【目的】 記録膜への水分の侵入を防ぎ、高温高湿下でも良好な耐蝕性を有する光磁気ディスクを提供する。さらには、ヘッドに対する動摩擦係数を低減し、摺動記録方式用として好適な光磁気ディスクを提供する。
【構成】 希土類−遷移金属等からなる記録磁性膜上に紫外線効果樹脂形成し、さらにその上に非加水分解性の撥水性物質の被膜を形成する。非加水分解性の撥水性物質の被膜としては、ポリシロキサン系やパーフルオロポリエーテル系の撥水剤の塗膜や、テトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂のスパッタ膜、プラズマ重合膜である。また、非加水分解性の撥水性物質の被膜の膜厚は、２〜２００ｎｍとする。 （もっと読む）

【構成】 有機チタン化合物にケイ素、亜鉛、アルミニウム、セリウム、コバルト、ニオブ及びジルコニウムの少なくとも一種よりなる金属化合物を混合し、ナトリウム化合物の存在下５００℃〜７５０℃で焼成する。
【効果】 フォトクロミック特性に優れた酸化チタン系化合物が得られる。 （もっと読む）

【構成】 有機チタン化合物に鉄、クロム、銅、ニッケル、バナジウム及びマンガンの少なくとも一種よりなる金属化合物を混合し、ナトリウム化合物の存在下５００℃〜７５０℃で焼成する。
【効果】 フォトクロミック特性に優れた酸化チタン系化合物が得られる。 （もっと読む）

無機又は有機基体上の強力接着性被覆の製造方法であって、ａ）無機又は有機基体上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を行い、ｂ）無機又は有機基体上に、１つ以上の光開始剤、又は光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含むモノマー若しくは／及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液又は乳濁液を適用し、そして場合により、ｃ）適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波で照射する方法において、式（Ｉ）、（II）、（III）及び／又は（IV）：ＩＮ−Ｌ−ＲＧ （Ｉ）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−Ｈ （II）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−ＩＮ₁ （III）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−ＲＧ₂−Ｌ₂−ＩＮ₁ （IV）［式中、ＩＮ及びＩＮ₁は、それぞれ他と独立に、モノアシルホスフィン、モノアシルホスフィンオキシド又はモノアシルホスフィンスルフィド光開始剤基であり；Ｌ、Ｌ₁及びＬ₂は、単結合又はスペーサー基であり；ＲＧは、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する１価ラジカルであり；そしてＲＧ₁及びＲＧ₂は、それぞれ他と独立に、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する２価ラジカルである］で示される化合物を使用するのが有利であると判明した。 （もっと読む）