【課題】アスファルト合材に対する付着防止効果および剥離効果が高く、水で希釈後も常温ないし低温下で安定なアスファルト合材付着防止剤の提供。
【解決手段】式（１）の化合物（Ａ）３２〜９４質量％、式（２）の化合物（Ｂ）５〜６０質量％、４０℃の動粘度が１〜４０ｍｍ²／ｓであり、−１０℃で液状の流動パラフィン（Ｃ）１〜８質量％を含有するアスファルト合材付着防止剤。
Ｒ^１Ｏ−［（ＥＯ）_ｍ（ＡＯ）_ｎ］−Ｒ^２ ・・・（１）
（式中Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれメチル基など、ｍは１〜５、ｎは１〜５である。ＡＯ／（ＥＯ＋ＡＯ）が２０〜７５質量％である。ＥＯとＡＯはブロック状で付加していてもランダム状で付加していてもよい。）
Ｒ^３Ｏ−［（ＥＯ）_ｋ（ＰＯ）_ｌ］−Ｒ^４ ・・・（２）
（式中Ｒ^３はイソデシル基など、Ｒ^４は水素原子などである。ｋは２〜３０、ｌは０〜２０である。ＰＯ／（ＥＯ＋ＰＯ）が０〜５０質量％である。ＥＯとＰＯはブロック状で付加している。） （もっと読む）

【課題】近赤外線吸収能に優れ、且つ樹脂本来の物性が損なわれていない近赤外線吸収性合成樹脂組成物を提供する。また、近赤外線吸収能に優れ、樹脂本来の優れた物性を有する近赤外線吸収材を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物及び合成樹脂を含有する近赤外線吸収性合成樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】赤外線吸収粒子層の形成性等に優れ、かつ製造コストを低減することが可能な赤外線吸収粒子を提供する。
【解決手段】本発明の赤外線吸収粒子は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１種のＡサイト元素と、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆからなる群より選ばれる少なくとも１種のＢサイト元素とを含有し、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｖ、ＮｂおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素Ｄがドープされたペロブスカイト型酸化物微粒子からなる。ペロブスカイト型酸化物微粒子は波長１．０μｍにおける赤外線の拡散反射率が５０％以下で、波長２．０μｍにおける赤外線の拡散反射率が２５％以下である。 （もっと読む）

【課題】環境問題がなく、常温またはそれ以下の温度でゲル化や増粘がなく、溶液安定性、塗工性、ハンドリング性に優れた工業的に有用なアルキル尿素系またはアルキルカーバメート系すなわち非シリコーン系の剥離処理剤を提供する。
【解決手段】ポリエチレンイミンまたはビニルアルコール系重合体とモノイソシアネートとをイソシアネート基／活性水素の当量比０．６〜０．９５／１．０で反応させ、さらにこれにジイソシアネートをイソシアネート基／残存活性水素の当量比２．０／１．０で反応させ、またさらにこれにジアルキルアミンを残存イソシアネート基／活性水素の当量比１．０／１．０で反応させて得られる化合物からなる、剥離処理剤である。 （もっと読む）

【課題】アルキル／アラルキル変性シリコーンオイルを高濃度に含有し、長期保存下においても安定である水中油型乳化組成物を提供する。
【解決手段】水中油型乳化組成物は、成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含有する。成分（ｂ）に対する成分（ａ）の質量比（ａ）／（ｂ）が０．０２〜０．５０であり、成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の合計質量に対する成分（ｂ）の質量比（ｂ）／｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝が０．３０〜０．５０である。成分（ａ）：Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）_ｍ−（ＥＯ）_ｎ−Ｈ ・・・・・・（１）（式（１）において、Ｒは炭素数１〜４の炭化水素基である。ＡＯは炭素数３〜４のオキシアルキレン基である。ＥＯはオキシエチレン基である。ｍは、炭素数３〜４の前記オキシアルキレン基の平均付加モル数であり、７〜１３である。ｎは、前記オキシエチレン基の平均付加モル数であり、６〜４０であり、ｍ／（ｍ＋ｎ）＝０．２０〜０．５５である。オキシアルキレン基からなるポリオキシアルキレン部位（ＡＯ）_ｍに占める炭素数４のオキシアルキレン基の割合が８０〜１００質量％である)。成分（ｂ）：２５℃における動粘度５００〜２０００ｍｍ^２／ｓのアルキル／アラルキル変性シリコーンオイル。成分（ｃ）：水。 （もっと読む）

【課題】近赤外線の波長領域に最大吸収波長を有しながら、しかも可視光領域の吸収が小さい、近赤外線吸収剤、及び該近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収性合成樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】近赤外線吸収剤として、特定のインディゴ骨格を有する金属錯体、金属は好ましくはパラジウムである化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＬＷＲに優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ１］放射線の照射により下記式（１）で表される化合物を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の１価の有機基である。Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。上記式（１）で表される化合物は、下記式（１−１）で表される化合物であることが好ましい。式（１−１）中、Ｒ^２は、上記式（１）と同義である。Ｘは、電子求引性基である。Ｒ^３は、炭素数１〜２０の１価の有機基である。

（もっと読む）

【課題】優れた防曇性及び耐水性を発揮することができ、かつ、表面強度の高い塗膜を形成することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、平均重合度が１０００〜３５００、アセタール化度が２１〜４０モル％及び水酸基量が４５〜６４モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができる、特定の塩を酸発生剤として含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^２及びＬ^３は、それぞれ独立に、単結合、２価の炭素数１〜６の飽和炭化水素基等を表す。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、互いに独立に、炭素数３〜３６の炭化水素環を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
（もっと読む）