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国際特許分類[C08L5/16]の内容

国際特許分類[C08L5/16]に分類される特許

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【課題】水洗等の水処理でも基材への付着性が低下することなく、所期の緒効果を維持しうる、シクロデキストリンを含むコンポジットの分散液、その製造方法、該分散液からなる各種剤及び該コンポジットを提供する。
【解決手段】一般式(I)


[式中、Rfはパーフルオロアルキル基、パーフルオロオキサアルキル基または一般式


(式中、Afはパーフルオロアルキレン基、Af´はAfと同一または異なるパーフルオロアルキレン基、mは1〜10である)で示される基、Rはアルキル基、アルコキシアルキル基または水素原子、nは2〜100である。]で表わされる含フッ素系化合物とシクロデキストリンを含んでなるナノコンポジット。 (もっと読む)


【課題】少量の水を含み、かつ多量のシクロプロペンを有するシクロプロペン複合体を含有する組成物を提供する。
【解決手段】(a)1種以上のシクロプロペン複合体、および(b)組成物の重量を基準にして0〜10重量%の水を含む組成物であって、当該組成物中のシクロプロペンの、当該組成物中の分子封入剤に対するモル比が0.92:1もしくはそれより高いか、または当該組成物は粉体の形態であり、当該粉体の代表サンプルの二次元画像において、当該サンプルの当該画像における当該シクロプロペン複合体のすべての粒子のすべての画像の領域を基準にして20%以上の、当該シクロプロペン複合体の粒子の画像の領域が、10マイクロメートル以上の幅寸法を有する当該シクロプロペン複合体の粒子の形態である組成物が提供される。シクロプロペン複合体を含む組成物を製造する方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】結晶化速度が速く、低温での成形加工性に優れ、かつ、耐熱性に優れるポリ乳酸樹脂組成物、及び該組成物からなる成形体を提供すること。
【解決手段】シクロデキストリンと、フタロシアニン化合物、フェニルホスホン酸金属塩、芳香環を有するカルボヒドラジド類、芳香族カルボン酸アミド、及び芳香族スルホン酸ジアルキルエステルの金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物、ならびにポリ乳酸樹脂を含有してなる、ポリ乳酸樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 シクロデキストリンポリマー含有複合材に、水溶液中で耐衝撃性に優れ、乾燥と膨潤を繰り返し行っても大きなクラックが生じず、自己崩壊し難い性質を付与すること。
【解決手段】 製造された未乾燥状態のシクロデキストリンポリマー含有複合材1を273Kより低い温度下に曝す(P1)という構成をとることによって、水溶液中での耐衝撃性に優れ、乾燥と膨潤を繰り返し行っても大きなクラックが生じず、自己崩壊し難い性質のシクロデキストリンポリマー含有複合材10を得る。 (もっと読む)


熱可塑性ポリオレフィンポリマー組成物、ポリマーチップ、繊維、織布または不織布、フィルム、クロージャーおよび積層体は、ポリマーと、呼吸している農産物材料における揮発性成熟抑制剤またはオレフィン系エチレン受容体拮抗剤を有するシクロデキストリン化合物とを含む。ポリマー組成物はシクロデキストリン変性ポリマーまたは置換シクロデキストリンを含むこともできる。オレフィン系エチレン抑制剤はシクロデキストリン組成物中に形成することができ、農産物用包装材料において使用されると、シクロデキストリンはオレフィン系抑制剤組成物を放出する。コーティング組成物も製造することができる。抑制剤は材料内に導入され、制御された湿度条件下で放出される。放出されると、オレフィン系抑制剤は、成熟を調節するタンパク質のエチレン受容体部位を遮断し、農産物が熟成を実質的に完了せず腐敗に至る程度まで成熟もしない期間を延長させることができる。 (もっと読む)


【課題】紫外線吸収剤等の機能性化合物をシクロデキストリンに包接させてハードコート層等の製品に適用したときに、ブリードアウトしない改質シクロデキストリン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シクロデキストリンの表面が無機酸化物、無機水酸化物又は4官能性のアルコキシシランの加水分解縮合物から選ばれる1種以上の表面改質剤で被覆され、且つ、平均粒子径が0.001〜50μmである粒子状の改質シクロデキストリンが溶媒に分散してなることを特徴とする改質シクロデキストリン粒子分散液およびその製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】環状分子どうしの架橋や環状分子と他のポリマーとの架橋を行うことなく、高弾性かつ高強度を実現できるポリロタキサン繊維を提供する。
【解決手段】シクロデキストリン系環状分子と、その環状分子に串刺し状に包接されたポリエチレングリコールと、ポリエチレングリコールの両末端に結合した封鎖基と、を有するポリロタキサンを含んでなる繊維であって、前記シクロデキストリン系環状分子が、少なくとも、(110)および(210)で示される面指数を有する結晶構造を備え、繊維伸張方向のタフネス値を8(cN/dtex)1/2以上とする。 (もっと読む)


【課題】 任意の大きさと形状にて提供することが可能な、シクロデキストリンポリマーを含む複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 シクロデキストリン1をアルカリ条件下に加え(P1)、これに非晶質ケイ酸2を添加し(P2)、さらにこれにエピクロロヒドリン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物3を加える(P3)工程において、木片・セルロース化合物またはプラスチックといった複合材料においてシクロデキストリンポリマーの担持される媒体となる材料4を、P3工程の前に、もしくはエポキシ系化合物3と同時に、もしくはP3工程中に加えるという構成をとることによって、エポキシ化合物架橋シクロデキストリンポリマー含有複合材料(複成分系材料)10が得られる。 (もっと読む)


【課題】簡便に製造し得るロタキサン構造を含む高分子架橋体およびその製造方法、ならびにその高分子架橋体の製造方法に使用することのできる高分子架橋前駆体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】2個以上の環状部分を有するポリマー(A)と、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子(B)とを混合し、少なくとも一部に包接錯体を有する高分子架橋前駆体(C)を製造し、次いで、直鎖状分子(B)の重合性官能基を重合し、ロタキサン構造を含む高分子架橋体(D)を得る。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤に可溶な疎水性修飾ポリロタキサンの提供。
【解決手段】疎水性修飾ポリロタキサンは、環状分子7と、この環状分子を串刺し状に包接する直鎖状分子6と、この直鎖状分子の両末端に配置され上記環状分子の脱離を防止する封鎖基8とを有する。環状分子がシクロデキストリンで、当該シクロデキストリンの水酸基の全部又は一部がトリチル基で修飾されている。シクロデキストリンのトリチル基による修飾度は、当該シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を1とすると、0.02以上である。 (もっと読む)


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