【課題】高い導電性を示す導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法提供する。
【解決手段】導電性高分子と、該導電性高分子のドーパントとしてオニウム塩化合物とを含有する導電性組成物、当該組成物を成形してなる導電性膜、及び当該導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能な導電性組成物、およびそれを用いてなる導電膜および導電性積層体を提供することである。
【解決手段】スルホン酸系の特定構造を構造単位として含む共役系ポリアニオン（Ａ）と、共役系導電性高分子（Ｂ）とを含有することを特徴とする導電性組成物により解決することができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＣＳ(polycellulose-sulfonate)でドープされた伝導性高分子を含む伝導性高分子組成物およびその製造方法の提供。
【解決手段】ＰＣＳでドープされた、好ましくはポリチオフェン系、ポリピロール系、ポリフェニレン系、ポリアニリン系またはポリアセチレン系の伝導性高分子０．１重量％〜５０重量％および溶媒５０重量％〜９９．９重量％を含んでなる伝導性高分子組成物、さらに好ましくは追加ドーパントとしてジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ−ジメチルアセトアミドの極性溶媒の中から選ばれた少なくとも１種を含む。 （もっと読む）

【課題】エッチング工程によってもダメージを受けにくく、膜特性が維持された絶縁膜を形成することができる膜形成用組成物、かかる膜形成用組成物により形成された絶縁膜、および、かかる絶縁膜を備える半導体装置を提供すること。
【解決手段】本発明の膜形成用組成物は、重合性の官能基を有する重合性化合物を含む膜形成用組成物であり、前記重合性化合物は、分子内に、アダマンタン型のかご型構造を含む部分構造と、重合反応に寄与する重合性反応基とを有するものである。そして、前記重合性反応基が、芳香環と、当該芳香環に直接結合するエチニル基またはビニル基とを有するものであり、前記重合性化合物において、前記芳香環由来の炭素の数は、当該重合性化合物全体の炭素の数に対して、１５％以上、３８％以下であるものである。 （もっと読む）

水系分散体及び水系分散体の製造方法。少なくとも１種の伝導性ポリマー、例えばポリチエノチオフェン、少なくとも１種の多分岐ポリマー並びに随意の少なくとも１種のコロイド形成性ポリマー酸及びフッ素化されていないポリマー酸を含有する分散体。その水系分散体で形成された層を用いるデバイスを開示する。 （もっと読む）

【課題】電池充電状態の検出が容易な二次電池の提供。
【解決手段】陰イオンを吸着及び放出できる正極と、陽イオンを吸着及び放出できる負極と、正極と負極との間で前記陽及び陰イオンを溶解させた電解液を備える二次電池において、前記正極及び前記負極の少なくとも一方の電極活物質は、酸化還元電位の異なるラジカル化合物を２種以上含有していることを特徴とする。この構成により、充放電時の電池電位を多段化することが可能になるため、電池充電状態の検出を容易に行うことが可能である。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率と優れた機械強度を有し、面性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物（塗布液）を提供すること。さらには該膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜及び該絶縁膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表されるモノマー単位を含み、重量平均分子量が１，５００以上である重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物。


式（１）中、ＸはＯ、Ｓ又はＣＨ₂を表し、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基又はトリアリールシリル基を表し、Ｒはさらに置換基を有していてもよく、互いに結合して環構造を形成してもよい。ｎは０〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】低誘電率であり、かつ、機械強度に優れた膜を形成することができる膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物及び／又は式（１）で表される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物。Ｒ¹はそれぞれ独立に水素原子又は−（Ｒ²）_n−Ｒ³を表し、Ｒ¹のうちの少なくとも２つは−（Ｒ²）_n−Ｒ³であり、Ｒ²はそれぞれ独立に式（２）〜（５）で表される基よりなる群から選ばれた基を表し、Ｒ³はそれぞれ独立に水素原子又は式（６）〜（８）で表される基よりなる群から選ばれた基を表し、ｎは１〜４の整数を表し、波線部分は他と結合する部分を表す。ただし、−（Ｒ²）_n−Ｒ³は式（９）又は式（１０）で表される基を除く。
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【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好であり、かつ基板との密着性が良好であり、更に塗布液の安定性に優れる層間絶縁膜形成用組成物を提供することである。
【解決手段】以下の成分を含む層間絶縁膜用組成物により、上記課題が解決される。
（Ａ）少なくとも一般式（１）の化合物を一種含む原料を重合して得られる重合体。


（Ｂ）溶媒。 （もっと読む）