国際特許分類[C09K3/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用 (147,412) | 他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用 (32,573) | 物質であって,他に分類されないもの (8,286)
国際特許分類[C09K3/00]の下位に属する分類
ジョイントまたはカバーを,シールまたはパッキングするためのもの (1,972)
漏れを止めるためのもの,例えば,ラジエーターまたはタンクにおいて (22)
抗スリップ物質;研摩物質 (1,758)
帯電防止物質 (468)
氷,霧,水の付着を減少させるために表面に適用するもの;表面に適用する解氷用あるいは氷点降下用物質 (691)
非化学的用途における,グリセロールの代用物としてのもの,例.トイレットクリームまたは軟膏の基材としてのもの
塵埃落着用または塵埃吸収用のもの (67)
擬氷または擬雪用のもの
エアロゾル用のもの (124)
液体汚染物,例.油,ガソリンまたは脂肪を処理するためのもの (45)
国際特許分類[C09K3/00]に分類される特許
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ダニアレルゲン除去剤および該除去剤を含有した噴霧剤
【課題】高いダニアレルゲン不活作用を有し、かつその作用が持続し(掃除、洗濯で作用が低下しない)、人体に害の少ないダニアレルゲン除去剤およびその噴霧剤を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化亜鉛と酸化アルミニウムの複合金属酸化物をダニアレルゲン不活剤として含むダニアレルゲン除去剤とその分散液を含有する噴霧剤による。該複合金属酸化物は、式(ZnO)1-x(Al2O3)x (式中、xは0.005≦x<0.2である)で表され、固溶体である。
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感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物
【課題】本発明の目的は、LWRに優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A1]放射線の照射により下記式(1)で表される化合物を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、R1は、炭素数1〜20の1価の有機基である。R2は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。上記式(1)で表される化合物は、下記式(1−1)で表される化合物であることが好ましい。式(1−1)中、R2は、上記式(1)と同義である。Xは、電子求引性基である。R3は、炭素数1〜20の1価の有機基である。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤
【課題】レジスト組成物に有用な酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R101〜R104はそれぞれ独立にアルキル基またはアルコキシ基であり、n1は1〜5の整数であり、n3およびn4はそれぞれ独立に0〜3の整数である。X−はアニオンである。
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アスファルト合材付着防止剤
【課題】アスファルト合材の付着防止効果および剥離効果が高く、噴霧時にノズルに詰まり難いアスファルト合材付着防止剤の提供。
【解決手段】式(1)で示される化合物からなるアスファルト合材付着防止剤。
R1O−[(EO)m(AO)n]−R2 ・・・(1)
(式中R1、R2はそれぞれ独立して炭素数1〜4の炭化水素基、EOはオキシエチレン基、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、mはオキシエチレン基の平均付加モル数、nは炭素数3〜4のオキシアルキレン基の平均付加モル数であり、mは1〜5、nは1〜5、m+nは2〜10である。EOとAOの各含有量の合計に対するAO含有量の割合は20〜75質量%である。EOとAOはブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。)
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターンのラインエッジラフネスに優れた酸発生剤を含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式中、Q1〜Q4はフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基等を表す。Wは式(W−I)
(式中、nは0〜5の整数を表す。R1は炭素数1〜12の炭化水素基等を表す。mは0〜4の整数を表す。2つの*はL1及びL2との結合手である。)で表される基を表す。Za+及びZb+は有機対イオンを表す。]
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光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト
【課題】ポジ型、ネガ型のいずれのフォトレジスト組成物においても使用することができる新規な光感応性酸発生剤化合物、およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα,α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。
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光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I):[A−(CHR1)p]k−(L)−(CH2)m−(C(R2)2)n−SO3−Z+(I)(式中、Aは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、R1はH、単結合または置換されているかもしくは非置換のC1−30アルキル基であり、R2はH、F、もしくはC1−4フルオロアルキルであり、Lはスルホナート基、スルホンアミド基またはC1−30スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Zは有機もしくは無機カチオンであり、pは0〜10の整数であり、kは1もしくは2であり、mは0以上の整数であり、並びにnは1以上の整数である)を有する光酸発生剤化合物。
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溶接スパッタ付着防止剤およびこれを利用したスパッタ付着防止方法
【課題】天然物たるシラス等を有効活用でき、安価で環境への有害性が無く、乾燥工程が不要であり、塗布直後に溶接しても溶接欠陥が生じることなく、スパッタの母材への付着を有効に防止することが可能な溶接スパッタ付着防止剤およびこれを利用したスパッタ付着防止方法の提供。
【解決手段】ガラス質火山砕屑物の微粒子と、水とを混合してなる溶接スパッタ付着防止剤であり、溶接対象部材の溶接に際し、予め溶接部およびその近傍に、ガラス質火山砕屑物の微粒子と、水とを混合してなる溶接スパッタ付着防止剤を刷毛で塗布するか、またはスプレーで吹き付けた後、溶接を実行する。
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剥離剤、離型材および粘着テープ
【課題】有機錫化合物を用いずに、基材への密着性に優れ、且つ良好な外観の剥離剤層を形成することができる剥離剤を提供すること。
【解決手段】ポリオレフィン、イソシアネート、ポリオレフィンポリオールおよび金属錯体触媒を含有する剥離剤であり、金属錯体触媒が、非有機錫化合物である剥離剤。
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接着剥離シート
【課題】充分な接着力を有しつつ使用後には被着体から容易に剥離し、剥離後に再接着しにくい接着剥離シートを提供する。
【解決手段】熱膨張性マイクロカプセルを含有する接着層を有する接着剥離シートであって、前記熱膨張性マイクロカプセルは、重合体からなるシェルに、コア剤として揮発性膨張剤が内包されており、前記シェルは、ニトリル系モノマー及びカルボキシル基を有するモノマーを含有するモノマー組成物を重合させてなる重合体と、熱硬化性樹脂とを含有し、前記熱硬化性樹脂は、カルボキシル基と反応する官能基を1分子中に2個以上有し、かつ、ラジカル重合性の二重結合を有しない接着剥離シート。
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