の沸点が１５０℃〜２４０℃の範囲の溶剤（Ｄ２）を含む複合溶剤である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の感光性フィルムは、少なくとも一方の面が離型処理された支持体フィルムと、フェノール樹脂、１，２−キノンジアジド化合物及びフッ素系界面活性剤を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してなり、感光層が支持体フィルムの離型処理面上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】感度、露光後放置安定性に優れ、寸法制御性に優れた感光性樹脂組成物、それを用いた絶縁膜や保護膜としての硬化膜、およびそれを用いた半導体装置の提供。
【解決手段】（ａ）ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールもしくはポリアミドイミド、それらいずれかの前駆体またはそれらの共重合体であるアルカリ可溶性樹脂、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）特定のアリルフェニルエーテル化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で可視光透過率が高く、５μｍ以上の厚膜でもクラックが発生しない硬化膜を形成しうるシロキサン系樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム化合物粒子、スズ化合物粒子、チタン化合物粒子およびジルコニウム化合物粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属化合物粒子、およびシロキサン化合物を含有するシロキサン系樹脂組成物であって、該金属化合物粒子の存在下、アルコキシシラン化合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、ジアセトンアルコールまたは乳酸エチルを含有する溶媒中、酸触媒により加水分解した後、該加水分解物を縮合反応させる方法により得られ、キノンジアジド系感光剤を含有することを特徴とするシロキサン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低温焼成と保存安定性とを両立し、かつ高い放射線感度を有する感放射線性樹脂組成物、及びフレキシブルディスプレイ用として好適な、表面硬度、耐溶媒性及び比誘電率に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜の提供。
【解決手段】［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の単量体と、（Ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］キノンジアジド化合物、並びに［Ｃ］電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン化合物、電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン環を２個有する化合物、３級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、ケチミン化合物、ブロックイソシアネート化合物、イミダゾール環含有化合物及び包接化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤を提供。
【解決手段】基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち２０モル％〜８０モル％が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤 （もっと読む）

【課題】フレキシブルディスプレイの層間絶縁膜の形成に好適に用いられるような低温かつ短時間での加熱による焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有する感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体のアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、及び［Ｃ］１分子中に２個以上のメルカプト基を有する化合物を含有する層間絶縁膜形成用の感放射線性樹脂組成物である。［Ｃ］成分の１分子中に２個以上のメルカプト基を有する化合物は、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。
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式（Ｉ）または（ＩＩ）によって表される構造を有する架橋成分。式中、Ａｒ_Ｆは、Ｎ_３基に対してメタ位に位置する、フッ素より嵩高い少なくとも１つの非フッ素置換基（Ｒ）を有するフッ素化フェニル基を含み、Ｗは電子求引基を含み、Ｌは連結基を含む。前記架橋成分はポリマー半導体層および光起電素子の製造において特に有用である。
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本発明は、少なくとも以下：Ａ）第一のエチレン系ポリマーを含む第一の組成物（この場合、比Ｉ_２１（第一の組成物）／Ｉ_２１（第一のエチレン系ポリマー）が、３０以上である）；及びＢ）１０μｇ／ｇ〜４０μｇ／ｇ（組成物の重量に基づいて）の量の１つ又はそれ以上のアジド化合物；を含む組成物を提供する。
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本明細書は、非自己架橋性ポリマーと、少なくとも２つの異なる官能基を含む修飾化合物と、を含む、混合物を記載する。修飾化合物の第一官能基は非自己架橋性ポリマーと反応することができ、第二官能基は硬化剤により架橋することができる。また、組成物、硬化性ポリマー組成物、このような硬化性ポリマー組成物を用いる物品、及び硬化したポリマー性組成物を製造する方法を記載する。
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