【課題】従来のリソグラフィー法より簡便な方法により得られる、可視光吸収性薄膜、及びその形成方法を提供する。
【解決手段】下記の式で表される環状オリゴシランを用い、その環状オリゴシランを含む液を塗布した塗布膜に紫外光を照射し、その後加熱することで、紫外光照射した箇所は可視光を吸収する薄膜に変換して固定化され、紫外光照射していない箇所は薄膜が脱離するので、可視光を吸収する薄膜をパターンニング形成することができる。


（式中、Ｒは、フェニル基を表し、ｎは、４〜１０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ポリシラザンのＳｉＯ転化速度や可とう性、膜厚限界の改善を行いながら、変性に伴うポリシラザンとしての物性低下を最小限にする変性ポリシラザンを提供する。
【解決手段】所定の骨格を有する数平均分子量が３００〜５００００のポリシラザン主鎖の少なくとも一部を、該ポリシラザンと反応する官能基を有する有機化合物により変性させた変性ポリシラザンにおいて、
（Ａ）前記有機化合物を添加して前記ポリシラザンを変性させる際の該有機化合物の添加量が、該ポリシラザン１００質量部に対して０．１〜３０質量部であり、かつ、
（Ｂ）前記変性ポリシラザンの変性率が１０％以下であることを特徴とする変性ポリシラザン。 （もっと読む）

【課題】柔軟で水分遮断性が高く、低温で硬化できて製造が容易であり、透明なガス遮断性薄膜を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の一方の表面上に形成された固定層と、前記固定層の、前記基板とは反対側の表面に形成された無機酸化物層と、を備え、前記固定層が、化学式−（ＳｉＯ）_ｎ−で表される繰り返し単位と、化学式−（ＳｉＲ_１Ｒ_２−ＮＲ_３）_ｍ−で表される繰り返し単位と、化学式−［−Ｓｉ（Ｒ_４）（Ｒ_５）−Ｏ−］ｐ−及び化学式−［−ＯＳｉ（Ｒ_６）−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ_７）Ｏ−］ｑ−（ｎ＋ｍ＋ｒ＝１、０＜ｎ＜１、０＜ｍ＜１、０＜ｒ＜１、ｒ＝ｐ、ｑ、またはｐ＋ｑ）からなる群から選択される一つ以上の繰り返し単位とを含むシリコン含有有機無機複合共重合体を含み、前記シリコン含有有機無機複合共重合体重合度は、２ないし１，０００，０００である、ガス遮断性薄膜。 （もっと読む）

シリコン系コポリマーを含有するコート剤組成物、地金もしくはペイントされた金属の耐食性および／もしくは金属の接着特性を高める均一な化成処理および／もしくは不動態化コーティングの形成をもたらすために鋼鉄、亜鉛コートした鋼鉄もしくはアルミニウムのような金属の表面を処理する方法、ならびにその上に化成処理および／もしくは不動態化コーティングを持つ金属が開示される。 （もっと読む）

【課題】短時間で、植物基材の表面を比較的厚くコーティングすることを可能とする、植物の加工方法を提供すること。
【解決手段】紫外線硬化型ジェルを使用する植物の加工方法であり、粘性の低い第１のジェルを植物基材の表面に塗布して、第１のジェルの比較的薄い塗膜を形成し、紫外線照射して第１のジェルの塗膜を完全に硬化させて、表面が滑らかな第１のコーティング層を形成する。次に、第１のコーティング層を有する植物基材に、粘性の高い第２のジェルを塗布して、第２のジェルの比較的厚い塗膜を形成し、紫外線照射して第２のジェルの塗膜を硬化させて、第２のコーティング層を形成する。 （もっと読む）

【課題】安定したプロセス処理が可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板上に、ポリシラザンを溶剤に溶解してなる塗布液を供給する工程、前記半導体基板を回転させて、前記ポリシラザンを含む塗布膜を形成する工程、前記半導体基板の裏面に、リンス液を供給してバックリンスを施し、裏面を洗浄する工程、前記バックリンス後の前記半導体基板を乾燥して前記リンス液を除去する工程、および、前記半導体基板を熱処理して前記塗布膜から前記溶剤を除去し、シリコン酸化物を含む絶縁膜を得る工程を具備する方法である。前記溶剤および前記リンス液は、少なくとも一部にテルペン類を含み、酸価０．０３６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 金属配線の抵抗値の経時変化が小さく、金属配線の断線の原因となる膜収縮が小さい低誘電率シリカ系被膜を基材上に形成する。
【解決手段】 （ａ）基材上に特定のポリシラザンと、アルコールおよびアルコール以外の有機溶媒とを含んでなり、アルコールの重量（Ｗ_AL）とポリシラザンの固形分としての重量（Ｗ_PS）との重量比（Ｗ_AL）／（Ｗ_PS）が０．０００１〜０．００５の範囲にあるシリカ系被膜形成用塗布液を塗布する工程、および、（ｃ）次いで飽和水蒸気を供給しながら、過熱水蒸気の存在下、塗布膜を１８０〜４５０℃の温度条件下で加熱処理する工程、からなる。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、ポリマーＡと、ポリマーＢと、溶媒Ａおよび大気圧における沸点が溶媒Ａよりも低い溶媒Ｂと、を含み、かつ、以下の式（ｉ）および（ｉｉ）を満たす。
前記ポリマーＡの溶媒Ａへの溶解度＞前記ポリマーＡの前記溶媒Ｂへの溶解度
・・・（ｉ）
前記ポリマーＢの溶媒Ａへの溶解度＜前記ポリマーＢの前記溶媒Ｂへの溶解度
・・・（ｉｉ） （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた耐熱性を有し、高屈折率を示す硬化膜を形成しうる有機系の膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】硬化後に４００℃以上の熱分解温度を有する有機化合物と、アルミニウム化合物粒子、スズ化合物粒子、チタン化合物粒子およびジルコニウム化合物粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属化合物粒子とを含む膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽能が高く、特にＵＶ−Ａをほぼ完全に遮蔽でき、機械的耐久性、薬品耐性及び耐光性に優れる紫外線遮蔽層付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス基板とガラス基板の少なくとも片面に設けられた紫外線遮蔽層とを有し、紫外線遮蔽層が紫外線遮蔽性有機化合物と有機ポリマーとを含む有機成分が包含された酸化ケイ素系マトリックスから構成され、紫外線遮蔽性有機化合物の含有量が［紫外線遮蔽性有機化合物］／［マトリックス］の質量比で１／１００以上、有機成分の含有量が［有機成分］／［マトリックス］の質量比で５０／１００以下、紫外線遮蔽層付きガラス板の波長４００ｎｍの光の透過率が３％以下、紫外線遮蔽層に対するＪＩＳ−Ｒ３２１２（１９９８年）によるＣＳ−１０Ｆ摩耗ホイールで１０００回転の摩耗試験前後の曇価（％で表された数値）の差が５以下である紫外線遮蔽層付きガラス板。 （もっと読む）