説明

国際特許分類[C09D183/16]の内容

国際特許分類[C09D183/16]に分類される特許

81 - 90 / 95


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 (A)ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有するポリカルボシラン化合物と、(B)有機溶媒とを含む表面疎水化用組成物。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 (A)ポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物。(A)下記一般式(1)で表わされる化合物の群から選ばれた少なくとも1種のポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物、および該組成物を用いた表面疎水化方法、半導体装置。


[式中、R1,R2は水素原子、アルキル基、ビニル基、アリル基またはフェニル基を示す(ただし、R1,R2のうち水素原子は1個または0個である)。] (もっと読む)


【課題】従来困難であったフッ素樹脂コーティング皮膜を、常温又は低温で、金属、プラスチック、石材などのあらゆる基材に高密着に施工すること。
【解決手段】公知のクラリアントジャパン株式会社製機能コーティング剤、商品名アクアミカ「パーヒドロポリシラザンからなるシリカコーティング剤(アクアミカのグレードはNL(パラジウム触媒)、NP、SP、UP、エアゾール缶(アミン触媒)の常温硬化タイプ)」をプライマーとして施工し、その表面に常温硬化タイプのフッ素樹脂皮膜(例えば、株式会社フロロテクノロジー社製FG5010など)を積層してなる、フッ素樹脂皮膜の密着処理方法。 (もっと読む)


本発明は、導電性ポリマーを含む防食組成物で金属表面を被覆する方法であって、その組成物が、概ねまたは完全に粒状の少なくとも一つの導電性ポリマーとバインダー系を含む分散体であること、およびその導電性ポリマーが、防食可動性アニオンが荷電した、ポリフェニレン、ポリフラン、ポリイミダゾール、ポリフェナンスレン、ポリピロール、ポリチオフェンおよび/またはポリチオフェニレンに基づく少なくとも一つのポリマーであることを特徴とする方法に関する。選択的に、金属表面を、まず第一に、粒状の導電性ポリマーを基礎とする分散体で被覆し、次に、バインダー系を含む組成物で被覆してよい。 (もっと読む)


【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【解決手段】本発明では、延性基材と、該延性基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは有機基、Xはアルコキシ基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも1種、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)可塑性ポリマー粒子を含有してなることを特徴とする複合材であって、前記被覆部表面には、前記可塑性ポリマー粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていることを特徴とする複合材を提供する。 (もっと読む)


【課題】 シリコンウェハー、ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ或いはレンズなどの基体上に、透明であって、しかも、低反射率で且つ低誘電率であるとともに、械的強度や基板に対する密着性に優れた薄膜を形成するための膜形成用組成物及び膜の形成方法に関する。
【解決手段】 粒子表面に存在するシラノール基が、疎水性基を有する表面改質剤で処理されたシリカ粒子と、ポリシラン化合物とを含有することを特徴とする膜形成用組成物とする。また、この膜形成用組成物を、基体上に塗布した後に、熱処理及び/又は光処理することを特徴とする膜形成方法とする。 (もっと読む)


【課題】半導体配線形成に用いられる被膜を形成するに好適な被膜形成用組成物と、該組成物を用いて得た被膜を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)
【化1】


(ここで、R1、R2は、それぞれ独立して水素または炭素数1〜20のアルキル基であり、mは0〜20の整数である。)
で表される繰り返し単位を有するカルボシラン系ポリマー(A)と、溶剤(B)とを少なくとも用いて被膜形成用組成物を構成する。また、この被膜形成用組成物から形成された塗膜を硬化して被膜を得る。 (もっと読む)


a)所望により、耐引掻き性ペルヒドロポリシラザンベースコート、およびb)少なくとも一種の式(1)の、nが、ポリシラザンの数平均分子量が150〜150000g/モルになるような整数である、ペルヒドロポリシラザンおよび光触媒性二酸化チタン(I)を含む上側の保護被覆からなる、金属表面用被覆。好ましくは、保護層の厚さは、少なくとも1マイクロメートル、より好ましくは2〜20マイクロメートルである。本発明は、該被覆の製造方法、およびその、特に自動車リム用の、自己浄化性保護層としての使用にも関する。
(もっと読む)


金属および重合体表面用のペルヒドロポリシラザン含有塗料
本発明は、表面用の、特に金属および重合体表面用の、少なくとも一種の式(1)


(式中、nは、ポリシラザンの数平均分子量が150〜150000g/モルになるような整数である)
のペルヒドロポリシラザン、溶剤および触媒、所望により一種以上の共結合剤を含んでなる、表面用塗料に関する。硬化した塗料の厚さは少なくとも1マイクロメートル、好ましくは2〜20マイクロメートルである。少なくとも一種のペルヒドロポリシラザンを含む本発明の塗料は、リム、特にアルミニウムリム、を保護するのに適当である。
(もっと読む)


例えば半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜を提供する。
本発明のポリマーの製造方法は、(A)ポリカルボシランの存在下、(B)加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記(A)ポリカルボシランが、以下のポリマー(I)である。
(I)(a)下記一般式(1)で表される化合物と、(b)下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種とを、有機溶媒中でアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下にて反応させて得られるポリマー(I):
CX4−k ・・・・・(1)
SiY4−k ・・・・・(2)
3−mSiCR3−n ・・・・・(3)
(式中、R〜Rは同一または異なり、それぞれ1価の有機基または水素原子を示し、Xはハロゲン原子を示し、Yはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、kは0〜3の整数を示し、mおよびnは同一または異なり、0〜2の整数を示す。) (もっと読む)


81 - 90 / 95