【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を十分に満足するレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される新規な塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。（式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、脂肪族飽和炭化水素基等を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｌ^２は、脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子−ＮＲ^２−等に置き換わっていてもよい。Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基を表す。環Ｗは、脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該脂肪族環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。Ｒ^１は、フッ素置換芳香環を含む１価の有機基であり、該有機基は置換基を有していてもよい。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。）
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【課題】非水系防食塗料に添加するための粉末状垂れ防止剤であって、比較的低温での分散であっても優れた垂れ防止効果を発揮し、塗料の貯蔵安定性を害することがなく、また、有害な有機溶剤が含まれていない非水系防食塗料用粉末状垂れ防止剤並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の非水系防食塗料用粉末状垂れ防止剤は、水素添加ヒマシ油脂肪酸と水素添加ヒマシ油脂肪酸以外の炭素数が２〜２２である脂肪族モノカルボン酸の１種以上との混合物（水素添加ヒマシ油脂肪酸と脂肪族モノカルボン酸の混合割合は、モル比で１０：０〜２：８の範囲である）とジアミンとの縮合反応により得られるジアマイド化合物（Ａ）と、炭素数が２〜２２である脂肪族モノカルボン酸の１種以上とジアミンとの縮合反応により得られる（Ａ）以外のジアマイド化合物（Ｂ）と、カルボキシル基含有ポリオレフィンワックス（Ｃ）を含み、上記ジアマイド化合物（Ａ）、ジアマイド化合物（Ｂ）およびカルボキシル基含有ポリオレフィンワックス（Ｃ）の合計重量を基準にして、ジアマイド化合物（Ａ）を４０〜９０重量％、ジアマイド化合物（Ｂ）を０〜５０重量％、およびカルボキシル基含有ポリオレフィンワックス（Ｃ）を１０〜６０重量％含有する。本発明の非水系防食塗料用粉末状垂れ防止剤は、（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を加熱して融解させ、均一に混合した後に冷却し、冷却物を微粉砕することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】冷却装置を含む様々な用途でのテトラフルオロプロペン、特に（ＨＦＯ−１２３４）の様々な使用を開示する。これらの材料は、一般に、加熱および冷却用冷媒として、発泡剤として、エアゾール噴射剤として、溶媒組成物として、そして消火剤および火炎抑制剤として有用である。
【解決手段】（ａ）式Ｉ：ＸＣＦｚＲ３−ｚ（Ｉ）（式中、Ｘは、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４またはＣ５不飽和の、置換もしくは非置換基であり、各Ｒは、独立して、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、ＩまたはＨであり、そしてｚは１〜３であるが、ただし、化合物中にＢｒが存在する場合、化合物は水素を含まないことを条件とし、そしてさらに化合物が少なくとも４個のハロゲン置換基を有することを条件とする）の少なくとも１種のフルオロアルケンと、（ｂ）潤滑剤、安定剤、金属不動態化剤、腐食抑制剤、燃焼抑制剤などの群から選択される少なくとも１種の追加成分とを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】製剤の形態や用途に関係なく安定に配合でき、保存安定性が良好で、実使用系で、ラズベリーケトンを長期に亘り安定に徐放できる香料放出剤の提供。
【解決手段】下式（１）で表されるケイ酸エステル化合物を含む香料放出剤。
式（１）：Ｓｉ（ＯＲ¹）（ＯＲ²）（ＯＲ³）（ＯＲ⁴）
〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は独立に、水素原子、又は炭素数１〜３０のアルキル基若しくはアリール基等であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴のうち１つは、４−（３−オキソブチル）フェノールからフェノール性水酸基を除いた残基であり、他の２つ又は３つは、２級若しくは３級アルコールから水酸基を除いた残基である。〕 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
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【課題】光分解性劣化からボディケア製品及び家庭用製品を保護するための光安定化剤の提供。
【解決手段】式（５４）に代表されるベンゾトリアゾール光安定剤の使用により上記課題が達成される。
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【課題】重金属による汚染土壌を効率的に不溶化処理し得る有効適切な工法を提供する。
【解決手段】重金属により汚染された汚染土壌１を原位置にて不溶化処理するための工法であって、液体状の不溶化液に顆粒状のポリマー系充填材を添加してなるゲル状の処理材２を地中の処理対象領域に対して加圧注入することにより、該処理材を処理対象領域に滞留せしめた状態で該処理材中の不溶化液を汚染土壌１に接触せしめて汚染物質を不溶化する。ボーリング削孔機や機械攪拌翼式地盤改良機等の削孔手段３によって処理対象領域の深度に達する削孔を形成し、前記削孔手段の先端部に設けたノズル４から前記処理材を地中に噴射することにより、該処理材を処理対象領域に向けて加圧注入することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い減衰性能を有する上、これまでよりも剛性が低い高減衰部材を形成できるため、例えば粘弾性ダンパ等を小型化することなしにその弾性率を小さくすることができる高減衰組成物を提供する。
【解決手段】ベースポリマとしてのジエン系ゴムに、シリカＩ、および表面処理炭酸カルシウムIIを、前記ジエン系ゴム１００質量部あたりＩ＋IIが１００〜１６０質量部で、かつ


が１０〜５０質量％となるように配合した。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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